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- [发明专利]曝光机-CN202311084969.7在审
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项宗齐;汪涛;刘国藩
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-08-25
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2023-10-27
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G03F7/20
- 本发明公开了一种曝光机，包括：曝光装置，所述曝光装置包括：两个曝光组件，两个所述曝光组件沿第一方向相对设置，两个所述曝光组件对料带同步进行双面曝光；传输装置，所述传输装置包括：至少两个第一滚轮，至少两个所述第一滚轮沿高度方向间隔设置且分别位于两个所述曝光组件的上下两侧，以用于输送所述料带在两个所述曝光组件之间沿高度方向运动。其中，料带在两个曝光组件之间沿高度方向运动，避免料带悬空因重力变形，导致曝光组件离焦；两个曝光组件对料带在第一方向的两个侧面进行双面同步曝光。
- 曝光
- [发明专利]控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机-CN202111235304.2有效
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赵美云
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2021-10-22
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2023-10-27
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G03F7/20
- 本发明公开了控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机，直写式光刻机包括空间光调制器件，方法包括：获取原始光刻图形；获得用于本次曝光的形变后光刻图形，并提取其中的第二特征图形数据单元；查询预存的数据仓库；确定数据仓库中存在同类型的目标形变后光刻图形；将第二特征图形数据单元与数据序列中的第三特征图形数据单元进行比对；确定存在与第二特征图形数据单元可相互替换的目标第三特征图形数据单元，将对应的空间光调制器件所需数据转换为第二特征图形数据单元对应的空间光调制器件目标数据；控制直写式光刻机的空间光调制器件。本发明的控制直写式光刻机的方法处理时间短，可通过软件实现对数据的处理，提升了直写式光刻机的产能。
- 控制直写式光刻方法
- [发明专利]一种用于直写光刻设备的照明系统-CN202310850734.8在审
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张琦
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-07-11
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本发明涉及直写光刻技术领域，具体公开了一种用于直写光刻设备的照明系统，包括LD空间合束光源，以及依次设置的第一偏振棱镜、准直透镜组、匀光器件、照明透镜组、转接反射镜、DMD微镜阵列。本发明提供的用于直写光刻设备的照明系统通过双棱镜结构将发光灯珠所出椭圆偏振光快慢轴拆分，形成快轴线偏振光和慢轴线偏振光，快轴线偏振光和慢轴线偏振光通过空间合束、偏振合束后，直接经过匀光系统调制成能量均匀的矩形光斑，投射到DMD微镜阵列表面。有效利用了LD线偏振光特性，提高了光学系统能量，结构合理、布局紧凑美观，解决了现有直写光刻设备大多使用光纤合束激光器作为光源，存在限制产能提高的问题，具有广阔的应用前景。
- 一种用于光刻设备照明系统
- [发明专利]曝光机-CN202310889583.7在审
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程强;项宗齐;汪涛
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-07-19
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2023-10-17
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G03F7/20
- 本发明公开了一种曝光机，包括：壳体、驱动系统、吸附系统、曝光系统和数据处理系统，壳体上设有容纳空间；驱动系统设于容纳空间内；吸附系统用于吸附基板，吸附系统设于驱动系统的自由端；曝光系统与基板相对设置，曝光系统设于驱动系统上；数据处理系统与驱动系统连接，数据处理系统用于控制驱动系统上吸附系统和曝光系统的相对位置以实现对于基板的曝光处理。这样，在曝光机的工作过程中，能够直接通过数据处理系统控制驱动系统的使用以实现对于基板曝光处理，能够在曝光机的结构中节省掩膜板的设置，从而简化曝光机的结构，降低曝光机的生产成本。
- 曝光
- [发明专利]光刻设备-CN202310893295.9在审
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杨凯;戴晓霖;陈东;何少锋
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-07-19
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2023-10-17
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G03F7/20
- 本发明公开了一种光刻设备，包括：控制系统、激光系统、成像系统和运动系统，所述激光系统与所述控制系统连通，所述激光系统用于提供光斑图案；所述成像系统与所述激光系统连接，根据所述光斑图案提供激光到指定位置；所述运动系统的一端与所述成像系统连接，所述运动系统的另一端与所述控制系统连接，所述运动系统用于承载基板并调整所述基板与所述成像系统的相对位置。这样，通过使用控制系统、激光系统、成像系统和运动系统构成光刻设备，在光刻设备的结构设计过程中，光刻设备内能够节省掩膜板的设计，以让光刻设备的结构得到简化，以实现数字化生产，且由于节省了掩膜板的设计使用，能够减低光刻设备的生产成本。
- 光刻设备
- [发明专利]曝光设备和高精度图形对位的曝光方法-CN202310498444.1在审
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杨保平
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-05-04
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2023-09-22
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G03F7/20
- 本发明公开了一种曝光设备和高精度图形对位的曝光方法，曝光设备包括输送装置、旋转装置、对位装置和曝光装置。输送装置用于输送待曝光件；旋转装置设在输送装置的输送方向的下游，旋转装置包括驱动件和至少一个放置平台，放置平台用于放置待曝光件，驱动件为放置平台的转动提供驱动力。对位装置设在旋转装置的远离输送装置的一侧，对位装置包括固定平台和移动系统，固定平台用于固定掩膜版，且固定平台位于放置平台的上方，移动系统用于带动固定平台移动使掩膜版与待曝光件对准；曝光装置设在对位装置的上方。根据本发明实施例的曝光设备，能够满足高精度的图形化要求，同时曝光设备更加自动化，能够有效提升生产效率，降低生产成本。
- 曝光设备高精度图形对位方法
- [发明专利]吸附装置及具有其的光刻设备-CN202310691837.4在审
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金伟龙;戴晓霖;周来军
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-06-09
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2023-09-19
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G03F7/20
- 本发明公开了一种吸附装置及具有其的光刻设备，吸附装置包括吸盘主体、遮挡组件、分隔片和抽取组件；遮挡组件的一端固定连接在吸盘主体的表面上；分隔片为多个且沿第二方向设置在吸附腔内，以在吸附腔内构建出多个分隔腔；抽取组件设于吸盘主体的一侧，抽取组件包括：动力件；抽取件，抽取件内形成抽取腔，抽取腔朝向吸盘的一侧设有通孔且与吸附腔连通，抽取腔内设有隔板，动力件的输出端与隔板连接以控制隔板的滑动，以使抽取腔的通孔与多个分隔腔中的至少部分连通。这样，通过结合使用遮挡组件和抽取组件，不仅会让吸附装置的调整过程更为简单，而且能够以让吸附装置的吸附范围能够得到更好的调整，以提升吸附装置的适用性。
- 吸附装置具有光刻设备
- [实用新型]曝光系统-CN202321072209.X有效
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项宗齐
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合肥芯碁微电子装备股份有限公司
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2023-05-05
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2023-09-15
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G03F7/20
- 本实用新型公开了一种曝光系统，所述曝光系统包括：曝光装置，所述曝光装置包括：工作台；曝光支架，所述曝光支架可移动地安装于所述工作台，所述曝光支架构造有上支臂和下支臂；上曝光头组件和下曝光头组件，所述上曝光头组件安装于所述上支臂，所述下曝光头组件安装于所述下支臂；吸盘组件，所述吸盘组件安装于所述工作台且位于所述上曝光头组件和所述下曝光头组件之间，所述吸盘组件适于放置并吸附待加工电路板料带；卷绕机构，所述卷绕机构安装于所述吸盘组件和所述曝光支架的两侧。根据本实用新型实施例的曝光系统，曝光稳定性高、精度性高、效率高等优点。
- 曝光系统
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