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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201310279578.0在审
发明人：加藤寿;三浦繁博 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2013-07-04 - 公布日： 2014-01-22 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供成膜装置和成膜方法。成膜装置在真空容器内利用旋转台使配置在该旋转台的一面侧的基板公转，多次重复依次供给相互不同的处理气体的循环来层叠反应产物的层而获得薄膜，其包括：第1处理气体供给部；第2处理气体供给部；分离区域；主加热机构
装置方法

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201610390680.1在审
发明人：市冈圣菜;吉牟田利典;徳田敏;吉冈尚规;上野智子;尾崎悟 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2016-06-02 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置及成膜方法，在聚碳酸酯上形成金属薄膜的情况下，能防止金属薄膜剥离，另外，在其他树脂上形成金属薄膜的情况下，能提高金属薄膜的反射率。在不会使水分附着于从树脂成型机(63)搬出的成型后的工件(W)的表面的60秒以内的短时间内，完成从树脂成型机(63)中的工件导入部(62)向成膜腔室(10)搬送工件(W)。由此，能防止聚碳酸酯制的工件(W)的表面在成膜过程中发生水解，从而能防止通过溅射而形成的金属薄膜剥离这一现象。另外，通过减少附着于树脂基材的水分，能防止Al氧化而获得良好的反射率。
装置方法

[发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN201610188203.7在审
发明人：徳嵩佑;尾崎悟;吉冈尚规;田中优;西原隆治 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2016-03-29 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置以及成膜方法，减少成膜物从电极剥离。成膜装置包括腔室，存放工件；电极，配置在腔室内部，为了在工件上进行成膜而供给电力；以及温度调整装置，调整电极的温度，以使得在工件上进行成膜的一连串成膜处理中，在工件上进行成膜的成膜工序与成膜工序以外的工序中，电极的温度为大致固定，以免堆积于电极的成膜物从电极剥离。
装置以及方法

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201510186492.2在审
发明人：李汉隆;马宏俊;廖育麟;张志荣 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2015-04-20 - 公布日： 2016-11-23 - 主分类号： B32B37/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种成膜装置，其包括采用透明材质制成的收容治具，包括有有至少一个容置槽，所述至少一个容置槽用于收容待成膜的零件，所述至少一个容置槽的尺寸大于所述零件的尺寸；与所述收容治具相对的盖板，用于与所述收容治具相配合将所述零件收容于容置槽内本发明还涉及一种利用上述成膜装置的成膜方法。
装置方法

[发明专利]成膜方法及成膜装置-CN201610917404.6在审
发明人：市冈圣菜;吉牟田利典;德田敏;吉冈尚规;上野智子;尾崎悟 -专利权人：株式会社岛津制作所
申请日： 2016-10-20 - 公布日： 2017-07-25 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明提供一种即便在高速地执行溅射的情况下也能够提高金属薄膜的反射率的成膜方法及成膜装置。本发明的成膜方法包括加热工序，将树脂制的工件加热至构成该工件的树脂的软化温度以下的温度；搬入工序，将通过加热工序进行了加热的工件搬入成膜腔室内；减压工序，对成膜腔室内进行减压；非反应性气体供给工序，将非反应性气体供给至成膜腔室内；等离子体工序，对配设于成膜腔室内的等离子体电极施加高频电压；以及溅射工序，对包含靶材材料且配设于成膜腔室内的溅射电极施加电压。
方法装置

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201510090158.7在审
发明人：佐佐木贵博;织田真也;人罗俊实 -专利权人： FLOSFIA株式会社
申请日： 2015-02-27 - 公布日： 2016-10-05 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：提供一种成膜速率好，雾CVD法可以适用的成膜装置。该成膜装置，具备将原料溶液进行化或液滴化的雾化·液滴化部、以载气将在所述雾化·液滴化部产生的雾或液滴运送到基体的运送部、以及对该雾或该液滴进行热处理而于该基体上成膜的成膜部；成膜部是圆筒形，在成膜部侧面设置有所述雾或所述液滴的送入口，使所述雾或所述液滴旋回而产生旋回流；在成膜部顶面具有排气口。
装置方法

[发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN201711404461.5在审
发明人：竹泽由裕;坂下训康;中岛滋 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-12-22 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：成膜装置以及成膜方法。在对沿垂直方向多层地配置的状态的多个基板进行成膜处理时，使膜厚的面内均匀性和覆盖性能良好。成膜装置具有：基板保持构件，其以规定间隔沿垂直方向多层地保持多个被处理基板；处理容器，其收容保持有被处理基板的基板保持构件；处理气体导入构件，其具有对处理容器内的被处理基板平行地喷出处理气体的多个气体喷出孔
被处理基板处理气体处理容器气流调整成膜装置基板保持构件成膜多层喷出平行面内均匀性气体喷出孔成膜处理导入构件多个基板覆盖性能排气机构配置的喷出孔膜厚相向排气收容

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202010218432.5在审
发明人：兼村瑠威;竹泽由裕;熊谷圭太;藤田圭介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2020-10-20 - 主分类号： C23C16/24 文献下载
摘要：本公开提供一种能够改善膜厚度的面内均匀性的成膜方法和成膜装置。基于本公开的一个方式的成膜方法重复按照以下顺序连续地进行以下步骤的循环：向收容有基板的处理容器内供给非含卤硅原料气体；向所述处理容器内供给含卤硅原料气体；以及去除所述处理容器内的所述含卤硅原料气体。
方法装置

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202010288943.4在审
发明人：菊池康晃;山口达也;小原一辉;草岛龙司 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-04-14 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明一个方式提供一种成膜方法，其包括：成膜步骤，通过对收纳在处理容器内的基片交替地供给多种气体，使膜沉积于该基片；和在所述成膜步骤之前执行的成膜准备步骤，以与所述成膜步骤中要供给到所述处理容器内的全部气体的平均流量相同的流量供给非活性气体，且将所述处理容器内维持为与所述成膜步骤中的所述处理容器内的平均压力相同的压力。由此，可提供能够降低成膜的初始阶段中的温度变动的技术。
方法装置

[发明专利]成膜方法及成膜装置-CN202010589897.1在审
发明人：北见尚久;山本哲也 -专利权人：住友重机械工业株式会社;高知县公立大学法人
申请日： 2020-06-24 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供一种能够根据用途在适当的条件下进行氧化锌膜的成膜的成膜方法及成膜装置。成膜方法具备设定氧化锌膜的晶界散射贡献率与成膜时的中性氧的比率之间的相关性发生变化的拐点的工序(拐点设定工序S10)。此时，在中性氧的比率比拐点高的区域和中性氧的比率比拐点低的区域，相对于中性氧的比率的变化的规定特性的变化形态不同。成膜方法具备确定是采用中性氧的比率比拐点高的区域的条件还是采用中性氧的比率比拐点低的区域的条件的工序(条件设定工序S20)。由此，能够设定在中性氧的比率比拐点高的条件及中性氧的比率比拐点低的条件中更适合氧化锌膜的用途的条件。
方法装置

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201911315409.1在审
发明人：市原正浩 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-12-19 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种能够兼顾膜厚分布的均匀化和材料收获率的提高的成膜装置。蒸发源容器进行从在与成膜对象物的旋转轴正交的方向上离开旋转轴的分离位置向接近旋转轴的接近位置移动、并再次返回分离位置的往复移动，石英振荡器以维持与进行往复移动的蒸发源容器的相向状态的方式在腔室内移动，所述蒸发源容器在腔室内收纳成膜材料，配置于成膜对象物的下方，具有向上方开口的喷射口，所述石英振荡器设置于成膜监视器，所述成膜监视器获取从蒸发源容器蒸发的成膜材料相对于成膜对象物的成膜速率。
装置方法

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN202010201549.2在审
发明人：林宽之;藤田成树;熊谷圭太;藤田圭介 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-03-20 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： C23C16/24 文献下载
摘要：本公开提供一种能够改善膜厚度的面内均匀性的成膜方法和成膜装置。基于本公开的一个方式的成膜方法包括：降温步骤，一边使被收容于处理容器内的基板的温度从第一温度降温至第二温度，一边向所述处理容器内供给非含卤硅原料气体和含卤硅原料气体；以及恒温步骤，在所述降温步骤之后进行
方法装置

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201980027716.1在审
发明人：品田正人;户岛宏至;爱因斯坦·诺埃尔·阿巴拉 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-03-20 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：成膜装置具有：在处理腔室内的处理空间保持用于发射溅射粒子的靶的靶保持部、从靶发射溅射粒子的溅射粒子发射单元、具有供溅射粒子穿过的穿过孔的溅射粒子遮蔽板、设为能够遮蔽穿过孔的遮蔽构件、使遮蔽构件沿水平方向移动的移动机构
装置方法

[发明专利]成膜方法及成膜装置-CN201911146340.4在审
发明人：能势正章 -专利权人：柯尼卡美能达株式会社
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： C23C14/46 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供用于在基板上均质地形成膜厚极薄的纯物质膜或混合膜作为保护膜的、控制了成膜速度和材料比的成膜方法及成膜装置。本发明的成膜方法是在基板上通过从离子源所照射的离子束来进行溅射成膜的成膜方法，其特征在于，在上述基板与上述离子源之间配置溅射靶，对于该溅射靶的与上述基板对置的面的相反侧的面，通过离子束来进行溅射，在该基板上成膜
方法装置

[发明专利]成膜装置以及成膜系统-CN201911115831.2在审
发明人：本田淳雄 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2019-11-15 - 公布日： 2020-09-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及成膜装置以及成膜系统。寻求在真空腔的内部为大气压的状态和被减压后的状态下施加于腿部的载荷平衡的变化小且对准机构的动作精度高的成膜装置。成膜装置具有：能够对内部进行减压的真空腔和将所述真空腔的底面支承于地面的多个腿部，其特征在于，所述真空腔具有在投影于所述地面时投影形状为N边形的形状，所述成膜装置具有N+1个以上的所述多个腿部，所述多个腿部向所述地面投影的投影位置处于包含在所述真空腔的投影形状内的环形区域内
装置以及系统

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