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[发明专利]闪存器件的掩膜版及制造方法-CN202010986500.2在审
发明人：陈宏 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2020-12-11 - 主分类号： H01L27/11521 文献下载
摘要：本发明提供一种闪存器件的掩膜版及制造方法，所述闪存器件的掩膜版包括有源区掩膜版和浮栅掩膜版，所述有源区掩膜版包括：存储掩膜版区和外围掩膜版区，所述存储掩膜版区和所述外围掩膜版区的交界处设有一第一有源区图形，在闪存器件的制造方法中，通过所述有源区掩膜版，可以在所述存储区和所述外围区的交界处定义第一有源区，在刻蚀外围区的介质层、控制栅层、浮栅层和浮栅氧化层时，由于所述存储区和所述外围区的交界处定义有第一有源区
闪存器件掩膜版制造方法

[发明专利]一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置-CN201810996408.7有效
发明人：高国涵;范斌;李志炜;雷柏平;边疆;刘鑫 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2018-08-29 - 公布日： 2020-03-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置，包括真空泵、机架、挡板阀、支撑台限位器、真空腔体、掩膜支撑台、放气阀、真空计、顶压机构、密封门开合机构、密封门、薄膜支架、柔性薄膜、密封垫、光刻掩膜版其中掩膜支撑台可承载光刻掩膜版与待贴附的薄膜移动进出真空腔体，光刻掩膜版与柔性薄膜分离并间隔密封垫，支撑台限位器将掩膜支撑台定位，密封门关闭，真空泵与真空计控制真空度，顶压机构作用使薄膜支架下降，实现柔性薄膜与掩膜版表面的密封垫紧密接触形成密闭空间，放气阀在密闭空间以外破坏真空引入压差，使该密闭空间压缩实现柔性薄膜与掩膜版表面紧密贴附，取出掩膜支撑台将掩膜版与柔性薄膜作为整体以待曝光。
一种用于柔性薄膜衬底接触光刻真空装置

[实用新型]一种掩膜板拼接精度检测装置-CN202321022226.2有效
发明人：郑卫东;李付英 -专利权人：深圳市柯宝原科技有限公司
申请日： 2023-05-04 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜板拼接精度检测装置，包括第一安装板、移动杆和第一螺纹杆，所述第一安装板的顶部安装有第二安装板，所述第二安装板的背面贯穿活动安装有移动杆，所述移动杆的一端安装有显微镜，所述第二安装板的背面对称贯穿活动安装有第一移动板本实用新型将两块拼接的掩膜版放置在两个第一移动板上方，转动第四螺纹杆带动橡胶垫对掩膜版进行下压固定，利用显微镜对掩膜版拼接处进行显微观察，从而判断掩膜版的拼接精度，通过前后移动移动杆能够带动显微镜前后移动，从而能够对掩膜版的不同位置进行显微观察，通过前后移动第一移动板能够带动掩膜版进行前后移动，从而可以将拼接不好的掩膜版进行调节，使掩膜版拼接的更加精准。
一种掩膜板拼接精度检测装置

[发明专利]一种掩膜版框架-CN201911047145.6在审
发明人：姜正文;李文星 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2019-10-30 - 公布日： 2019-12-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明属于OLED制备技术领域，公开了一种掩膜版框架。该掩膜版框架包括框架本体，框架本体包括多根首尾依次相连的边框，边框上设置有弧形的矫正结构，矫正结构沿所在的边框的长度方向延伸设置，矫正结构能够为框架本体提供预应力形变以矫正掩膜版形变，从而改善修正掩膜版上已经出现的内缩或外扩的变形现象，以提高像素位置精度，减少掩膜版报废数量，节约成本；还能够通过矫正结构调节预防掩膜版形变，保证产品质量。
掩膜版矫正边框框架本体形变长度方向延伸制备技术领域变形现象结构调节像素位置依次相连内缩外扩首尾报废修正节约预防保证

[发明专利]掩膜版的调整方法及制作方法-CN202111566041.3在审
发明人：孙琳;李露露 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2021-12-20 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜版技术领域，公开了一种掩膜版的调整方法及制作方法。通过确定掩膜版的框架的实际形变量与理论形变量的差异值，对理论反作用力的大小进行调整，得到目标反作用力并应用于制作掩膜版。其中，理论反作用力的调整幅度匹配该差异值，使得目标反作用力能够尽可能抵消掩膜单元施加于框架的拉力，进而缓解掩膜版上的掩膜开口的偏位情况，有利于提高所制作像素的像素位置精度。
掩膜版调整方法制作方法

[发明专利]一种基板承载装置及其使用方法-CN201810144017.2在审
发明人：盛科;方兴 -专利权人：南京中电熊猫液晶显示科技有限公司;南京中电熊猫平板显示科技有限公司;南京华东电子信息科技股份有限公司
申请日： 2018-02-12 - 公布日： 2018-07-31 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本发明公开了一种基板承载装置，包括：承载基板的托盘、设置在托盘上的悬浮掩膜版以及自锁装置，悬浮掩膜版的一侧通过铰链与托盘连接，悬浮掩膜版的另一侧通过自锁装置将基板固定于托盘和悬浮掩膜版之间，悬浮掩膜版与托盘连接处设有气缸衔接机构本发明还公开了一种使用该基板承载装置进行溅镀加工的方法，通过基板承载装置的托盘上设置有悬浮掩膜版，悬浮掩膜版随着玻璃基板一起移动，往来于大气和真空环境，当检测到溅镀膜厚不均的情况发生时，可以直接在大气环境下进行更换，从而不需要对溅镀机台进行破真空的操作，解决了悬浮掩膜版不能及时更换的问题，保证了镀膜均一性，从而提升了产品的质量，并且保证了生产效率。
掩膜版托盘悬浮基板承载装置自锁装置镀膜溅镀机台玻璃基板承载基板大气环境基板固定生产效率衔接机构真空环境均一性破真空铰链气缸保证检测移动加工

[发明专利]一种掩膜版金属框传送模块-CN202011599253.7有效
发明人：钱超;余洋;植启东;黄斌 -专利权人：南京深光科技有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于掩膜版技术领域，尤其是涉及一种掩膜版金属框传送模块，包括掩膜版金属框托盘，掩膜版金属框托盘的两端边缘处均设有多个缺口，掩膜版金属框托盘的四角处分别设有第一滑槽，第一滑槽内滑动连接有与之相匹配的第一滑块，嵌槽设置于缺口之间，嵌槽内设有稳定机构，述掩膜版金属框托盘的侧边固定连接有L形支撑杆，L形支撑杆上竖直设有第二滑槽，第二滑槽内滑动连接有与之相匹配的第二滑块，第二滑块与稳定机构固定连接。优点在于：本发明可使得掩膜版金属框在进行传输的过程中不直接与输送轨道相接触，并且还可更好的克服运动时的惯性摩擦，从而保证掩膜版金属框的表面规整干净，没有划痕，降低了刮伤的风险。
一种掩膜版金属传送模块

[实用新型]一种掩膜版组件及蒸镀装置-CN201920190060.2有效
发明人：卢贝贝;邱少亚;陈凯凯 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2019-02-11 - 公布日： 2019-12-03 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版组件及蒸镀装置。该掩膜版组件包括框架、遮蔽片以及掩膜版，遮蔽片设置在框架靠近掩膜版的一侧，遮蔽片包括至少一个遮蔽区、至少一个平衡区以及连接区，遮蔽区以及平衡区分设于连接区相对的两侧，且遮蔽片的重心与连接区的对称中心重合，掩膜版包括多个第一开口区，第一开口区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，遮蔽片的遮蔽区在掩膜版上的垂直投影与无效蒸镀区重合，其中，掩膜版的第一开口区的无效蒸镀区与遮蔽片的遮蔽区一一对应。本实用新型的技术方案可以降低掩膜版制作成本，减小蒸镀过程中混色或缺色风险，提高蒸镀良率。
掩膜版遮蔽片蒸镀遮蔽区开口区连接区本实用新型平衡区重合垂直投影对称中心蒸镀装置组件包括混色减小良率分设重心制作

[发明专利]一种精密金属掩膜版张网拉伸精确度检测方法-CN202110677014.7有效
发明人：钱超;杨柯;牛恩众;余强根 -专利权人：常州高光半导体材料有限公司
申请日： 2021-06-18 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种精密金属掩膜版张网拉伸精确度检测方法，本发明方法在拉伸前的掩膜版上设置激光标记点，通过实际点与理论点之间的距离来检测是否合格，可以在掩膜版用于蒸镀之前对掩膜版张网精确度进行检测，防止掩膜版投入使用后才发现张网不合格导致的蒸镀材料以及设备使用的能源浪费
一种精密金属掩膜版张网拉伸精确度检测方法

[发明专利]掩膜版及制备方法-CN202010025609.X在审
发明人：王梦凡;陈涛 -专利权人：合肥维信诺科技有限公司
申请日： 2020-01-10 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及一种掩膜版及制备方法。掩膜版包括：框架、支撑条以及掩膜条。支撑条具有第一安装部。掩膜条具有第一固定部。第一安装部与第一固定部的形状匹配，以固定掩膜条。本实施例中，支撑条与掩膜条的重叠区域通过第一安装部与第一固定部固定连接，可减小掩膜条的偏移，解决由于掩膜条流动导致的显示面板混色不良，提高产品良率。同时，支撑条与掩膜条的重叠区域通过第一安装部与第一固定部固定连接，可达到对掩膜版整体加固的效果，降低掩膜版在运输、清洗、对位、贴合等过程中发生振动损伤的风险，延长使用寿命，降低生产成本。
掩膜版制备方法

[发明专利]掩膜版设计方法-CN200910050692.X有效
发明人：程洁;舒强;黄宜斌;任亚然;陈明 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2009-05-06 - 公布日： 2010-11-10 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供掩膜版设计方法，以避免采用现有掩膜版进行电路图案转移时存在的光刻胶lifting和scum现象，该方法包括：当所述掩膜版的透光率小于预定值时，在该掩膜版上添加辅助图案。
掩膜版设计方法

[发明专利]一种掩膜支撑装置和非接触式曝光设备-CN202310947539.7在审
发明人：薛峰;邢吉文;杨鹏;谢淑俊;陈曦;曹葵康 -专利权人：苏州天准科技股份有限公司
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜支撑装置和非接触式曝光设备，属于掩膜版支撑定位领域或镀铜的图形化领域，掩膜支撑装置包括掩膜基座、载台侧边定位组件、掩膜载台和掩膜版；掩膜载台包括内设气道的载台体，在载台体的中部开设掩膜窗口；在载台体的侧边开设侧气孔，用于设置气阀；在载台体的底面开设多个底面定位孔，用于设置掩膜定位销；在载台体的底面还开设一个气槽孔和一个闭环气槽，气槽孔与闭环气槽和载台体的内设气道连通，用于抽真空吸附下方的掩膜版通过本申请的掩膜支撑装置，可以快速更换掩膜版，并实现快速高精度的定位，便于在掩膜应用领域推广应用。
一种支撑装置接触曝光设备

[发明专利]光掩膜版保护膜的去除系统及方法-CN201810967179.6在审
发明人：高丁山 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2018-08-23 - 公布日： 2020-03-03 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩膜版保护膜的去除系统及方法，光掩膜版保护膜的去除系统包括：气罩，底部设有凹槽，顶部设有与所述凹槽相连通的通孔；抽真空装置；吸气管路，一端经由所述通孔与所述凹槽相连通，另一端与所述抽真空装置相连接本发明的光掩膜版保护膜的去除系统可以在去除光掩膜版上的保护膜时先采用真空抽气的方式去除保护膜层，然后再去除环形边框，这样在保护膜去除的过程中就不会有保护膜层掉落在光掩膜版上，不会对光掩膜版造成污染，从而提升良率
光掩膜版保护膜去除系统方法

[发明专利]一种大尺寸光刻掩膜版基版表面镀膜精密导向与定位装置-CN202210999251.X在审
发明人：杨伟;万敏 -专利权人：成都中科卓尔智能科技集团有限公司
申请日： 2022-08-19 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： B66F9/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种大尺寸光刻掩膜版基版表面镀膜精密导向与定位装置，涉及光刻掩膜版加工技术领域。本发明包括承接架、定位架和导向架，所述承接架固定于转移车辆的货叉上，所述承接架上设置有若干支撑块，所述支撑块用于支撑光刻掩膜版，所述定位架固定于转移车辆车体上，所述定位架上设置有导向结构，所述定位架通过导向结构与导向架可滑动地接触本发明可以对转移用的转移车辆进入工位时进行导向，还能对加工中的光刻掩膜版进行接取定位，避免光刻掩膜版在运输过程中相对转移车辆发生位移，确保光刻掩膜版在进入下一工位时能够准确地将光刻掩膜版放置在指定位置。
一种尺寸光刻掩膜版基版表面镀膜精密导向定位装置

[实用新型]一种掩膜版抬版治具-CN202320834992.2有效
发明人：熊启龙;王亚腾 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2023-04-14 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： B65G7/12 文献下载
摘要：本实用新型涉及掩膜版用治具技术领域，公开了一种掩膜版抬版治具，包括支撑梁架、螺纹连接在支撑梁架上的锁紧螺母以及通过连接架转动设置在支撑梁架上的卡爪组件，所述卡爪组件设置有四组，所述卡爪组件包括持握部，所述支撑梁架的外伸端均设置有所述持握部，人员通过握紧所述持握部，使得卡爪组件互相靠近且夹紧彼此之间的掩膜版，所述卡爪组件在锁紧螺母的限位下不能够向上活动；松开持握部后，卡爪组件松开掩膜版且均向远离掩膜版的方向移动。本实用新型，2名人员即可轻松完成对于掩膜版的下料操作，同时移动过程中掩膜版夹持稳固不易发生碰撞以至于损坏。
一种掩膜版抬版治具