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- [发明专利]成膜装置、成膜方法以及基板载置台-CN201610425922.6有效
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田中诚治;里吉务
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东京毅力科创株式会社
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2016-06-16
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2018-09-28
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C23C14/12
- 本发明提供一种成膜装置、成膜方法以及基板载置台。能够形成均匀的膜，且能够仅在基板上形成膜。成膜装置具有基板载置台、对基板实施成膜处理的处理室和处理气体供给机构。基板载置台包括：其上表面成为载置基板的载置面的载置部；以包围载置部的外周的方式设置的外周环；将载置部的温度调节成能够利用处理气体进行成膜的第1温度的第1温度调节部；能够将外周环的温度调节成无法利用处理气体进行成膜的第2温度的第2温度调节部，在载置部和外周环之间，整周地设置有作为绝热部发挥功能的间隙，载置面形成得比基板小，间隙以在基板被载置到载置面时基板的超出部分整周地搭于外周环的方式形成。
- 装置方法以及基板载置台
- [发明专利]成膜方法-CN201980055286.4在审
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渡部武纪;桥上洋
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信越化学工业株式会社
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2019-06-13
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2021-04-02
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C23C16/455
- 本发明为一种成膜方法，其是在成膜部对雾进行热处理而进行成膜的成膜方法，其包括：在雾化部将原料溶液雾化而产生雾的工序；经由连接所述雾化部和所述成膜部的输送部，通过载气将所述雾从所述雾化部输送至所述成膜部的工序；以及，在所述成膜部对所述雾进行热处理，从而在基体上进行成膜的工序，当将所述载气的流量设为Q(L/分)、将所述载气的温度设为T(℃)时，以7＜T+Q＜67的方式对所述载气的流量和所述载气的温度进行控制。由此可以提供一种成膜速度优异的成膜方法。
- 方法
- [发明专利]成膜装置和成膜处理方法-CN201911364275.2有效
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神尾卓史;齐藤哲也;盐野海
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东京毅力科创株式会社
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2019-12-26
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2022-10-14
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C23C16/455
- 本发明提供一种成膜装置和成膜处理方法。提供一种能够使基板处理的面内均匀性提高并且抑制微粒的技术。提供一种成膜装置，该成膜装置具备：处理容器，其在内部形成真空气氛；载置台，其用于载置基板，具有设置到所述处理容器内的加热部件；气体喷出机构，其设置到与所述载置台相对的位置；以及排气部件，其从所述处理容器内排气，所述气体喷出机构包括：气体导入口，其用于向所述处理容器内导入处理气体；第1板状构件，其在比所述气体导入口靠外侧的位置具有第1开口部；以及喷淋板，其设置于所述第1板状构件与所述载置台之间，从所述第1开口部经由多个气孔向工艺空间供给所述处理气体
- 装置处理方法
- [发明专利]成膜装置、薄膜的制造装置及成膜方法-CN200680001338.2有效
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根岸敏夫
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株式会社爱发科
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2006-06-08
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2007-11-07
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C23C14/56
- 在短时间内实现多个膜的层叠。本发明的成膜装置(5R、5G、5B)具有移动室(45)和转台(51)，在转台(51)的窗部(52)上搭载有载置基板(9)的载置板(61)。使转台(51)旋转而移动窗部(52)时，载置板(61)在搭载基板(9)情况下与窗部(52)一起移动。使转台(51)旋转既定角度，从搬入场所(56a)输送新的基板(9)，将成膜处理后的基板(9)输送至其他成膜场所(57)，使空的载置板(61)从搬出场所(56b)暂时返回至搬入场所(56a)，因此可缩短将基板(9)搬送至各场所(56a、56b、57)的时间或载置板(61)返回的时间。
- 装置薄膜制造方法
- [发明专利]具有控制装置的蒸镀装置-CN201210186855.9无效
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生田浩之;吹上纪明
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东京毅力科创株式会社
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2008-02-27
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2012-10-10
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C23C14/24
- 本发明提供一种具有控制装置的蒸镀装置，蒸镀装置（100）利用在蒸镀源（110）中气化后的成膜材料对基板（G）进行成膜处理，控制装置（700）的存储部（710）存储表示成膜速度与载气流量之间的关系的多个表格成膜控制器（200）基于从用于检测成膜材料的气化速度的QCM（180）中输出的信号，求出在基板G上的成膜速度。载气调整部（760）使用存储于存储部（710）中的表格所示的表示成膜速度与载气流量的关系的数据，与利用成膜控制器（200）求出的成膜速度与作为目标的成膜速度的偏差对应地，为了获得期望的成膜速度而调整载气流量
- 具有控制装置
- [发明专利]蒸镀装置的控制装置及蒸镀装置的控制方法-CN200880007035.0有效
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生田浩之;吹上纪明
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东京毅力科创株式会社
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2008-02-27
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2010-01-06
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C23C14/24
- 本发明提供一种蒸镀装置的控制装置，是利用在蒸镀源(110)中气化后的成膜材料对基板(G)进行成膜处理的蒸镀装置(100)的控制装置(700)，控制装置(700)的存储部(710)存储表示成膜速度与载气流量之间的关系的多个表格成膜控制器(200)基于从用于检测成膜材料的气化速度的QCM(180)中输出的信号，求出在基板G上的成膜速度。载气调整部(760)使用存储于存储部(710)中的表格所示的表示成膜速度与载气流量的关系的数据，与利用成膜控制器(200)求出的成膜速度与作为目标的成膜速度的偏差对应地，为了获得期望的成膜速度而调整载气流量
- 装置控制方法
- [发明专利]成膜装置-CN201180065147.3有效
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织田容征;白幡孝洋;吉田章男
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东芝三菱电机产业系统株式会社
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2011-03-15
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2013-09-18
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C23C18/02
- 本发明的目的在于提供一种成膜装置，该成膜装置能够维持均匀薄雾向用于实施成膜的基板的喷出，且防止薄雾喷射用喷嘴周边的结构的庞大化。而且，本发明具备用于产生成为成膜原料的薄雾的薄雾产生器(2)、及将由薄雾产生器产生的薄雾向进行膜的成膜的基板进行喷射的薄雾喷射用喷嘴(1)。薄雾喷射用喷嘴具备：具有空心部(1H)的主体部(1A)；供给薄雾的薄雾供给口(5a)；将薄雾喷射到外部的喷射口(8)；供给载气的载气供给口(6a)；及形成有多个孔(7a)的淋浴板(7)。在此，通过淋浴板的配置，空心部被分割为与载气供给口连接的第一空间(1S)及与喷射口连接的第二空间(1T)，薄雾供给口与第二空间连接。
- 装置
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