专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]曝光机文件自动检查系统-CN201310506771.3有效
  • 赵静芬;马兰涛;陈力钧 - 上海华力微电子有限公司
  • 2013-10-23 - 2017-04-12 - G06F17/30
  • 本发明涉及一种曝光机文件自动检查系统,系统包括光刻曝光机文件建立条件信息模块、光罩信息模块、曝光机文件建立/导出模块和数据处理模块;光罩信息模块中存储有光罩信息,曝光机文件建立/导出模块中存储有曝光机文件,曝光机文件建立条件信息模块中存储有建立曝光机文件时所需条件的参数信息;数据处理模块调取光罩信息模块中存储的光罩信息,并根据该光罩信息调取存储于曝光机文件建立/导出模块中的曝光机文件,数据处理模块同时调取曝光机文件建立条件信息模块中的参数信息后,将曝光机文件建立所需要更改的参数与调取的参数信息进行比对,并将比对结果进行输出。本发明系统能够提高曝光机文件的正确率和工作效率。
  • 曝光文件自动检查系统
  • [发明专利]非晶硅平板探测器及其图像处理方法、DR设备-CN201610728312.3有效
  • 王锋;张楠;金利波 - 上海奕瑞光电子科技股份有限公司
  • 2016-08-25 - 2019-05-28 - H04N5/359
  • 本发明提供一种非晶硅平板探测器及其图像处理方法、DR设备,所述非晶硅平板探测器应用于自动曝光探测模式下,其图像处理方法至少包括:获取曝光响应延迟时的曝光丢失信息;采集完成曝光后的原始亮场图像;利用所述曝光丢失信息对所述原始亮场图像进行丢失信息补偿本发明在曝光感应延迟时,通过补偿初始曝光行和/或过渡带上被清空的数据信息,保证完整的曝光信息落入曝光窗口内,实现全信息的采集。另外,本发明在完成曝光后,通过拼图的方式采集原始亮场图像时,保证采集的每一行数据线上的像素点的曝光窗口一致,不会出现曝光行上下分界的阴阳现象,使得采集到的图像可以正确、有效地进行后续校正处理
  • 非晶硅平板探测器及其图像处理方法dr设备
  • [发明专利]一种曝光方法及曝光设备-CN202211512565.9在审
  • 徐广峰;钱文欢;陈海巍;王方江;钱聪 - 无锡影速半导体科技有限公司
  • 2022-11-28 - 2023-03-14 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种曝光方法及曝光设备,属于印制电路板生产领域。本发明的曝光方法将分图数据处理与对准流程并行处理,有效地缩短了曝光时间;本发明可以将处理好的图片数据缓存于上位机或曝光系统中,同时本发明曝光设备的吸盘具备X轴、Y轴、Z轴及旋转轴四个方向的自由度,可以通过旋转和平移来校正PCB板的放板偏差,从而取代了分图系统中根据基板标记点对准结果对图形进行的旋转和平移处理,该过程减少了分图系统中图形处理耗时,进一步提升了设备产能,同时避免了在图形处理后横线变为小角度斜线带来的台阶状偏差问题,保证了曝光图形的解析精度,提升曝光品质。
  • 一种曝光方法设备
  • [发明专利]一种监控曝光曝光能量的装置-CN202011348478.5在审
  • 韩少华;王健;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 - 江苏上达电子有限公司
  • 2020-11-26 - 2021-01-22 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种监控曝光曝光能量的装置,属于线路板制造技术领域。包括曝光灯、干板平台区域、曝光后传输装置、承载产品平台、曝光测量仪器平台和处理控制传输器,所述的曝光灯设置在干板平台区域的上方,曝光后传输装置设置在干板平台区域下方,承载产品平台设置在曝光后传输装置的下方,曝光后传输装置和承载产品平台的中间设置曝光测量仪器平台,曝光测量仪器平台连接处理控制传输器,曝光测量仪器平台对曝光灯的曝光量进行收集。本发明的有益效果是:曝光检测仪器可以通过对曝光能量的监控,控制曝光能量的问题,造成批量的线路不良问题。减少人为的去检测曝光能量,实现检测自动化。
  • 一种监控曝光能量装置
  • [实用新型]一种监控曝光曝光能量的装置-CN202022777021.8有效
  • 韩少华;王健;杨洁;孙彬;沈洪;李晓华 - 上达电子(深圳)股份有限公司
  • 2020-11-26 - 2021-06-22 - G03F7/20
  • 本实用新型涉及一种监控曝光曝光能量的装置,属于线路板制造技术领域。包括曝光灯、干板平台区域、曝光后传输装置、承载产品平台、曝光测量仪器平台和处理控制传输器,所述的曝光灯设置在干板平台区域的上方,曝光后传输装置设置在干板平台区域下方,承载产品平台设置在曝光后传输装置的下方,曝光后传输装置和承载产品平台的中间设置曝光测量仪器平台,曝光测量仪器平台连接处理控制传输器,曝光测量仪器平台对曝光灯的曝光量进行收集。本实用新型的有益效果是:曝光检测仪器可以通过对曝光能量的监控,控制曝光能量的问题,造成批量的线路不良问题。减少人为的去检测曝光能量,实现检测自动化。
  • 一种监控曝光能量装置
  • [发明专利]提升油墨曝光效率的方法-CN202211355155.8在审
  • 王申 - 合肥芯碁微电子装备股份有限公司
  • 2022-11-01 - 2023-03-07 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种提升油墨曝光效率的方法,包括如下步骤:(一)、过前处理:将板件清洗、粗化、烘干处理得基板;(二)、涂敷固化:将防焊油墨涂覆在步骤(一)所得基板上,烘烤固化,得油墨板件;(三)、曝光:对步骤(二)所得油墨板件的油墨面进行曝光,所述曝光时,所述油墨面处于惰性气体氛围;(四)、显影和固化:对步骤(三)曝光后的油墨板件进行显影和后固化处理。根据本发明实施例的提升油墨曝光效率的方法,通过在曝光时同步吹出惰性气体,降低了曝光区域的含氧量,抑制氧气与自由基的反应,从而提升了油墨的曝光效率。
  • 提升油墨曝光效率方法
  • [发明专利]自动曝光成像系统与方法-CN201910018903.5有效
  • 孙永澈 - 恒景科技股份有限公司
  • 2019-01-09 - 2021-04-23 - H04N5/235
  • 本发明提出一种自动曝光成像系统,包含影像感测器,用以撷取类比影像;类比至数字转换器,将类比影像转换为数字影像;单视框影像处理器,处理数字影像;曝光量化器,根据单视框影像处理器的输出以产生离散值,以代表决定的曝光时间;多重曝光控制器,受控于移动侦测信号,该多重曝光控制器于移动侦测模式的每一视框周期依序产生多个不同的曝光时间,且于串流模式输出该曝光量化器所决定的曝光时间;及像素控制器,接收多重曝光控制器的输出,据以控制影像感测器
  • 自动曝光成像系统方法
  • [发明专利]曝光方法、电子装置与主从式系统-CN201810901250.0有效
  • 张耕力 - 广州印芯半导体技术有限公司
  • 2018-08-09 - 2021-06-15 - G03F7/20
  • 本发明提供一种曝光方法、电子装置与主从式系统。电子装置包括图像获取电路以及耦接至图像获取电路的处理器。处理器取得曝光指令以及第一数量。处理器根据曝光指令,控制图像获取电路进行曝光以获取一图像。所述处理器判断所述图像的数量是否达到第一数量。当所述图像的数量未达到第一数量时,所述处理器再次执行控制图像获取电路进行曝光以获取所述图像的运作。当所述图像的数量达到第一数量时,处理器停止控制图像获取电路进行曝光
  • 曝光方法电子装置主从系统
  • [发明专利]图像处理方法、装置及电子设备-CN202110704355.9在审
  • 刘闯 - 维沃移动通信(杭州)有限公司
  • 2021-06-24 - 2021-10-29 - H04N5/235
  • 本申请公开了一种图像处理方法、装置及电子设备,属于图像处理的技术领域。该图像处理方法,应用于图像采集设备,图像采集设备包括第一摄像模组和第二摄像模组;该方法包括:通过第一摄像模组获取目标图像的亮度信息,其中,目标图像为针对目标对象采集的图像;根据亮度信息,得到目标曝光参数,其中,目标曝光参数为使目标图像达到目标曝光程度所需的曝光参数;在第二摄像模组针对目标对象进行图像采集的情况下,将目标曝光参数设置为第二摄像模组进行曝光处理所需的曝光参数。
  • 图像处理方法装置电子设备
  • [发明专利]一种大马士革工艺方法-CN200810035095.5有效
  • 王金丽 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2008-03-25 - 2009-09-30 - H01L21/768
  • 本发明揭露了一种大马士革工艺方法,其于基底上的沟槽或层间通孔的形成过程中可减少显影与刻蚀的次数,包括如下步骤:(1)连续对多个光阻层进行曝光处理并且于其间不进行显影处理,从而形成一曝光区域;(2)对上述曝光区域进行显影处理,从而得到与曝光区域相应的显影区域;(3)通过上述显影区域对基底或一介质层进行刻蚀,形成所需沟槽或通孔。可见其将多次曝光处理后所得到的曝光区域进行一次显影与刻蚀,得到所需的沟槽或通孔。与传统工艺相比将每次曝光处理后的显影处理集中到一次显影中完成,减少了显影与刻蚀的次数,提高了效率。
  • 一种大马士革工艺方法
  • [发明专利]一种用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统-CN201510634896.3有效
  • 陆敏婷 - 合肥芯碁微电子装备有限公司
  • 2015-09-30 - 2017-05-24 - G03F7/20
  • 本发明提供一种用于直写式光刻机曝光光源的温度控制系统,包括温度监控模块、温度处理控制模块和温度控制执行模块;温度监控模块用于实时采集曝光光源内部工作温度,并将曝光光源内部工作温度的测量值输出至温度处理控制模块;温度处理控制模块用于根据预设的曝光光源内部工作温度的目标基准值及其允许误差范围,对曝光光源内部工作温度的测量值进行处理,并根据处理结果输出控制信号至温度控制执行模块;温度控制执行模块用于根据温度处理控制模块发送的控制信号对曝光光源内部工作温度进行控制本发明能够准确、快速地进行直写式光刻机曝光光源内部工作温度的自动控制,成本低、便于维护。
  • 一种用于直写式光刻曝光光源温度控制系统
  • [发明专利]自适应的光刻临界尺寸增强-CN200410078927.3有效
  • T·D·海尔;W·T·特;T·J·戴维斯;T·A·帕斯顿 - ASML荷兰有限公司
  • 2004-09-16 - 2005-06-22 - G03F7/20
  • 该系统包括构造为曝光衬底的曝光装置、与该曝光装置和多个处理模块和装置可操作连接的流水线装置。该系统还包括测量装置,所述测量装置被构造成测量被曝光处理的衬底的属性,并基于预先规定的衬底形貌信息评估被曝光处理的衬底属性是否均匀。该系统还包括一种模块,该模块被构造成当确定所述属性不均匀时,就基于所测量的属性自适应地计算校正曝光数据。该校正曝光数据被构造成通过调节曝光装置的曝光剂量来校正衬底的不均匀性。一旦衬底被评估为具有了需要的均匀性,就根据校正曝光数据使用曝光装置来曝光衬底,继续监测被曝光衬底的均匀性并且根据需要更新剂量校正以保持均匀性。
  • 自适应光刻临界尺寸增强
  • [发明专利]一种CT异构冗余曝光控制系统及方法-CN202010901263.5在审
  • 陈牧;徐军;丁海波 - 上海大骋医疗科技有限公司
  • 2020-08-31 - 2020-10-30 - A61B6/03
  • 本发明涉及一种CT异构冗余曝光控制系统及方法,系统包括供电单元、主控制器、第一处理器、第二处理器和第三处理器,所述主控制器分别连接第一处理器和第二处理器,所述第三处理器分别连接第一处理器和第二处理器,所述第三处理器连接高压发生器,所述高压发生器连接球管,所述供电系统分别连接第一处理器、第二处理器、第三处理器和高压发生器,所述主控制器发送曝光参数设定指令和曝光开始指令至第一处理器和第二处理器,第三处理器对第一处理器和第二处理器传递的曝光参数设定指令和曝光开始指令进行逻辑运算与现有技术相比,提高曝光参数的准确性,提高曝光控制的安全性,保证曝光控制的可靠性。
  • 一种ct冗余曝光控制系统方法
  • [实用新型]一种CT异构冗余曝光控制系统-CN202021869661.5有效
  • 陈牧;徐军;丁海波 - 上海大骋医疗科技有限公司
  • 2020-08-31 - 2021-09-03 - A61B6/03
  • 本实用新型涉及一种CT异构冗余曝光控制系统,系统包括供电单元、主控制器、第一处理器、第二处理器和第三处理器,所述主控制器分别连接第一处理器和第二处理器,所述第三处理器分别连接第一处理器和第二处理器,所述第三处理器连接高压发生器,所述高压发生器连接球管,所述供电系统分别连接第一处理器、第二处理器、第三处理器和高压发生器,所述主控制器发送曝光参数设定指令和曝光开始指令至第一处理器和第二处理器,第三处理器对第一处理器和第二处理器传递的曝光参数设定指令和曝光开始指令进行逻辑运算与现有技术相比,提高曝光参数的准确性,提高曝光控制的安全性,保证曝光控制的可靠性。
  • 一种ct冗余曝光控制系统

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