专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]靶材和离子源角度测量工具-CN202321312623.3有效
  • 孙卓杰;薛凯文;王世武 - 青岛海泰光电技术有限公司
  • 2023-05-29 - 2023-10-27 - C23C14/46
  • 本实用新型提供一种靶材和离子源角度测量工具。靶材取边器包括第一板和第二板,第一板和所述第二板呈直角设置,第一板上设置有贯通板面高度方向的靶材取边器桶槽;离子源取边器包括第三板和第四板,第三板和所述第四板呈直角设置,第四板上设置有贯通板面高度方向的离子源取边器桶槽;固定件穿过靶材取边器桶槽、离子源取边器桶槽以将靶材取边器、离子源取边器固定,且,靶材取边器、离子源取边器安装后,第一板和第二板形成的直角与第三板和第四板形成的直角相对;角度测量盘安装在固定件上。进行测量工作时,将将靶材取边器、离子源取便器的边沿分别对准待测靶材和待测离子源即可以完成角度读取,测量方便。
  • 离子源角度测量工具
  • [实用新型]离子溅射镀膜装置-CN202320296253.2有效
  • 张殷;孙紫娟;徐胜;孙伟;张小飞;何龙 - 苏州岚创科技有限公司
  • 2023-02-23 - 2023-08-15 - C23C14/46
  • 本实用新型涉及一种离子溅射镀膜装置,包括:腔体组件,所述腔体组件包括外壳体与内筒体,所述内筒体设置于所述外壳体内,内筒体的外壁与外壳体的内壁围成有工作腔,所述外壳体的侧壁开设有第一开口,所述第一开口与所述工作腔连通,工作状态下,所述工作腔为真空环境;离子溅射组件,所述离子溅射组件与所述外壳体连接;运输件,所述运输件设置于所述工作腔内,所述运输件用于携带基板在所述工作腔内运动。由于采用筒状的工作腔,其用于镀膜的表面积大于常规的伞具和行星轮结构所获得镀膜面积,有利于提高镀膜效率。另外,内筒体中间区域无需保持真空,为常压状态,有利于大幅降低泵体和加热的能耗,从而降低生产成本,提高经济效益。
  • 离子溅射镀膜装置
  • [发明专利]一种多方位角下的三维溅射沉积收集装置-CN202310750458.8在审
  • 王晓宇;苗龙;何梓豪 - 北京理工大学
  • 2023-06-25 - 2023-08-04 - C23C14/46
  • 本发明公开一种多方位角下的三维溅射沉积收集装置,包括真空仓,真空仓内设置有支撑底板和射频离子推力器,支撑底板的顶部可拆卸安装有溅射沉积三维收集机构,支撑底板的顶端设置有靶材,靶材设置于溅射沉积三维收集机构的内侧,射频离子推力器设置于溅射沉积三维收集机构的上方,射频离子推力器用于产生离子束,离子束用于轰击靶材。本发明通过实验收集多方位角度下的靶材溅射沉积质量,基于经离子轰击靶材后溅射粒子产生的三维球型溅射区域监测的需求,通过靶材及三维溅射沉积收集装置不同角度的摆放,实现离子不同轰击入射角的三维溅射区域监测。本发明采用机械结构组成,易于组装,加工简单,使用方便,数据采集稳定。
  • 一种多方位三维溅射沉积收集装置
  • [发明专利]一种磁过滤阴极弧沉装置及方法-CN202310105978.3在审
  • 潘高明;肖宇雄;潘建扬 - 嘉兴艾钛科纳米科技有限公司
  • 2023-02-08 - 2023-06-23 - C23C14/46
  • 本发明公开了涂层沉积技术领域的一种磁过滤阴极弧沉装置及方法,包括真空箱11、离子发生机构12、过滤管、多个磁场发生器13、分离机构和沉积发生机构14,所述过滤管由竖直设置的第一直管、弯管和横向设置的第二直管卡合组成,所述分离机构设置在真空箱11内,所述分离机构用于使第一直管、弯管和第二直管分散或相互卡合;本发明采用真空箱11为设备结构提供真空环境,进一步的为第一直管、弯管和第二直管的可分离式设计提供使用基础,进一步的,使过滤管的管壁上的金属液滴增多至需要对过滤管的管壁进行清理时,能够通过分离机构使第一直管、弯管和第二直管之间相互分离,使后续对管壁的清理更加简单。
  • 一种过滤阴极装置方法
  • [发明专利]离子溅射镀膜装置-CN202310158540.1在审
  • 张殷;孙紫娟;徐胜;孙伟;张小飞;何龙 - 苏州岚创科技有限公司
  • 2023-02-23 - 2023-05-16 - C23C14/46
  • 本发明涉及一种离子溅射镀膜装置,包括:腔体组件,所述腔体组件包括外壳体与内筒体,所述内筒体设置于所述外壳体内,内筒体的外壁与外壳体的内壁围成有工作腔,所述外壳体的侧壁开设有第一开口,所述第一开口与所述工作腔连通,工作状态下,所述工作腔为真空环境;离子溅射组件,所述离子溅射组件与所述外壳体连接;运输件,所述运输件设置于所述工作腔内,所述运输件用于携带基板在所述工作腔内运动。由于采用筒状的工作腔,其用于镀膜的表面积大于常规的伞具和行星轮结构所获得镀膜面积,有利于提高镀膜效率。另外,内筒体中间区域无需保持真空,为常压状态,有利于大幅降低泵体和加热的能耗,从而降低生产成本,提高经济效益。
  • 离子溅射镀膜装置
  • [发明专利]一种利用率高的靶材系统及其使用方法-CN201710291171.8有效
  • 刘伟基;冀鸣;陈蓓丽 - 中山市博顿光电科技有限公司
  • 2017-04-28 - 2023-05-12 - C23C14/46
  • 本发明涉及离子源溅射技术领域,更具体地,涉及一种利用率高的新型靶材系统及其使用方法,该新型靶材系统包括第一背板、第二背板、密封腔、第一驱动装置、旋转轴及第二驱动装置;密封腔设于第一背板与第二背板之间,第一驱动装置固定于密封腔内并与第一背板及第二背板同轴连接;旋转轴的两端分别与第二驱动装置及密封腔连接。通过控制旋转轴的旋转以使第一背板和第二背板先后正对离子源溅射装置,且溅射过程中控制第一背板和第二背板持续转动,以增加离子源溅射装置溅射的靶材表面积;本发明不但能大幅度提高靶材的利用率,降低生产成本,而且能保证靶材材料沉积速率的稳定性,保证制造的薄膜不受污染。
  • 一种利用率系统及其使用方法
  • [实用新型]一种离子束沉积装备-CN202223555843.7有效
  • 张松林 - 成都超迈光电科技有限公司
  • 2022-12-30 - 2023-04-07 - C23C14/46
  • 本实用新型涉及薄膜技术领域,具体涉及一种离子束沉积装备,包括壳体,壳体内设有真空腔室,真空腔室的顶部设有电动伸缩柱,电动伸缩柱的下端连接有镀膜件,真空腔室的顶部且在电动伸缩柱的两侧均设有支撑柱,支撑柱的下端设有倾斜设置的离子源,真空腔室内设有两个靶台,真空腔室的底部设有用于对靶台进行支撑的支撑组件,壳体的一侧设有与真空腔室相连通的抽真空装置,真空腔室的顶部且在电动伸缩柱分别与两个支撑柱之间均设有用于检测靶台上端面的倾斜角度的角度检测传感器,解决多边形设置的靶台进行转动后对靶台平面的角度缺少相应的检测装置,当转动后的靶台上端面发生倾斜后会造成镀膜工件表面镀膜厚度不一,造成产品加工不达标的问题。
  • 一种离子束沉积装备
  • [发明专利]一种斜入射高性能窄带滤光薄膜的制备方法-CN202211491382.3在审
  • 张锦龙;汲小川;焦宏飞;程鑫彬;王占山 - 同济大学
  • 2022-11-25 - 2023-03-07 - C23C14/46
  • 本发明涉及一种斜入射高性能窄带滤光薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤1:分别制备倾斜沉积的高、低折射率材料的单层膜;步骤2分别测试高、低折射率材料的单层膜的透射率和反射率曲线,根据透射率和反射率分别拟合获取高、低折射率材料的单层膜的厚度和折射率参数;步骤3:根据高、低折射率材料的单层膜的厚度和折射率参数,设计并确定在工作角度下,五腔窄带滤光薄膜的膜系结构;步骤4:根据五腔窄带滤光薄膜的膜系结构,制备斜入射高性能窄带滤光薄膜,并测试斜入射高性能窄带滤光薄膜的透射光谱。与现有技术相比,本发明能够解决现有技术中入射角度大于25°时窄带滤光薄膜的光学特性会发生显著变化的问题,且薄膜透过率高。
  • 一种入射性能窄带滤光薄膜制备方法
  • [实用新型]一种特殊的离子源挡板-CN202221184731.2有效
  • 周志辉;殷海明 - 东莞市长益光电股份有限公司
  • 2022-05-13 - 2022-11-22 - C23C14/46
  • 本实用新型公开了一种特殊的离子源挡板,包括顶层板、底层板,所述顶层板位于底层板的顶部,所述底层板顶部的中间开设有通孔,所述顶层板的一侧固定连接有连接杆一,所述底层板的一侧固定连接有连接杆二,所述顶层板的底部开设有空腔,且顶层板的底部为圆锥状的设计。该特殊的离子源挡板,使用了两层挡板设计,底层板使用中空圆环状设计,由于接触离子源面积变小,受力降低,挡板将不容易变形;顶层板使用比通孔中心面积略大的小挡板,能有效的将中心处聚集的离子源粒子反射到挡板处,而不是全部反射到离子源本体上,从而提高离子源使用寿命及稳定性,加上挡板较小,受力小,顶层板也不容易发生形变。
  • 一种特殊离子源挡板
  • [发明专利]一种脉冲离子源镀膜引出装置-CN202110446190.X有效
  • 郭春刚;程国安;郑瑞廷 - 北京师范大学
  • 2021-04-25 - 2022-07-26 - C23C14/46
  • 本发明涉及一种脉冲离子源镀膜引出装置,包括脉冲电极,阴极靶材和阳极;阳极包括外筒体和内部的阳极环;阴极靶材与外筒体之间导通;所述阳极环与外筒体之间设置有绝缘材料;阴极靶材为柱状,插入外筒体内,并位于外筒体中的阳极环上方;阴极靶材中心线穿过阳极环的中心孔;阴极靶材与驱动电机传动连接,驱动阴极靶材向阳极环进给;阴极靶材的离子发射端外侧套设有脉冲电极,并且阴极靶材的裸露端伸出脉冲电极,阴极靶材与脉冲电极之间设置有绝缘套;阳极环连接电源的正极,阴极靶材连接电源的负极或接地,脉冲电极连接脉冲电源。本发明离子源引出的离子束可以持续不断,引出的离子束质量提高,分布均匀。
  • 一种脉冲离子源镀膜引出装置

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