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[实用新型]一种掩膜版用高精度二维运动机构-CN201822199944.2有效
发明人：王文杰 -专利权人：仪晟科学仪器（嘉兴）有限公司
申请日： 2018-12-26 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： G03F1/80 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版用高精度二维运动机构，包括二维压电陶瓷电机组件，用于实现在X轴和Z轴两个方向上进行运动；支撑板，设置于所述二维压电陶瓷电机组件的Z轴伸缩杆的底端；掩膜版支架，设置于所述支撑板一端的上方，用于放置掩膜版；第二压片，设置在所述掩膜版支架上，用于将所述掩膜版压紧在所述掩膜版支架上。本实用新型的掩膜版用高精度二维运动机构结构简单，使用方便，克服了薄膜器件生长掩膜版运动精度以及掩膜版位置控制的问题，并且掩膜版图案更换方便；由于二维压电陶瓷电机组件体积小、行程大、精度高，可以将掩膜版用高精度二维运动机构尺寸做到很小
掩膜版二维运动机构压电陶瓷电机二维支架本实用新型支撑板掩膜版图案掩膜版位置薄膜器件连续调节体积小行运动生长底端基底压紧压片

[发明专利]掩膜版的设计方法、制作方法和设计系统-CN201910498038.9有效
发明人：段芳芳;梁少端;杨晓宇;嵇凤丽 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2019-06-10 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： G06F30/392 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜版的设计方法、制作方法和设计系统，该设计方法包括：对蒸镀过程进行模拟仿真，蒸镀过程采用待补偿的掩膜版蒸镀膜层，掩膜版包括框架和固定在框架上的掩膜版本体，掩膜版本体包括交叉设置的多条掩膜条，交叉设置的多条掩膜条限定出多个开口；蒸镀过程结束后，提取每一掩膜条在第一方向和第二方向上的位置偏差数据，第一方向和第二方向为掩膜版的长度方向和宽度方向；根据位置偏差数据，对掩膜版进行位置偏移补偿，得到补偿后的掩膜版的设计数据本发明可以对蒸镀过程中因热和力耦合导致掩膜版产生的不均匀形变进行预补偿，降低掩膜版上的开口的位置与基板上的相应的位置之间的偏差，改善实际蒸镀膜层边界与设计值的差异。
掩膜版设计方法制作方法系统

[发明专利]一种大尺寸掩膜版下料装盒对位夹具-CN202210405234.9有效
发明人：张伟明;谭超华;李胜;卢东辉 -专利权人：合肥清溢光电有限公司
申请日： 2022-04-18 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种大尺寸掩膜版下料装盒对位夹具，包括固定在正面盒体内用于支撑掩膜版的支撑组件和用于固定所述支撑组件的的对位固定夹具，所述对位固定夹具对掩膜版进行限位；在膜盒内固定后的掩膜版，其中心与正面盒体中心和背面盒体中心三者共线；所述支撑组件包括支撑块和设置于所述支撑块上并具有支撑斜面的斜面垫块，所述对位固定夹具覆盖在所述支撑组件上并与正面盒体内表面固定；所述斜面垫块由对位固定夹具下方延伸出并支撑掩膜版；本发明的一种大尺寸掩膜版下料装盒对位夹具，能够在掩膜版放置在正面盒体内时进行自动对准中心，避免了人工测量和调整掩膜版位置，解决了现有技术中大尺寸掩膜版装盒存在的问题。
一种尺寸掩膜版下料装盒对位夹具

[实用新型]一种基于可调变掩膜版的曝光装置-CN201220064646.2有效
发明人：李文波;王刚 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2012-02-24 - 公布日： 2012-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于可调变掩膜版的曝光装置，其包括：曝光机主体，设置在所述曝光机主体上的可调变掩膜版，以及与所述可调变掩膜版相连的控制系统，所述曝光机主体用于采用所述可调变掩膜版进行曝光操作；所述控制系统用于控制所述可调变掩膜版图形的变化；所述可调变掩膜版用于对基板进行曝光，在基板上形成掩膜版图案。本实用新型设置了与可调变掩膜版相匹配的结构，以完成基板制作工艺中光刻胶的曝光，不同的曝光步骤中，掩膜版不需更换即可曝光，掩膜版在其正常使用寿命范围之内时也不需卸载，整个曝光装置结构简单，基板制作成本低，
一种基于可调变掩膜版曝光装置

[发明专利]环形掩膜版、光场调控方法、单像素成像方法及系统-CN202110250723.7有效
发明人：孙宝清;焦俊鹏;蒋文杰 -专利权人：山东大学
申请日： 2021-03-08 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： G06V10/88 文献下载
摘要：本发明属于光场调控领域，提供了一种环形掩膜版、光场调控方法、单像素成像方法及系统。其中，所述环形掩膜版的形状为环形；所述环形掩膜版上覆盖有掩膜版图案，所述掩膜版图案由透光区和不透光区构成。本发明的环形掩膜版造价成本低，且具有标志识别区，能够通过标记位的方式准确地确定掩膜版方位，进而提高了调制精度。
环形掩膜版调控方法像素成像系统

[发明专利]一种掩膜版和像素结构-CN201910734140.4有效
发明人：刘志乔 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-08-09 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种掩膜版和像素结构，所述掩膜版包括用于在显示面板的像素开口中制作子像素的掩膜开口；所述掩膜开口的面积大于对应的像素开口的面积；所述像素开口包括至少一条内凹的曲线边；所述掩膜开口包括至少一条掩膜边，且所述至少一条掩膜边与至少一条曲线边一一对应，每一条掩膜边的曲率小于其对应的曲线边的曲率。本申请的掩膜版的掩膜开口相对于对应的像素开口非等比例扩大，使得掩膜版的掩膜开口的不同位置的尺寸可在工艺余量内做调整，且避免了将掩膜开口的掩膜边做成内凹的曲线边，减小了掩膜版的掩膜开口的制备工艺难度，使得制备具有上述曲线边的像素结构的掩膜版可以实现量产
一种掩膜版像素结构

[发明专利]一种掩膜集成框架及蒸镀装置-CN201611243248.6有效
发明人：林治明;王震;张健 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-12-28 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种掩膜集成框架及蒸镀装置，涉及蒸镀技术领域。能够解决蒸镀材料易于在掩膜集成框架上精细金属掩膜版与待蒸镀基板之间间隙处囤积的问题。包括设置有中空区域的中空框架，包括有掩膜图案区以及无效掩膜区的精细金属掩膜版以及第一支撑条，精细金属掩膜版和第一支撑条分别沿第一方向和第二方向跨设于中空框架的中空区域，第一支撑条用于支撑精细金属掩膜版。其中，第一方向与第二方向之间相互交叉，精细金属掩膜版与第一支撑条相交于精细金属掩膜版的无效掩膜区，第一支撑条上设置有凹槽，精细金属掩膜版与第一支撑条相交的无效掩膜区位于凹槽内，凹槽的深度大于或等于精细金属掩膜版的厚度
一种集成框架装置

[发明专利]一种基于套刻技术的顶栅结构全固态记忆晶体管多变量掩膜版-CN202111181021.4在审
发明人：袁星星;张宝林;王丽萍;董江辉 -专利权人：桂林理工大学;桂林医学院
申请日： 2021-10-11 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： G03F1/68 文献下载
摘要：本发明涉及半导体器件制造领域，具体涉及一种基于套刻技术的顶栅结构全固态记忆晶体管多变量掩膜版；所述一种掩膜版，包括3块子掩膜版，具体为沟道掩膜版、源漏电极掩膜版以及栅极掩膜版；其中，沟道掩膜版包括8种不同的器件尺寸本发明掩膜版采用设备简单、易于控制、成膜效果好的磁控溅射法制备所需薄膜，制膜工艺兼容CMOS工艺，利于器件批量生产。本发明各部分材料为全固态材料，可优化有机材料和液态材料固有的降解和难封装问题。
一种基于技术结构固态记忆晶体管多变量掩膜版

[发明专利]蒸镀掩膜版维修装置、系统及方法-CN202111329940.1在审
发明人：王彦磊 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2021-11-11 - 公布日： 2022-02-08 - 主分类号： B23P6/00 文献下载
摘要：本申请实施例提供的蒸镀掩膜版维修装置、系统及方法，涉及显示技术领域。蒸镀掩膜版维修装置由维修基座部分及压头部分组成，在对蒸镀掩膜版进行修复时，将蒸镀掩膜版放置在维修基座部分上，通过压头部分中的压头作用在蒸镀掩膜版中缺陷的压力对蒸镀掩膜版中的异物缺陷和凹凸缺陷进行修复。如此，可以确保采用修复后的蒸镀掩膜版进行有机发光材料层蒸镀时，不会因蒸镀掩膜版中的缺陷使得蒸镀掩膜版与基板之间的距离不一，从而导致不同有机发光材料蒸镀混色的问题，确保制作得到的显示面板在显示时不会存在彩斑现象
蒸镀掩膜版维修装置系统方法

[发明专利]投影掩膜版的测试系统-CN201010613371.9有效
发明人：郭贵琦;赵蓓 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2010-12-29 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了投影掩膜版的测试系统，用于基于图像获取单元获得的待测试的掩膜版的缺陷图像进行分析，根据分析结果判断所述待测试的投影掩膜版的质量是否符合要求，所述投影掩膜版测试系统包括：图像分析单元，用于将所述缺陷图像与所述投影掩膜版对应的设计图像进行比较，获得所述缺陷图像与所述设计图像的偏差率；测试判断单元，基于所述图像分析单元输出的偏差率，与最大允许偏差率比较，所述输出偏差率未超出所述最大允许偏差率，则所述测试判断单元判断所述投影掩膜版质量符合要求；反之，所述测试单元判断所述投影掩膜版质量不符合要求。本发明利用软件测试投影掩膜版，降低了投影掩膜版的测试成本。
投影掩膜版测试系统

[发明专利]掩膜版及其制造方法、复合型掩膜版、真空干燥装置-CN202010353955.0有效
发明人：卢海秋;汪国杰 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： B41J11/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜版，所述掩膜版包括相对设置的第一表面和第二表面，所述掩膜版上设有若干通孔，每一所述通孔贯穿所述第一表面和所述第二表面，所述第一表面和所述第二表面上涂布有超疏水材料。本发明提供的掩膜版应用于真空干燥装置中，在真空干燥装置对打印有墨水的面板进行真空干燥的过程中，能够阻挡粘附在真空干燥装置的腔室的顶部的溶剂液滴滴落至面板，避免了面板上形成的薄膜不均匀的情况发生，改善了显示面板的显示效果本发明还提供该掩膜版的制造方法、具有该掩膜版的复合型掩膜版及具有该掩膜版或该复合型掩膜版的真空干燥装置。
掩膜版及其制造方法复合型真空干燥装置

[实用新型]掩膜版保护装置-CN201620611575.1有效
发明人：孙朴;吕守华 -专利权人：鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2016-06-20 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版保护装置，属于显示技术领域。所述掩膜版保护装置包括：密封部件和层叠设置的至少一个保护单元，所述至少一个保护单元中每个所述保护单元用于保护一张掩膜版，每个所述保护单元包括：隔离部件，所述隔离部件包括设置在所述掩膜版上表面的上隔离部件和设置在所述掩膜版下表面的下隔离部件本实用新型解决了现有技术中掩膜版保护装置保护掩膜版的可靠性较差的问题，实现了提高保护掩膜版的可靠性的效果，用于保护掩膜版。
掩膜版保护装置

[实用新型]光刻机的掩膜版冷却系统-CN201921518216.1有效
发明人：骆建钢;徐晓敏 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2019-09-12 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻机的掩膜版冷却系统，所述光刻机包括曝光光源、光学镜头、掩膜版承载台，光学镜头位于掩膜版承载台的上方，所述系统包括：氮气冷却装置，其包括供气端、输气管和喷气管，氮气源和喷气管通过所述输气管连接，喷气管设在光学镜头的周侧且在竖直方向上位于光学镜头和掩膜版承载台之间，所述喷气管形成有多个喷气孔；水冷装置，其包括供水端、输水管和水冷管，冷水源和水冷管通过输水管连接，水冷管铺设在掩膜版承载台上且位于掩膜版和掩膜版承载台之间本实用新型利用氮气和水对掩膜版进行冷却，利用减少掩膜版的形变，改善产品的废品率。
光刻掩膜版冷却系统

[实用新型]一种掩膜版上下料装置-CN202222054763.7有效
发明人：虞栋;李国祥;王明芳 -专利权人：江苏高光半导体材料有限公司
申请日： 2022-08-05 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本实用新型提出的一种掩膜版上下料装置，涉及掩膜版清洗辅助设备领域。该掩膜版上下料装置包括升降台和掩膜版载具，掩膜版载具设置在升降台上；所述掩膜版载具包括支撑架，支撑架上设置有限位滚轮组和驱动机构，限位滚轮组设置在支撑架的上部，且配置为受驱动机构驱动并执行沿竖直方向的移动本实用新型掩膜版上下料装置，用于掩膜版清洗装置前的上料或者下料，不仅能够降低掩膜版上下料难度、劳动强度和人员成本，同时能够提高上下料效率和过程中的安全性。
一种掩膜版上下装置

[发明专利]一种在衬底上固定掩膜版的装置、使用方法及其用途-CN201310037002.3在审
发明人：刘志斌;赵斌;黄海东;陈凯 -专利权人：无锡力合光电传感技术有限公司;无锡力合光电石墨烯应用研发中心有限公司
申请日： 2013-01-30 - 公布日： 2013-05-22 - 主分类号： G06F3/044 文献下载
摘要：本发明涉及一种在衬底上固定掩膜版的装置，所述装置包括：基座；底座，设于基座上，用于放置衬底；底座上设若干磁铁，用于吸附具有磁性的掩膜版；掩膜版放置架，与基座活动连接，用于放置掩膜版。本发明提供的装置，能够将掩膜版固定在覆有透明导电膜层的基板上，使视窗触控区完全被掩膜版遮盖，而掩膜版的任何部位都不会遮挡引线电极区；解决了以石墨烯作为透明导电膜层的电容式触摸屏制备过程中存在的技术问题，
一种衬底固定掩膜版装置使用方法及其用途

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