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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]掩膜版-CN201320259846.8有效
发明人：金普楠 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2013-05-14 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： G03F1/48 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种掩膜版，所述掩膜版包括：掩膜版主体；设置于所述掩膜版主体第一表面上的第一保护膜；第一连接装置，所述第一连接装置设置于所述掩膜版主体四周，将所述掩膜版主体与所述第一保护膜连接成一第一密闭结构通过设置第一液体保护层，可以溶解掩膜版主体因长时间曝光析出的各种离子；并且第一连接装置无需开孔来平衡第一密闭结构内外的大气压强，空气中的离子无法进入所述掩膜版内部，有效的杜绝掩膜版晶体的析出，提高光刻图案的精度；同时延长了掩膜版的使用时间。
掩膜版

[发明专利]一种显示屏及其制备方法-CN202310165634.1在审
发明人：杨凯;张羿;江梦月 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2023-02-24 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H10K71/16 文献下载
摘要：该显示屏的制备方法包括：提供层叠设置的基板和背板，背板具有至少一待加热部；提供第一掩膜版，使第一掩膜版位于基板背离背板的一侧，并使待加热部加热至第一预定温度；第一掩膜版具有至少一第一掩膜开口，待加热部与第一掩膜开口对应设置，且待加热部在第一掩膜版上的正投影位于第一掩膜开口内；利用第一掩膜版和背板配合在基板上蒸镀第一有机材料，以在基板背离背板的一侧表面形成第一功能层。该方法可以利用现有掩膜版制得盲孔屏和圆环屏等特殊形状的显示屏；且无需增设去除基板上部分第一有机材料以形成环形显示屏的工艺，简化了工艺，加快了制备效率。
一种显示屏及其制备方法

[发明专利]蒸镀设备-CN201611020039.5有效
发明人：刘耀阳;徐健 -专利权人：上海天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司
申请日： 2016-11-18 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种蒸镀设备，该蒸镀设备包括：蒸镀腔室，以及掩膜版支撑线圈，所述掩膜版支撑线圈至少包括相对设置的第一线圈和第二线圈，所述第一线圈和所述第二线圈之间包括掩膜版设置区域，所述第一线圈和所述第二线圈上分别通入第一电流和第二电流，以使在所述掩膜版设置区域内形成的磁场的磁场强度均匀。本发明实施例通过利用掩膜版支撑线圈在掩膜版设置区域内形成磁场强度均匀的磁场，解决了现有的蒸镀设备中掩膜版因中央区域受力不平衡易发生形变，同时本发明解决了掩膜版在竖直方向上和水平方向上存在的受力问题，避免了掩膜版在定位过程中的受损以及
掩膜版蒸镀设备磁场设置区域受力支撑定位过程相对设置蒸镀腔室中央区域擦伤形变竖直受损

[发明专利]一种液压式金属掩膜版框、掩膜版组件及其调节方法-CN202210356434.X在审
发明人：钱超;李成林;张蔡星;杨柯 -专利权人：江苏高光半导体材料有限公司
申请日： 2022-04-06 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提出的一种液压式金属掩膜版框、掩膜版组件及其调节方法，涉及金属掩膜版领域。液压式金属掩膜版框包括液压框，液压框框体内部具有液体腔，液体腔内填充液压介质，液压框框体的外侧面上分布有若干活塞孔，活塞孔内均装有与之相适配的活塞推杆，液压框上还具有至少一个调节孔，调节孔与液体腔连通，掩膜版组件包括上述液压式金属掩膜版框和金属掩膜版。本发明能够抑制掩膜网面的下垂，提高产品质量。
一种液压式金属掩膜版框掩膜版组件及其调节方法

[发明专利]遮挡掩膜版、掩膜版组件及蒸镀装置-CN202180000048.0在审
发明人：黄琰;吴建鹏;徐倩;牛彤;张国梦 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-01-22 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种遮挡掩膜版、掩膜版组件及蒸镀装置，所述遮挡掩膜版包括板体，所述板体包括第一表面，所述板体的第一表面设置为支撑所述掩膜版组件的多个精细金属掩膜版，所述板体设有多个开口，所述开口设置为暴露所述精细金属掩膜版的掩膜图案区在垂直于所述板体的方向上，所述第二区域的第一表面凸出于所述第一区域的第一表面；所述第一区域的第一表面上设有支撑部，所述支撑部避开所述开口，所述支撑部设置为能够与所述第二区域的第一表面共同支撑所述多个精细金属掩膜版
遮挡掩膜版组件装置

[实用新型]掩膜版的晾干装置-CN201220106383.7有效
发明人：侯广杰;游定平 -专利权人：深圳市龙图光电有限公司
申请日： 2012-03-20 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种掩膜版的清洗干燥装置，包括：设置在该晾干装置上方用于从上往下送风的FFU（FanFilterUnits，风机滤器机组）机组、设置在FFU机组出风口上用于调整风速风向参数的整流罩和设置在该晾干装置内可使掩膜版倾斜摆放在其上的晾干架本实用新型所述掩膜版的晾干装置，通过在FFU风机组出风口上设置用于调整风速风向参数的整流罩和在该晾干装置内设置可使掩膜版倾斜摆放在其上的晾干架，使得掩膜版经过这样的晾干装置晾干后掩膜版表面净化度达到顾客使用要求
掩膜版晾干装置

[实用新型]一种掩膜版后处理用夹具-CN202120333400.X有效
发明人：甄华彪;魏晖;张华超;葛翔 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版后处理用夹具，包括承托板，所述承托板上开设有与掩膜版相适应的清洗槽，所述清洗槽内所有顶角位置均设置有内凹的掩膜版顶角避让圆弧；所述清洗槽的边沿连接有朝向清洗槽中心的掩膜版承托条；还包括一固定基板，所述固定基板上均布设置有若干固定槽，所述固定槽内可拆卸固定有所述承托板；本实用新型的目的在于提供一种掩膜版后处理用夹具，改变现有技术中，显影、蚀刻、清洗机不能对6寸和20*24等小尺寸的掩膜版进行清洗的问题
一种掩膜版后处理夹具

[发明专利]掩膜版组件-CN201810076395.1有效
发明人：张涛 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-01-26 - 公布日： 2020-08-04 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版，包括掩膜承载框和固定连接于掩膜承载框的掩膜，所述掩膜承载框包括相对设置的第一支撑板和第二支撑板，所述第一支撑板包括朝向第二支撑板的第一连接面，所述第二支撑板包括朝向第一连接面的第二连接面，所述掩膜呈夹角连接于所述第一连接面和第二连接面，所述第一连接面和第二连接面与所述掩膜的夹角为钝角。本发明还提供一种掩膜版组件，用于对位贴合玻璃基板和掩膜，包括上述掩膜版和基台，所述基台表面设置有多个间隔排列的第一顶针和第二顶针，所述掩膜版位于多个所述第二顶针上，多个所述第一顶针以支撑所述玻璃基板且使玻璃基板位于掩膜版正下方，所述掩膜版的第一连接面和第二连接面用于推使玻璃基板与掩膜对位。
掩膜版组件

[实用新型]一种掩膜版-CN202222856673.X有效
发明人：贾立永;章丰帆;陈云;张赛 -专利权人：合肥视涯显示科技有限公司
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版。该掩膜版包括掩膜版本体，掩膜版本体包括遮挡区和成膜区，遮挡区的成膜面设置有多个盲孔槽；盲孔槽包括位于成膜面同一平面上的开口和位于掩膜版本体内部的底面，底面在第一平面上的垂直投影覆盖开口在第一平面上的垂直投影，其中，第一平面为成膜面所在平面。解决了在成膜加工过程中应力累积导致掩膜版产生形变，从而划伤产品的问题，增加了掩膜版的使用寿命，保证了待加工产品的质量。
一种掩膜版

[发明专利]慧星像差检测方法以及慧星像差检测装置-CN201210261780.6在审
发明人：王磊;沈海洲;曹圣豪 -专利权人：上海宏力半导体制造有限公司
申请日： 2012-07-26 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：根据本发明的慧星像差检测方法包括：第一步骤：将光刻掩膜版布置在光刻掩膜版放置平台上；第二步骤：执行校准以便使光刻掩膜版放置平台上的光刻掩膜版对准；第三步骤：向光刻掩膜版放置平台上的光刻掩膜版基准板垂直地透射光线，以使光线依次通过光刻掩膜版基准板背面的空中图像传感器标记、聚光透镜以及晶圆放置平台上的空中图像传感器开口，通过反射镜的反射到达空中图像传感器检测系统；第四步骤：所述空中图像传感器检测系统收集与所述聚光透镜相关的慧星像差数据
慧星检测方法以及装置

[发明专利]掩膜版组件及掩膜版保护组件去除方法-CN201811454862.6在审
发明人：高丁山;唐光亚 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版组件及掩膜版保护组件的去除方法，掩膜版组件包括，光掩模版；掩膜版保护组件，掩膜版保护组件通过粘结物粘接在光掩模版上；以及冷却装置，冷却装置至少将粘结物冷却，从而使得粘结物脱离所述光掩模版通过上述技术方案，本发明的掩膜版组件及掩膜版保护组件去除方法，通过冷却的方式使得光掩模版和保护框之间的粘结物脱离光掩模版，可以是使二者之间的粘结物硬化，从而使得粘结物脱离光掩模版，可以使得粘结物与保护框一同被移除
掩膜版组件保护去除方法

[发明专利]一种金属掩膜版的清洗装置、清洗方法-CN202010274992.2在审
发明人：钱超;吴建 -专利权人：常州高光半导体材料有限公司
申请日： 2020-04-09 - 公布日： 2020-08-14 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属掩膜版的清洗装置、清洗方法，涉及掩膜版清洗技术领域，包括等离子发生装置，所述金属掩膜版位于等离子发生装置内，等离子发生装置所产生的等离子体撞击金属掩膜版，使金属掩膜版表面的残留材料脱落，完成清洗，本发明清洗装置采用氩气作为媒介，利用等离子发生装置产生的等离子体对金属掩膜版，进行清洗，可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的金属掩膜版损坏、浪费资源、人身健康损害和环境污染等问题，
一种金属掩膜版清洗装置方法

[发明专利]光刻掩膜版和光刻掩膜版的检测方法-CN201911345460.7在审
发明人：王燚;路天;刘兴华;胡超 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2019-12-23 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本申请提供了一种光刻掩膜版和光刻掩膜版的检测方法，涉及电子技术领域。该光刻掩膜版包括：图形层，包括M个图形区和N个设置在所述图形区外围的非图形区，其中所述M≥1，所述N≥1；其中，所述N个非图形区中的至少一个包括用于监测所述光刻掩膜版的光线透过率的透光部。在本申请的实施例中，通过在光刻掩膜版的N个非图形区中的至少一个设置透光部，从而使得该光刻掩膜版被用于对待光刻基板进行曝光时，该待光刻基板的感光层上可以形成该透光部对应的标记显影区，进而实现了通过该标记显影区来衡量该光刻掩膜版的光线透过率
光刻掩膜版检测方法

[发明专利]电极结构的制造装置及其制造方法、触控面板-CN202110922134.9在审
发明人：苏伟;胡守荣;叶宗和;董宇坤;张国良 -专利权人：深圳市志凌伟业光电有限公司
申请日： 2021-08-11 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明公开了一种电极结构的制造装置及其制造方法、触控面板，该电极结构的制造方法包括在一导电基材上形成一感光材料层，采用第一掩膜版曝光感光材料层，更换第二掩膜版曝光经第一掩膜版曝光后的感光材料层，其中，第一掩膜版和第二掩膜版的遮光方向不同本发明技术方案通过第一掩膜版和第二掩膜版两次曝光，可以在感光材料层上叠加形成包含有尖角的图案，对应地，在对感光材料层和导电基材处理后，可以得到包含有尖角的电极结构，避免了电极结构上形成圆角，从而提高电极结构的透光率
电极结构制造装置及其方法面板

[发明专利]采用硅片作为掩膜版控制薄膜沉积形貌的工艺方法-CN201410084759.2有效
发明人：禹淼;朱健;郁元卫;吴璟;黄旼;王守旭 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2014-03-10 - 公布日： 2014-06-18 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明是采用硅片作为掩膜版控制薄膜沉积形貌的工艺方法，包括工艺步骤：1）将硅片按照所需要的图形刻蚀穿通，制作好硅片掩膜版；2）将待沉积薄膜的基片与硅片掩膜版固定，其中包括控制基片与硅片掩膜版之间的间距，以及基片与硅片掩膜版之间的图形对准；3）沉积薄膜层；4）基片与硅片掩膜版分离，并清洗硅片掩膜版用于重复使用。
采用硅片作为掩膜版控制薄膜沉积形貌工艺方法

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