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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]沟槽中薄膜沉积的方法-CN202080027992.0有效
发明人：郭津睿;卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;徐永安;杨政翰;陈建安 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-02-19 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： C23C16/04 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式总体涉及在沉积、蚀刻和/或固化工艺期间利用掩模来处理含有基板的工件，以在工件上具有局部的沉积。将掩模放置在工件的第一层上，所述掩模保护复数个沟槽免受第二层的沉积的影响。在一些实施方式中，在第二层的沉积之前放置掩模。在其他实施方式中，在沉积掩模之前使第二层固化。在其他实施方式中，在沉积掩模之后蚀刻第二层。本文中所公开的方法允许在工件中所存在的沟槽中的一些中沉积第二层，而同时至少部分地防止在工件中所存在的其他沟槽中沉积第二层。
沟槽薄膜沉积方法

[发明专利]使用电子束装置的光学设备制造方法-CN201980083890.8有效
发明人： 卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卡提克·雷马斯瓦米;杨扬;曼尼瓦南·托塔德里;陈建安 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-17 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G02B6/13 文献下载
摘要：本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
使用电子束装置光学设备制造方法

[发明专利]用于光学装置的光学分辨率测量方法-CN202180081206.X在审
发明人：傅晋欣;孙阳阳;卢多维克·戈代 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： G01M11/04 文献下载
摘要：本文中的实施方式提供一种确定光学装置调制传递函数(MTF)的方法。本文中所述方法包括从光引擎将图案的基线影像投射至检测器。该基线影像被分析以确定基线函数。该基线函数的基线快速傅里叶变换(FFT)或基线MTF被取得。该方法进一步包括从该光引擎将该图案的影像投射至一或更多光学装置。该图案从该一或更多光学装置出耦合至该检测器。该影像被分析以确定函数。对应于该影像取得函数FFT或函数MTF。通过将该基线FFT与通过分析该影像所确定的该函数FFT做比较、或是通过将该基线MTF与通过分析该影像所确定的该函数MTF做比较，来确定该一或更多光学装置的光学装置MTF。
用于光学装置分辨率测量方法

[发明专利]用于形成光栅的方法-CN201980081016.0有效
发明人：约瑟夫·C·奥尔森;卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;摩根·埃文斯;傅晋欣 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-12-16 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G02B27/42 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式大致涉及形成光栅的方法。该方法包括在设置于基板上的光栅材料上沉积抗蚀材料，将该抗蚀材料图案化为抗蚀层，投射第一离子束至第一元件区域以形成第一组多个光栅，及投射第二离子束至第二元件区域以形成第二组多个光栅。利用图案化抗蚀层允许在大区域上投射离子束，此举往往比将离子束聚焦在特定区域中更容易。
用于形成光栅方法

[发明专利]用以形成具倾斜角的结构的平版印刷术方法-CN202180086387.5在审
发明人：徐永安;傅晋欣;杨政翰;卢多维克·戈代 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本公开内容总体涉及形成光学装置的方法，所述光学装置包含设置在透明基板上的纳米结构。一种形成纳米结构的第一工艺包含在玻璃基板上沉积第一材料的第一层；在所述第一层中形成一或多个沟槽；和在一或多个孔至沟槽中沉积第二材料的第二层，交替的第一材料的第一部分和第二材料的第二部分的第一交替层。将第一工艺重复一或多次，以在第一交替层之上形成额外的交替层。每个交替层的每个第一部分设置成与相邻交替层中的相邻第一部分接触并且从所述相邻第一部分偏移一段距离。第二工艺包含从每个交替层移除第一部分或第二部分以形成多个纳米结构。
用以形成倾斜角结构平版印刷术方法

[发明专利]具有钝化纳米颗粒和材料分压印组成物及其制造工艺-CN202180082465.4在审
发明人：阿弥陀•乔希;安德鲁•塞巴洛斯;大野贤一;拉米•胡拉尼;卢多维克·戈代 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-11-16 - 公布日： 2023-08-08 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式一般涉及压印组成物和材料和用于纳米压印平版印刷术(NIL)的相关处理。在一个或多个实施方式中，提供了一种压印组成物，并且该压印组成物包含多个钝化纳米颗粒、一种或多种溶剂、表面配位体、添加剂和丙烯酸酯。每一个钝化纳米颗粒含有核心和一个或多个壳层，其中该核心包含一种或多种金属氧化物并且该壳层包含一种或多种钝化材料。该壳层的钝化材料包含一种或多种原子层沉积(ALD)材料、一种或多种嵌段共聚物，或一种或多种含硅化合物。
具有钝化纳米颗粒材料压印组成及其制造工艺

[发明专利]用于光学装置的边缘黑化-CN202180081936.X在审
发明人：王康康;亚西尔·阿拉法特·艾哈迈德;高艺阁;本杰明·里奥尔顿;拉米·胡拉尼;詹姆斯·D·斯特拉斯纳;卢多维克·戈代;阮廷 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： B05C5/02 文献下载
摘要：提供一种光学装置涂布组件。该光学装置涂布组件包括基板支撑件，其可操作以保持光学装置基板。该涂布组件进一步包括连接至基板支撑件的第一致动器。第一致动器被配置为使基板支撑件旋转。该涂布组件包括固持器，其被配置为在光学装置基板在基板支撑件上旋转时将涂层涂覆器固持为抵靠光学装置基板的边缘；及第二致动器，其可操作以在朝向基板支撑件的方向上在该固持器上施加力。第二致动器为恒力致动器。
用于光学装置边缘

[发明专利]通过喷墨印刷沉积制造具有可变折射率轮廓的衍射光学元件-CN202180065290.6在审
发明人：罗康;邓晓培;张代化;卢多维克·戈代 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-09-23 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本公开内容的多个实施方式一般涉及光学装置。更具体而言，本文所述的多个实施方式涉及光学装置和制造光学装置的方法，光学装置具有有跨基板的表面的改变的深度或折射率中的至少一者的光学装置结构。根据某些实施方式，喷墨处理用于沉积体积可变光学装置，此光学装置经蚀刻以形成衍射光学元件(DOE)。体积可变可与光学装置的厚度或以组合方式沉积的两种或更多种衍射材料的相对体积有关。根据其他多个实施方式，在基板上沉积单一轮廓DOE并且喷墨处理在DOE之上沉积体积可变有机材料。将DOE和有机材料蚀刻以修改结构的轮廓，然后移除有机材料，从而留下经修改轮廓DOE。
通过喷墨印刷沉积制造具有可变折射率轮廓衍射光学元件

[发明专利]使用可流动CVD对用于光学部件的微米/纳米结构所进行的间隙填充-CN201980043803.6有效
发明人：傅晋欣;卢多维克·戈代;韦恩·麦克米兰 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-05-17 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G02B5/08 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式一般涉及一种用于形成光学部件的方法，该光学部件例如用于虚拟现实或扩增实境显示设备。一个实施方式中，该方法包括，在基板上形成具有图案的第一层，且该第一层具有第一折射率。该方法进一步包括，通过可流动化学气相沉积(FCVD)工艺在该第一层上形成第二层，且该第二层具有小于该第一折射率的第二折射率。
使用流动 cvd 用于光学部件微米纳米结构进行间隙填充

[发明专利]用于制造光学器件结构的方法-CN202180063159.6在审
发明人：列文特·科拉克;卢多维克·戈代;安德烈·P·拉邦特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本文所述的实施方式提供了形成光学器件结构的方法。该方法利用基板的旋转来在该基板上形成光学器件结构，并且利用设置在基板上方的图案化抗蚀剂及器件层或基板中的一者的蚀刻速率的可调谐性来形成光学器件结构，而无需多个光刻图案化步骤及成角度蚀刻步骤。
用于制造光学器件结构方法

[发明专利]产生渐缩倾斜鳍片的受控硬掩模成形-CN201980064955.4有效
发明人： 卢多维克·戈代;罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-10-24 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G02B30/00 文献下载
摘要：本文描述的实施方式涉及形成光学装置结构的方法。方法的一个实施方式包括以下步骤：相对于基板的表面的表面法线以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的初始深度。图案化掩模设置在基板上方，并且包括两个或更多个凸起，两个或更多个凸起限定基板或设置在基板上的装置层的暴露部分。每个凸起具有在与装置层接触的底表面处的后尾边缘，在每个凸起的顶表面处的前导边缘和从顶表面到装置层的高度。重复以离子角度将基板暴露于离子，以形成复数个深度的至少一个后续深度。
产生倾斜受控硬掩模成形

[发明专利]用于光刻胶层中场引导酸轮廓控制的设备-CN201780080204.2有效
发明人： 卢多维克·戈代;克里斯汀·Y·欧阳;维加斯拉夫·巴巴扬 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本文描述的实施方式涉及用于处理基板的设备和方法。更特定地，提供了一种具有可移动电极的处理腔室，可移动电极用于在填充有流体的处理容积内产生平行场。在一个实施方式中，处理腔室的长轴线垂直地定向，且基板支撑件与沿着处理腔室的长轴线延伸的多个可移动电极相对设置。在某些实施方式中，基板支撑件是电浮动的且能够在处理基板期间围绕处理腔室的短轴线旋转。
用于光刻中场引导轮廓控制设备

[发明专利]使用灰调光刻和倾斜蚀刻的深度调节倾斜光栅-CN202310137557.9在审
发明人：罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森;卢多维克·戈代 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： G02B6/124 文献下载
摘要：披露一种具有光栅结构的设备和用于形成所述设备的方法。所述光栅结构包括：使用灰阶抗蚀剂和光刻在光栅层中形成楔形结构。多个通道形成于所述光栅层中，以在所述光栅层中界定倾斜光栅结构。所述楔形结构和所述倾斜光栅结构是通过使用选择性蚀刻工艺形成的。
使用调光倾斜蚀刻深度调节光栅

[发明专利]用于沉积深度变化的折射率膜的方法-CN202180059409.9在审
发明人：安德鲁·塞巴洛斯;卢多维克·戈代;卡尔·J·阿姆斯特朗;拉米·胡拉尼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-07-08 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本公开内容的实施方式涉及光学装置膜和形成光学装置膜的方法。具体地，本文所描述的实施方式提供了一种具有恒定氧浓度、第一材料的第一浓度分布和第二材料的第二浓度分布的光学装置膜。本文所描述和提及的第一材料的第一折射率为约2.0或更大，并且第二材料的第二折射率为小于2.0。
用于沉积深度变化折射率方法

[发明专利]为衍射光学制造2D楔形和局部封装的方法-CN202180051647.5在审
发明人：郭津睿;卢多维克·戈代;张代华;罗康;拉米·胡拉尼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-15 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种从材料表面向内形成三维特征的方法包括：提供包括出口的液滴分配器，该液滴分配器被构造为分配其中具有反应物的液体材料的离散液滴，该反应物能够与液滴所接触的材料层的部分反应并且由此移除该部分；提供被构造为在其上支撑材料的支撑件，支撑件及液滴分配器相对于彼此是可移动，使得液滴分配器的出口可定位在材料表面的不同离散区域上方；以及将材料表面定位于液滴分配器下方，并且将液滴分配到材料表面的期望区域中的离散部分，以移除期望区域中的材料的至少一部分并且由此从材料表面向内形成三维凹陷。
衍射光学制造楔形局部封装方法

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