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[发明专利]一种液晶显示器光刻胶成膜的装置及方法-CN201710470757.0有效
发明人：王永 -专利权人：南京信息职业技术学院
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本发明公开了一种液晶显示器光刻胶成膜的装置，包括载物平台、导轨和移动板，第一移动板的前端连接有移胶装置，第二移动板的前端连接有滚胶装置；所述载物平台上设有光刻胶槽和玻璃基板固定装置，光刻胶槽内装有成膜母版方法是首先通过滚胶装置在成膜母版中形成光刻胶膜层；然后利用移胶装置将成膜母版中光刻胶转移至玻璃基板表面；最后通过烘干形成固态光刻胶膜层。本发明设备简单，可完成间歇式光刻胶成膜过程，过程操作容易、单次光刻胶用量较少，通过光刻胶成膜母版的置换，可适应多种尺寸的玻璃基板和成膜图形，光刻胶成膜具备选择性。
一种液晶显示器光刻胶成膜装置方法

[实用新型]一种液晶显示器光刻胶成膜的装置-CN201720719308.0有效
发明人：王永 -专利权人：南京信息职业技术学院
申请日： 2017-06-20 - 公布日： 2017-12-26 - 主分类号： G02F1/13 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种液晶显示器光刻胶成膜的装置，包括载物平台、导轨和移动板，第一移动板的前端连接有移胶装置，第二移动板的前端连接有滚胶装置；所述载物平台上设有光刻胶槽和玻璃基板固定装置，光刻胶槽内装有成膜母版方法是首先通过滚胶装置在成膜母版中形成光刻胶膜层；然后利用移胶装置将成膜母版中光刻胶转移至玻璃基板表面；最后通过烘干形成固态光刻胶膜层。本实用新型设备简单，可完成间歇式光刻胶成膜过程，过程操作容易、单次光刻胶用量较少，通过光刻胶成膜母版的置换，可适应多种尺寸的玻璃基板和成膜图形，光刻胶成膜具备选择性。
一种液晶显示器光刻胶成膜装置

[发明专利]成膜装置、检测装置、检测方法及电子器件的制造方法-CN202111113206.1在审
发明人：石井博;上田利幸;冈本直次郎;神野纮隆 -专利权人：佳能特机株式会社;株式会社沙迪克
申请日： 2021-09-23 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种抑制基板与掩模的对准的精度的降低的成膜装置、检测装置、检测方法及电子器件的制造方法。成膜装置具备：腔室，其将内部保持为真空；吸附板，其设置在腔室的内部，吸附基板；掩模台，其设置在腔室的内部，载置掩模；对准部件，其通过调整吸附于吸附板的基板和载置于掩模台的掩模在沿着基板的被成膜面的平面上的相对位置来进行对准；移动部件，其使吸附板相对于掩模台在与平面交叉的交叉方向上相对地移动；以及检测部件，其对载置于掩模台的掩模的交叉方向上的位置进行检测。
装置检测方法电子器件制造

[发明专利]CVD成膜装置-CN200880010406.0有效
发明人：山崎英亮;军司勋男;黑岩大祐 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-03-24 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供一种CVD成膜装置。该成膜装置通过加热机构加热被载置在载置台22的晶片W，同时使成膜用的气体在晶片的表面发生反应通过CVD在晶片W上形成规定的膜，该成膜装置具备具有母材24a和设置在母材的至少背面侧的低辐射率膜24b的覆盖部件24，该覆盖部件覆盖载置台22的晶片W的外侧部分。
cvd 装置

[发明专利]氧化镓半导体膜的制造方法及成膜装置-CN202180045966.5在审
发明人：渡部武纪 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2021-05-17 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： H01L21/365 文献下载
摘要：本发明是一种氧化镓半导体膜的制造方法，其使用雾化CVD法，包含以下工序：雾产生工序，在雾化部中雾化包含镓的原料溶液而产生雾；载气供给工序，向所述雾化部供给用于输送所述雾的载气；输送工序，经由连接所述雾化部与成膜室的供给管利用所述载气从所述雾化部向所述成膜室输送所述雾；整流工序，在所述成膜室中向基板的表面供给的所述雾及所述载气的流动被整流成沿着所述基板的表面的流动；成膜工序，对经过所述整流的雾进行热处理而在所述基板上进行成膜；以及排气工序，向所述基板的上方排出废气。由此，提供一种膜厚的面内均匀性、成膜速度优异的氧化镓半导体膜的制造方法。
氧化半导体制造方法装置

[发明专利]成膜装置-CN201980049511.3有效
发明人：饭塚八城 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：本发明的成膜装置中，载置台能够配置作为成膜对象的被处理体。气体供给部以与载置台相对的方式配置，设置有能够控制成规定温度的加热器，供给载气。气化部配置在载置台与气体供给部之间，由来自气体供给部的热量加热，使以液体的方式供给的成膜材料气化。
装置

[发明专利]成膜装置、调整装置、调整方法及电子器件的制造方法-CN202111113844.3在审
发明人：石井博;唐泽拓郎 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2021-09-23 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供一种抑制基板与掩模的对准的精度的降低的成膜装置、调整装置、调整方法及电子器件的制造方法。成膜装置具备：腔室，其将内部保持为真空；吸附板，其设置在腔室的内部，吸附基板；掩模台，其设置在腔室的内部，载置掩模；以及对准部件，其进行吸附于吸附板的基板与载置于掩模台的掩模的对准。另外，成膜装置具备调整部件，所述调整部件在腔室的内部保持为真空的状态下，调整吸附板与掩模台的相对倾斜。
装置调整方法电子器件制造

[发明专利]面膜自动灌装生产线-CN201910956196.4在审
发明人：王晓军;龙金旺;徐维国 -专利权人：武汉芘芘薇莎生物科技有限公司
申请日： 2019-10-09 - 公布日： 2019-12-27 - 主分类号： B65B43/50 文献下载
摘要：本发明公开一种面膜自动灌装生产线，包括膜盘旋转机、膜盘上料机、面膜胶料灌装机及膜盘搬运机，膜盘旋转机包括成膜机架及成膜转盘，成膜机架具有装膜盘工位、灌装工位以及卸膜盘工位，成膜转盘上设有至少三个载物盘，在成膜转盘的转动作用下，每一载物盘可先后达到至装膜盘工位、灌装工位以及卸膜盘工位，膜盘旋转机还包括成膜旋转驱动装置，用以驱动处于灌装工位处的载物盘转动，膜盘上料机用于将空置膜盘移送至处于装膜盘工位处的载物盘上，面膜胶料灌装机用于将面膜胶料灌装至处于灌装工位处的膜盘内，膜盘搬运机用以将处于卸膜盘工位处的膜盘转运至外界，实现了面膜自动灌装生产，提高了生产效率，实现了大批量生产。
膜盘成膜面膜灌装工位载物盘工位胶料转盘盘旋搬运机工位处灌装机上料机转动自动灌装生产线旋转驱动装置生产效率自动灌装灌装空置转运驱动生产

[实用新型]面膜自动灌装生产线-CN201921682328.0有效
发明人：王晓军;龙金旺;徐维国 -专利权人：武汉芘芘薇莎生物科技有限公司
申请日： 2019-10-09 - 公布日： 2020-07-14 - 主分类号： B65B43/50 文献下载
摘要：本实用新型公开一种面膜自动灌装生产线，包括膜盘旋转机、膜盘上料机、面膜胶料灌装机及膜盘搬运机，膜盘旋转机包括成膜机架及成膜转盘，成膜机架具有装膜盘工位、灌装工位以及卸膜盘工位，成膜转盘上设有至少三个载物盘，在成膜转盘的转动作用下，每一载物盘可先后达到至装膜盘工位、灌装工位以及卸膜盘工位，膜盘旋转机还包括成膜旋转驱动装置，用以驱动处于灌装工位处的载物盘转动，膜盘上料机用于将空置膜盘移送至处于装膜盘工位处的载物盘上，面膜胶料灌装机用于将面膜胶料灌装至处于灌装工位处的膜盘内，膜盘搬运机用以将处于卸膜盘工位处的膜盘转运至外界，实现了面膜自动灌装生产，提高了生产效率，实现了大批量生产。
面膜自动灌装生产线

[发明专利]喷雾器喷嘴、成膜装置、及成膜方法-CN201780014477.7在审
发明人：平野正树 -专利权人：拓自达电线株式会社
申请日： 2017-03-17 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： B05B7/16 文献下载
摘要：实现易于在狭小区域成膜的、喷雾器喷嘴、成膜装置、及成膜方法。喷雾器喷嘴1具备：载气的通道沿着该载气的流向而缩小的气体入口部(2)、载气的通道沿着该载气的流向而扩大的通路扩大部(3)、形成有将所述载气的通道与外部空间连通的一个或多个开口(4a)的开口形成部(4)、以及、所述载气的通道沿着该载气的流向而缩小的气体出口部(5)。
载气喷雾器喷嘴成膜成膜装置开口形成部气体出口部气体入口部外部空间狭小区域连通开口

[发明专利]成膜装置、成膜方法以及电子器件的制造方法-CN202011559965.6在审
发明人：金栽贤;永田透 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2020-12-25 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于抑制成膜精度降低或者卡紧性能变差的成膜装置。本发明的成膜装置配备有：掩膜一体型载置器，所述掩膜一体型载置器保持基板并且兼用作进行成膜动作时的掩膜；输送机构，所述输送机构在输送方向上输送所述掩膜一体型载置器；处理部，所述处理部对被保持于所述掩膜一体型载置器的基板进行处理；以及温度调整机构，所述温度调整机构在所述输送方向上配置于所述处理部的上游侧或者下游侧，用于调整所述掩膜一体型载置器的温度。
装置方法以及电子器件制造

[发明专利]成膜装置-CN201880097869.9有效
发明人：川尻明宏;稻垣重义 -专利权人：株式会社富士
申请日： 2018-10-18 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： B41F15/08 文献下载
摘要：成膜装置具备：成膜托盘(10)，具有载置导电性糊剂(54)的供给面(12)；刮板(30)，具有被按压于成膜托盘(10)的供给面(12)的下表面(32)；及第一凹部(14)，设于成膜托盘(10)，具有形成于成膜托盘(10)的供给面(12)的第一开口部(16)，构成为由刮板(30)的下表面(32)刮出的导电性糊剂(54)通过第一开口部(16)而进入该第一凹部(14)。
装置

[发明专利]喷墨图案转移制程及其装置-CN200610109742.3有效
发明人：余丞宏;余丞博 -专利权人：欣兴电子股份有限公司
申请日： 2006-08-09 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： B41M3/12 文献下载
摘要：一种喷墨图案转移制程及其装置，其中喷墨图案转移制程包括下列步骤：首先，提供一载具，并喷印油墨于载具上以形成一成膜图案；将成膜图案与一基板的表面进行面对面的接触；固化成膜图案；最后，移除载具以使成膜图案转印到基板的表面上喷墨图案转移装置包括一载具，用以放置喷墨所形成的一成膜图案，成膜图案适于与一基板的表面面对面接触；以及一固化器，用以固化成膜图案。本发明采用喷墨图案转移制程，而非直接形成于基板的表面上，因而当基板的表面上存在有通孔或盲孔时，可将载具上的成膜图案转印到通孔或盲孔上方及周围表面，而不会陷入于通孔或盲孔中，进而克服直接喷印于基板时，无法于孔洞上方及周围成膜的问题
喷墨图案转移及其装置

[发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法以及存储有程序的存储介质-CN200980138649.7无效
发明人：生田浩之;江面知彦;鎌田丰弘 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-09-18 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：蒸镀装置(10)具有：多个蒸镀源单元(100)，其具有材料容器(110a)与载气导入管(110b)，并使被收纳在材料容器(110a)中的成膜材料气化，借助从载气导入管(110b)导入的第1载气输送成膜材料的气化分子；连接管(200)，其与多个蒸镀源单元(100)连接，输送在各个蒸镀源单元中被输送的成膜材料的气化分子；旁路管(300)，其将第2载气直接导入连接管(200)；处理容器(Ch)，其内置有与连接管(200)连接的喷出机构(400)，并从喷出机构(400)喷出利用第1及第2载气输送的成膜材料的气化分子，在该处理容器内部对基板进行成膜处理。
装置方法以及存储程序介质

[发明专利]基板保持机构和成膜装置-CN201911173253.8在审
发明人：藤里敏章;望月隆;鸟屋大辅;铃木公贵;鲁和俊 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-11-26 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供基板保持机构和成膜装置。该基板保持机构能够在利用等离子CVD或等离子ALD成膜导电性膜时静电吸附被处理基板，该成膜装置使用了该基板保持机构。基板保持机构包括：载物台，其由电介质构成，用于支承被处理基板；吸附电极，其设于载物台内；以及加热器，其加热载物台，利用约翰逊·拉别克力将被处理基板静电吸附于载物台的表面，载物台具有：密合区域，其呈环状，位于载物台的表面的与被处理基板的外周相对应的位置，与被处理基板密合，而具有阻止用于成膜导电性膜的原料气体迂回到所述被处理基板的背面侧的功能；以及槽部，其呈环状设于载物台的表面的比密合区域靠外侧的部分，能够累积由原料气体生成的导电性沉积膜
保持机构装置