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- [发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202180027330.8在审
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坂爪崇宽
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信越化学工业株式会社
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2021-03-22
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2022-12-02
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H01L21/365
- 本发明是一种成膜装置，其至少具备：雾化部，其雾化原料溶液而产生雾；连接于所述雾化部、并输送含有所述雾的载气的配管；输送向含有所述雾的载气中混合、并以1种以上的气体为主成分的添加用流体的至少一根以上的配管；与成膜部连接、并输送将含有所述雾的载气和所述添加用流体混合后的混合雾流体的配管；连接部件，其连接输送含有所述雾的载气的配管、输送所述添加用流体的配管、以及输送所述混合雾流体的配管；以及成膜部，其对所述雾进行热处理而在基体上进行成膜，通过所述连接部件连接的、输送所述添加用流体的配管与输送所述混合雾流体的配管所成的角是120度以上。由此，提供一种能够应用成膜速度优异的雾化CVD法的成膜装置。
- 装置方法
- [发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202180055657.6在审
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松中繁树;藤田笃史
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芝浦机械电子装置株式会社
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2021-09-15
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2023-05-02
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H01L21/203
- 本发明提供一种能够以高生产率形成GaN膜的成膜装置及成膜方法。实施方式的成膜装置1包括：腔室20，能够使内部为真空；旋转台31，设置于腔室20内，保持工件10，以圆周的轨迹循环搬送工件10；GaN成膜处理部40A，具有包含含有GaN的成膜材料的靶、及将导入至所述靶与所述旋转台之间的溅射气体G1等离子体化的等离子体产生器，通过溅射使含有GaN及Ga的成膜材料的粒子堆积于由旋转台31循环搬送的工件10；以及氮化处理部50，使在GaN成膜处理部40A中堆积的成膜材料的粒子在由旋转台31循环搬送的工件
- 装置方法
- [发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN201510131930.5有效
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中岛直人;羽田浩二;吉野裕文
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斯克林集团公司
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2015-03-25
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2017-08-22
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C23C16/27
- 本发明提供一种能够提高类金刚石膜的成膜效率的成膜装置以及成膜方法。成膜装置(10)具有腔室(1)，在内部形成有处理空间(V)；低电感的电感耦合式天线(21)，配置于处理空间(V)；高频电力供给部(24)，向电感耦合式天线(21)间歇性地供给高频电力；气体供给部(3)，向处理空间(V)供给含有碳氢化合物的气体；相对移动部(4)，使作为成膜的对象物的基体材料(9)相对于电感耦合式天线(21)移动；电压施加部(5)，在暂时停止向电感耦合式天线(21)供给高频电力的时间段，
- 装置以及方法
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