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[发明专利]清洗掩膜版的方法以及装置-CN201810860307.7有效
发明人：徐倩;丁渭渭;嵇凤丽 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2018-08-01 - 公布日： 2020-08-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供了清洗掩膜版的方法以及装置。其中，清洗掩膜版的方法包括：提供待清洗的掩膜版，所述待清洗的掩膜版包括掩膜版本体以及待清洗金属，所述待清洗金属形成在所述掩膜版本体的至少一部分表面上；在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗
清洗掩膜版方法以及装置

[发明专利]一种金属掩膜版框、掩膜版组件及其张网加工方法-CN202210355669.7在审
发明人：钱超;李成林;张蔡星;杨柯 -专利权人：江苏高光半导体材料有限公司
申请日： 2022-04-06 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提出的一种金属掩膜版框、掩膜版组件及其张网加工方法，涉及金属掩膜版领域。金属掩膜版框包括固定框、四组活动框边和若干弹簧；固定框四周的外侧面上分布有若干个弹簧孔，弹簧孔沿相应的外侧面的法向向框体内部延伸；活动框边分别设置在固定框的四边上，且均与固定框的上侧面滑动连接，活动框边具有弹簧阻挡部掩膜版组件包括上述金属掩膜版框和金属掩膜版。张网时，通过朝向固定框中心的方向挤压移动活动框边到预设位置，然后将金属掩膜版张网并焊接在活动框边上。本发明能够抑制掩膜网面的下垂。
一种金属掩膜版框掩膜版组件及其加工方法

[实用新型]一种支撑用金属掩膜版和掩膜版组件-CN201920302809.8有效
发明人：王宝 -专利权人：南京高光半导体材料有限公司
申请日： 2019-03-11 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种支撑用金属掩膜版和掩膜版组件，属于OLED技术领域。一种支撑用金属掩膜版，其是由整张INVAR合金一体制作成型的网格结构，所述支撑用金属掩膜版的网格为镂空结构。本实用新型采用一体制作成型的镂空网格结构的金属掩膜版，完全可以取代现有技术的支撑条，在焊接到金属框架上时，只需要一次拉网，一次焊接，可以大大提高生产效率；而且一体成型的金属掩膜版无缝隙，解决了现有技术支撑条交叉处残留有机材料问题另外，由于整个支撑用金属掩膜版只有一个厚度，保证后期的多片精密金属掩膜能搭载在同一个平面上，使整个金属掩膜版表面的平整度大大提高。
金属掩膜支撑本实用新型一体制作掩膜版成型镂空网格结构一体成型的技术支撑金属框架精密金属生产效率网格结构一次焊接有机材料镂空结构交叉处平整度无缝隙支撑条多片网格掩膜合金拉网残留保证

[发明专利]三维偏置印录存储器-CN201510091366.9在审
发明人：张国飙 -专利权人：杭州海存信息技术有限公司
申请日： 2012-09-02 - 公布日： 2015-08-12 - 主分类号： H01L27/112 文献下载
摘要：与常规的三维掩膜编程只读存储器（3D-MPROM）相比，其所需的数据掩膜版的数量较少，故其掩膜版成本较低。对应于不同存储层/数码位的掩膜图形被合并到一多区域数据掩膜版上。在不同的印录步骤中，晶圆相对于该多区域数据掩膜版的偏置量不同。因此，来自同一数据掩膜版的数据图形被印录到不同存储层/数码位的数据录入膜中。
三维偏置存储器

[发明专利]三维偏置印录存储器-CN201210315596.5无效
发明人：张国飙 -专利权人：成都海存艾匹科技有限公司
申请日： 2012-08-30 - 公布日： 2014-03-26 - 主分类号： H01L27/112 文献下载
摘要：与常规的三维掩膜编程只读存储器（3D-MPROM）相比，其所需的数据掩膜版的数量较少，故其掩膜版成本较低。对应于不同存储层/数码位的掩膜图形被合并到一多区域数据掩膜版上。在不同的印录步骤中，晶圆相对于该多区域数据掩膜版的偏置量不同。因此，来自同一数据掩膜版的数据图形被印录到不同存储层/数码位的数据录入膜中。
三维偏置存储器

[发明专利]一种金属掩膜版的伴洗治具及清洗方法-CN202310458582.7在审
发明人：蔡则凡;张蔡星;李成林 -专利权人：江苏高光半导体材料有限公司
申请日： 2023-04-26 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： C23G3/00 文献下载
摘要：本发明提出的一种金属掩膜版的伴洗治具及清洗方法，涉及金属掩膜版清洗领域。清洗方法步骤包括：准备上述的伴洗治具；将伴洗治具与掩膜版共同浸没在清洗池中的清洗液内；优选地，将伴洗治具水平置于掩膜版下方，掩膜版水平置于伴洗治具的上方，或者掩膜版竖立置于伴洗治具的上方；清洗。将本发明应用于金属掩膜版的清洗，能够优化金属掩膜版清洗的效率和效果，降低清洗液的更换频次以及更换清洗液所投入的成本。
一种金属掩膜版伴洗治具清洗方法

[发明专利]一种制作半导体器件的方法-CN201310459990.0有效
发明人：舒强;张海洋;李天慧 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2013-09-27 - 公布日： 2017-09-01 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种制作半导体器件的方法，包括提供设计掩膜版，所述设计掩膜版包括多个设计主线条图案；通过延长所述设计主线条图案的长度或在所述设计主线条图案的端点处添加辅助虚拟条状图案，进而得到修正后的设计掩膜版；根据所述修正后的设计掩膜版制作光刻掩膜版；使用所述光刻掩膜版对晶片进行光刻和蚀刻；最后根据设计需要使用切割掩膜版切去不需要的辅助线条。根据本发明的制备半导体器件的方法，解决在进行硅半导体衬底的微图案制程时产生的线条容易断掉的问题，以确保掩膜版上的图案完整的转移到硅半导体衬底上，进而提高了制备的半导体器件结构的可靠性和生产效率。
一种制作半导体器件方法

[发明专利]一种OPC中双掩膜版的检测方法-CN201410033150.2有效
发明人：王铁柱 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-01-24 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明涉及一种OPC中双掩膜版的检测方法，包括：步骤（a）提供第一掩膜版和第二掩膜版，并确定所述第一掩膜版中需要清除的图案以及需要最终保持的图案；步骤（b）执行常规检查步骤，以确保所述第二掩膜版包围所述需要清除的图案，同时不会和所述需要最终保持的图案形成接触；步骤（c）执行工艺变量检查步骤，以保证所述第二掩膜版的对准误差以及蚀刻误差在可接受范围之内。本发明的优点在于：能够最大程度的保证所述目标图案中所述双掩膜版的逼真；考虑了工艺过程中各种变量的影响，例如所述光刻对准位移（litho Overlay shift）、蚀刻偏差的变化（Etch bias 对于OPC过程以及OPC光刻掩膜版输出的运行时间影响非常小。
一种 opc 中双掩膜版检测方法

[发明专利]一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备-CN201610005888.7有效
发明人：王强;刘利宾 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-01-04 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种掩膜版的清洗装置及清洗方法、蒸镀设备。该掩膜版的清洗装置包括振荡装置，所述振荡装置设置于掩膜版上，所述振荡装置在所述掩膜版完成蒸镀后对其施加振动力，使所述掩膜版上的残留材料脱落。而且，该掩膜版的清洗装置还包括静电吸附装置，所述静电吸附装置通过产生的静电吸附所述掩膜版上的残留材料。本发明利用超声振荡原理实现的有机发光材料清洗方法，可以有效避免有机溶剂和高温汽化等清洗方法带来的掩膜版损坏、资源浪费和环境污染等问题。
一种掩膜版清洗装置方法设备

[发明专利]掩膜版张网装置及张网方法-CN201911012810.8有效
发明人：范柳彬;李文星;张蔡星;付佳;李金库 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2019-10-23 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜版张网装置及张网方法，通过在支撑架上的沿Y轴方向延伸的两条第二边框上分别设置相对的第一磁体和第二磁体，当沿Y轴方向拉伸子掩膜版时，子掩膜版在拉力作用下磁性金属边框内缩发生形变，此时第一磁体和第二磁体可沿X轴正方向和X轴负方向上分别对磁性金属边框施加方向相反的磁力，在磁力作用下可缓解磁性金属边框的形变，缓解拉伸子掩膜版造成的形变，提高掩膜版精度，进而提高显示面板的良率。另外，将子掩膜版与支撑架固定，还可以提升子掩膜版的强度，可以提高掩膜版蒸镀及清洗过程中的稳定性。
掩膜版张网装置方法

[发明专利]一种金属掩膜版框架安全夹具-CN202011546493.0有效
发明人：钱超;杨波 -专利权人：江苏高光半导体材料有限公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： B25B11/00 文献下载
摘要：本发明公开了掩膜版技术领域的一种金属掩膜版框架安全夹具，包括固定基座和夹具支架，夹具支架之间设置有对位部件，所述对位部件可向内部进行手动滑动，夹具支架上安装气动微调节夹具，气动微调节夹具用微气流作为动力，推动夹持部对掩膜版的框架侧边进行夹持，调节夹持力度，冲支台对掩膜版的底部区域进行缓冲支撑，掩膜版整体底部受力均匀，本发明通过设置对位部件将掩膜版的框架进行挤压对齐，保证掩膜版在夹持前保持稳定和正确的夹持姿态，通过设置的气动微调节夹具通过控制气体的流速控制夹头的夹持力度，气体推动提供推力更加便于对精密部件的缓冲夹持，避免机械结构操作的夹持力过大对掩膜版外部造成损伤。
一种金属掩膜版框架安全夹具

[发明专利]掩膜版-CN202010388822.7有效
发明人：赵钰;徐鹏 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2020-05-09 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供了掩膜版。该掩膜版包括：矩形区；两个夹爪区，两个所述夹爪区分别位于所述矩形区相对的两个边上，所述夹爪区具有彼此正对设置的第一边和第三边、第二边和第四边，所述第一边位于所述矩形区的边上，第二边和第四边之间的最小水平间距小于所述第一边的边长由此，在对掩膜版进行张网时，可以有效改善掩膜版的平坦度和下垂量；而且相比现有的结构的掩膜版，本申请的掩膜版的夹爪区的数量较少，可以减弱张网使得复杂度和简化仿真；同时，可以突破对掩膜版尺寸的限定，设计尺寸更大的掩膜版
掩膜版

[发明专利]金属掩膜版切割防护设备-CN202110255638.X有效
发明人：钱超;杨柯;牛恩众;余强根 -专利权人：常州高光半导体材料有限公司
申请日： 2021-03-09 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： B23Q11/08 文献下载
摘要：本发明公开了金属掩膜版切割防护设备，涉及掩膜版切割防护设备技术领域，具体为金属掩膜版切割防护设备，包括第一伺服电机，所述第一伺服电机的输出轴上固定套接有驱动盘，所述驱动盘正面的边缘处固定连接有驱动柱，所述驱动柱的外表面活动套接有驱动套杆的一端该金属掩膜版切割防护设备，通过卡爪的上表面为平整的矩形，所述卡爪上表面向内的一侧开设有固定槽口与第二液压伸缩杆、承载台、升降套管、棘轮之间相互配合能够使得被拨动杆运输过来的掩膜版被承载台运输到卡爪上，能够实现切割掩膜版在防护机箱的内腔中和取拿掩膜版在防护机箱的外侧，可以有效的解决切割掩膜版时会迸溅碎料而存在隐患。
金属掩膜版切割防护设备

[实用新型]一种掩膜版组件以及蒸镀装置-CN201920182080.5有效
发明人：邱少亚;陈凯凯;卢贝贝 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2019-02-01 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版组件以及蒸镀装置。该掩膜版组件包括：框架、支撑片、掩膜版以及遮蔽片，支撑片设置在框架靠近掩膜版的一侧，遮蔽片设置在支撑片远离框架的一侧，支撑片用于支撑掩膜版和遮蔽片，掩膜版包括至少一个开口区，开口区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，遮蔽片包括至少一个有效遮蔽区，有效遮蔽区在掩膜版上的垂直投影与无效蒸镀区重合，其中，掩膜版的开口区的无效蒸镀区与遮蔽片的有效遮蔽区一一对应。
掩膜版遮蔽片蒸镀支撑片开口区遮蔽区本实用新型垂直投影阴影效应蒸镀装置重力作用组件包括下垂量重合减小缓解支撑

[实用新型]掩膜版承载装置-CN202022939748.1有效
发明人：王传生 -专利权人：苏州盟萤电子科技有限公司
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： B65D61/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种掩膜版承载装置，包括顶板、底板及设于顶板与底板之间的若干支撑柱，所述顶板、底板及支撑柱之间形成收纳掩膜版的收纳空间，所述收纳空间的侧面设有供所述掩膜版进出的开口，所述支撑柱朝向收纳空间的一侧自上而下设有多个用于支撑掩膜版的承载组件，所述承载组件包括支撑块及缓冲件，所述支撑块包括倾斜部及水平部，所述水平部设于所述倾斜部的下方并向内突伸，所述水平部用于搭载掩膜版，所述缓冲件在竖直方向上高于所述倾斜部，所述缓冲件为有机高分子缓冲件。如此设置，使得装载掩膜版时，掩膜版的边缘可以自缓冲件上方向下放置在支撑块的水平部上，防止掩膜版划伤或碰伤。
掩膜版承载装置