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[发明专利]一种掩膜版-CN202210071205.3在审
发明人：周俊吉;李哲;郑庆靓;刘鑫 -专利权人：成都拓维高科光电科技有限公司
申请日： 2022-01-21 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版，涉及显示设备技术领域；技术方案：一种掩膜版，包括掩膜版本体，所述掩膜版本体的端面设有若干凹槽。本发明提供的掩膜版，在掩膜版本体的端面设有若干凹槽，可减小掩膜版本体的重量，因此，能够减小磁性隔板吸附掩膜版后掩膜版与玻璃基板之间的压力，进而减小掩膜版与玻璃基板间的摩擦力，从而减小摩擦产生的静电量，以降低玻璃基板上的电路层或者蒸镀的有机材料被击穿的概率
一种掩膜版

[发明专利]掩膜版和硅片对准装置-CN202110286316.1在审
发明人：宋宇;孙海旋;曾维俊;卢瑶;钱俊;闫雪松;于福鑫;吕丹辉 -专利权人：中国科学院苏州生物医学工程技术研究所;济南国科医工科技发展有限公司
申请日： 2021-03-17 - 公布日： 2021-07-02 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版和硅片对准装置，包括：硅片夹紧部件，其包括下底板以及下夹紧组件；掩膜版夹紧部件，其可平移设置在所述硅片夹紧部件上，所述掩膜版夹紧部件包括上底板以及上夹紧组件；以及调整部件，其用于使所述掩膜版夹紧部件在所述硅片夹紧部件上的平移，以将所述掩膜版夹紧部件上的掩膜版与所述硅片夹紧部件上的硅片对准。本发明通过简单的机构即可实现掩膜版与硅片的对准与压紧要求，可显著降低成本和结构复杂性；本发明通过调整部件可实现对掩膜版角度调节和两个方向的微调，能达到精准的对准需求；本发明的掩膜版夹紧部件可在对准过程中保持掩膜版与硅片存在一定间隙，压紧时又可保证掩膜版和硅片接触的紧密性。
掩膜版硅片对准装置

[发明专利]一种AMOLED用的掩膜版制作方法及掩膜版-CN202110157006.X在审
发明人：钱超;杨波;洪明;王有明 -专利权人：江苏高光半导体材料有限公司
申请日： 2021-02-04 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明属于掩膜版技术领域，尤其是涉及一种AMOLED用的掩膜版制作方法及掩膜版，包括掩膜版基板，掩膜版基板的一端板面上设有图形块，掩膜版基板与图形块之间设有透明板，透明板与图形块和掩膜版基板均固定连接，掩膜版基板背离透明板的一侧设有涂层，掩膜版基板中嵌合有多道与图形块相对应的金属条，金属条的上端贯穿涂层设置，多条金属条相互连接，且其两端分别有端头平行伸出掩膜版基板的断层外，通过端头可与外部电源的正负极相连接优点在于：可通过对多余散射光线进行吸收防反射的方式来使得光源的光线更好的配合图形来进行照射作用，从而提高了掩膜版作业的质量。
一种 amoled 掩膜版制作方法

[发明专利]一种高通量掩膜版、高通量薄膜制造设备及制造方法-CN202011322226.5在审
发明人：张晓军;胡凯;姜鹭;方安安;陈志强;杨洪生;董帅;袁国亮;刘东方;尹曦;郑晓昊 -专利权人：深圳市矩阵多元科技有限公司
申请日： 2020-11-23 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明适用于高通量掩膜版技术领域，提供了一种高通量掩膜版、高通量薄膜制造设备及制造方法，包括：固定在基片上的单孔掩膜版、以及设置在单孔掩膜版上的梯形掩膜版，所述梯形掩膜版上至少设有第一梯形孔和第二梯形孔，通过所述梯形掩膜版在所述单孔掩膜版上移动的方式溅射薄膜到所述基片上形成薄膜厚度梯度；通过将所述梯形掩膜版移动在所述单孔掩膜版上能够溅射薄膜到基片上，在将梯形掩膜版不断的移动过程中会生长成薄膜厚度梯度，
一种通量掩膜版薄膜制造设备方法

[发明专利]一种金属掩膜版框体组件及金属掩膜版组件-CN202310372806.2在审
发明人：张蔡星;李成林;蔡则凡 -专利权人：江苏高光半导体材料有限公司
申请日： 2023-04-10 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提出的一种金属掩膜版框体组件及金属掩膜版组件，涉及金属掩膜版领域。该金属掩膜版框体组件包括主框体和至少一个压条；主框体的中部具有开口，围绕开口设置有焊接区，焊接区位于主框体的上表面内；压条设置于主框体的上侧，位于开口的边缘至焊接区之间，且顺着开口边缘的方向延伸；至少在压条的两端处通过螺丝连接件与主框体连接该金属掩膜版组件包括上述金属掩膜版框体组件和金属掩膜版；金属掩膜版覆盖于所述开口上，且边缘与所述焊接区相接合，所述压条的下表面施压于金属掩膜版的上表面。本发明可用于减少金属掩膜版的下垂量，有助于提高蒸镀产品质量以及掩膜版组件的使用寿命。
一种金属掩膜版框体组件掩膜版

[实用新型]双旋转掩膜版清洗装置-CN201320094084.0有效
发明人：金普楠 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2013-03-01 - 公布日： 2013-08-14 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型提供双旋转掩膜版清洗装置，包括用于存放清洗液的清洗槽、用于安装掩膜版的掩膜版支架、掩膜版驱动机构、传动杆以及清洗液搅拌机构，所述掩膜版驱动机构的一端与所述传动杆连接，所述掩膜版驱动机构的另一端与所述掩膜版支架连接，所述清洗液搅拌机构设置于所述清洗槽内，所述掩膜版在所述清洗槽中垂向设置，所述掩膜版位于所述清洗槽的左半侧或者右半侧在。本实用新型既能够利用掩膜版清洗液的动能使清洗和反应速度加快以节约清洗时间，又能够避免现有技术中因掩膜版各处线速度的不同而引起图形均一性发生变化，进而，确保后续晶圆的曝光工艺的稳定性，提高产品良率。
旋转掩膜版清洗装置

[实用新型]一种高通量掩膜版及高通量薄膜制造设备-CN202022729297.9有效
发明人：张晓军;胡凯;姜鹭;方安安;陈志强;杨洪生;董帅;袁国亮;刘东方;尹曦;郑晓昊 -专利权人：深圳市矩阵多元科技有限公司
申请日： 2020-11-23 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型适用于高通量掩膜版技术领域，提供了一种高通量掩膜版及高通量薄膜制造设备，包括：固定在基片上的单孔掩膜版、以及设置在单孔掩膜版上的梯形掩膜版，所述梯形掩膜版上至少设有第一梯形孔和第二梯形孔，通过所述梯形掩膜版在所述单孔掩膜版上移动的方式溅射薄膜到所述基片上形成薄膜厚度梯度；通过将所述梯形掩膜版移动在所述单孔掩膜版上能够溅射薄膜到基片上，在将梯形掩膜版不断的移动过程中会生长成薄膜厚度梯度，三个方向上的梯度组合形成不同的材料，从而提高了材料的制备效率；本实用新型提高了高通量材料的制造效率
一种通量掩膜版薄膜制造设备

[发明专利]用于扩大焦深参数工艺窗口的掩膜版、反掩膜版及其曝光方法-CN200910049637.9无效
发明人：朱亮;顾以理;张迎春;周从树;钟政;邓木兵 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2009-04-21 - 公布日： 2009-11-04 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种用于扩大焦深参数工艺窗口的掩膜版、反掩膜版及其曝光方法，属于光刻技术领域。该发明提出一种在图形稀疏区增加哑元图形使图形稀疏区和图形密集区的图形密度均匀的掩膜版，并以该掩膜版进行第一次曝光；同时提供其相应的用于对哑元图形区域进行补偿曝光的反掩膜版，并以该反掩膜版进行第二次曝光。该掩膜版、反掩膜版及其曝光方法的结合运用，能扩大焦深参数工艺窗口。
用于扩大焦深参数工艺窗口掩膜版反掩膜版及其曝光方法

[发明专利]一种掩膜版、制作方法及制作夹具-CN202210105205.0在审
发明人：刘鑫;郑庆靓;李博;吴义超;赵阳;周俊吉 -专利权人：成都拓维高科光电科技有限公司
申请日： 2022-01-28 - 公布日： 2022-04-29 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜版、制作方法及制作夹具，涉及显示设备技术领域；技术方案：掩膜版本体工作面上拱，能够提高掩膜版本体的结构强度，减小掩膜版本体因材料本身刚度、重力和受热膨胀的下垂量，或避免掩膜版本体下垂，以通过掩膜版本体支撑金属精细掩膜版，减小金属精细掩膜版的下垂量或避免金属精细掩膜版，从而降低显示屏混色比例和混色风险，提高显示屏的成品率。掩膜版制作方法，在掩膜版本体的工作面涂覆张应力涂层或在掩膜版本体结构面涂覆压应力涂层，均可获得前述的掩膜版本体。掩膜版制作夹具，包括掩膜版边框装载框和支撑板，支撑板位于装载框上端且各侧与装载框对应的侧壁连接，可通过支撑板可对掩膜版提供支撑。
一种掩膜版制作方法制作夹具

[实用新型]一种高通量掩膜版及切换机构-CN202022309143.4有效
发明人：张晓军;胡凯;姜鹭;方安安;陈志强;杨洪生;董帅;袁国亮;刘东方;尹曦;郑晓昊 -专利权人：深圳市矩阵多元科技有限公司
申请日： 2020-10-16 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型适用于掩膜版技术领域，提供了一种高通量掩膜版及切换机构，包括：固定设置在基片上的第一掩膜版、以及设置在第一掩膜版一侧的第二掩膜版，第一掩膜版与第二掩膜版之间设置有间隔，第一掩膜版上设有4n个第一小孔，第二掩膜版上设有至少1个第二小孔；其中，第一小孔小于第二小孔，且第一小孔和第二小孔有一定的对应关系，第二小孔自转三次能覆盖所有的第一小孔。本实用新型通过在基片上设置的第一掩膜版以及间隔设置在第一掩膜版一侧的第二掩膜，通过设置有间隔后，不直接接触温度影响降低，从而使得加热对掩膜板的影响减小；而通过第一小孔和第二小孔，避免第二掩膜版多次旋转后发生错位
一种通量掩膜版切换机构

[发明专利]掩膜版组件及其制造方法、显示基板、显示装置-CN202111065630.3在审
发明人：白珊珊;李彦松 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-09-10 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开提供一种掩膜版组件及其制造方法、显示基板、显示装置，掩膜版组件包括：掩膜框架，包括内侧凹槽区域和外侧区域，所述外侧区域具有第一厚度，所述内侧凹槽区域具有第二厚度；掩膜版，固定于所述掩膜框架的所述内侧凹槽区域，具有第三厚度，所述掩膜版在所述掩膜框架上的正投影覆盖所述内侧凹槽区域；其中，所述第一厚度大于或等于所述第二厚度与所述第三厚度之和；定位掩膜版，固定于所述掩膜框架的所述外侧区域，并设置有定位孔，所述定位孔用于将所述掩膜版与所述显示基板进行对准根据本公开，能够减小掩膜版拉伸的位置偏移和提高定位孔的对准精度，减小掩膜版的开口设计容差，有利于实现显示装置的窄边设计。
掩膜版组件及其制造方法显示显示装置

[发明专利]掩膜版组件、掩膜版组件的制作方法及显示面板-CN202210567917.4在审
发明人：黄世雄;陈军涛;谢涛峰;黄倍慈 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-05-24 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种掩膜版组件、掩膜版组件的制作方法及显示面板，掩膜版组件应用于制作显示面板母板，显示面板母板包括多个显示面板，掩膜版组件包括开口掩膜版，开口掩膜版包括第一框架和第一主体部，第一主体部与第一框架固定连接，第一主体部包括相互平行设置的多个第一掩膜条，以及相互平行设置的多个第二掩膜条，多个第一掩膜条及多个第二掩膜条交叉设置并限定出多个第一开口区，多个第一开口区用于与多个显示面板中的显示区对应设置。本申请实施例提供的掩膜版组件、掩膜版组件的制作方法及显示面板，可以减小显示面板的边框尺寸，提高显示面板的屏占比。
掩膜版组件制作方法显示面板

[发明专利]一种掩膜版组件及其安装方法、蒸镀装置-CN201610493408.6有效
发明人：林治明;王震;张健;唐富强;黄俊杰 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-06-28 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种掩膜版组件及其安装方法、蒸镀装置，涉及显示技术领域，能够降低掩膜版和背板贴合时掩膜版的偏移量，进而提高产品的合格率。该掩膜版组件包括支撑架以及固定于支撑架上的掩膜版，掩膜版包括有效掩膜区和包围有效掩膜区的无效掩膜区；掩膜版组件还包括固定于支撑架上的第一支撑条，第一支撑条设置于掩膜版背离支撑架一侧，且第一支撑条在支撑架所在平面的投影与掩模板在支撑架所在平面的投影存在第一交叠部分，第一交叠部分位于无效掩膜区在支撑架所在平面的投影区域内。
一种掩膜版组件及其安装方法装置

[发明专利]一种在线监测补偿掩膜版热变形的装置和方法-CN201511032055.1有效
发明人：程蕾丽;朱岳彬 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2015-12-31 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种在线监测补偿掩膜版热变形的装置和方法，在掩膜台上设置第一电极单元，在掩膜版上设置于第一电极单元极性相反的第二电极单元，第一电极单元与第二电极单元形成电极回路且构成微电容单元，并设置能够监测微电容单元电容值的控制单元，通过测量电容从而计算得到掩膜版变形后与掩膜台之间的距离，并且通过控制单元控制电极回路电压，从而控制掩膜版与掩膜台之间的静电力使得掩膜版向掩膜台运动，减少两者之间的距离从而补偿掩膜版的热变形，这样既可以在线实时监测掩膜版的热变形度也可以实时补偿掩膜版的热变形
一种在线监测补偿掩膜版热变形装置方法

[发明专利]双层掩膜版及其使用方法、改善双层掩膜版漏光的方法-CN202010605641.5有效
发明人：周皇;刘志诚;马国永;胡硕;邵军亮;郭理超 -专利权人：南京京东方显示技术有限公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：发明提供一种双层掩膜版及其使用方法、改善双层掩膜版漏光的方法，用于紫外光垂直配向技术，双层掩膜版包括第一掩膜版和第二掩膜版；所述第一掩膜版包括遮光区域以及相对设置的第一漏光图案区域和第二漏光图案区域；所述第二掩膜版设有两个且不透光，其中一个第二掩膜版位于第一漏光图案区域左侧且可以遮住第一漏光图案区域的左侧部分，另一个第二掩膜版位于第二漏光图案区域右侧且可以遮住第二漏光图案区域的右侧部分。本发明采用双层掩膜版，使得具有调节曝光量的功能，通过调整紫外光垂直配向技术的掩膜版的开口率大小，达到紫外光曝光积光量一致，改善曝光色差问题；也可以应对各种不同的需求，不需额外采购掩膜版，有利于减少成本。
双层掩膜版及其使用方法改善漏光方法