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[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN200880023545.7有效
发明人：高桥庆一;美浓辰治;吉田雅宪 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2008-07-22 - 公布日： 2011-02-16 - 主分类号： C23C24/04 文献下载
摘要：本发明的成膜方法包括下述工序：通过向保持了原料粉体(7)的第1室(8)间歇地导入输送气体(5)，将原料粉体(7)和输送气体(5)混合从而生成第1气溶胶；通过向第2室(9)导入第1气溶胶从而生成第2气溶胶；以及通过向第3室(13)喷射第2气溶胶从而形成原料粉体(7)的膜。
方法装置

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN200880022669.3有效
发明人：高木俊夫 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-09-03 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： H01L21/31 文献下载
摘要：一种成膜装置，边加热载置台的载置面，边在真空气氛下从与上述载置台相对的处理气体供给部向基板供给处理气体，从而进行成膜处理，其特征在于，具有：用于使上述载置台升降到对基板进行成膜处理的处理位置的升降机构；
装置方法

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN200880122797.5有效
发明人：林信博;小林洋介;齐藤隆雄;饭岛正行;多田勋 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2008-12-12 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种成膜装置及成膜方法，以实现缩短在冷凝负荷较大时的排气系统的排气时间，从而提高生产性。为达到上述目的，本发明的对多个基材同时进行成膜处理的成膜装置包括：支承单元(50)，其具有支承部(55)，该支承部(55)对多个基材(2)进行支承，使其位于旋转轴的周围且可自由旋转；真空腔(10)，其具有处理室(14)，该处理室收装上述支承单元，且该支承单元可在该处理室中自由旋转；成膜源(57、60)，其配置在上述真空腔(10)的内部；低温排气部(21)，其具有低温冷凝源，该低温冷凝源配置在上述真空腔(10)
装置方法

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN200780047845.4有效
发明人：森崎英介;小林洋克;吉川润;泽田郁夫;木本恒畅;川本典明;明田正俊 -专利权人：东京毅力科创株式会社;罗姆股份有限公司
申请日： 2007-11-29 - 公布日： 2009-10-28 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置和成膜方法，该成膜装置包括：内部被保持为减压空间的处理容器；由以碳为主要成分的材料构成、用于在处理容器内保持基板的基板保持部；配置在处理容器的外侧、用于感应加热基板保持部的线圈；和以覆盖基板保持部上述的减压空间被分离为用于供给成膜气体的成膜气体供给空间，和在基板保持部与处理容器之间被划分形成的绝热空间，绝热空间被供给冷却介质。
装置方法

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN200880000148.8有效
发明人：五味淳;水泽宁;波多野达夫;原正道;横山敦;多贺敏 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-02-19 - 公布日： 2009-09-23 - 主分类号： C23C16/16 文献下载
摘要：本发明涉及一种成膜方法，其通过向被处理基板的表面上供给羰基金属原料的气相分子，在所述被处理基板表面附近使其分解，而在所述被处理基板的表面上堆积金属膜，设置有在所述被处理基板表面堆积金属层时，使与所述被处理基板外周部分邻接的区域中的所述羰基金属原料优先分解的工序，使得在所述被处理基板外周部附近的气氛中CO浓度局部增大，抑制金属膜在所述外周部的堆积。
方法装置

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN200880006245.8有效
发明人：中村肇;有马央恭;今村俊一;齐藤一也 -专利权人：株式会社爱发科
申请日： 2008-02-25 - 公布日： 2010-01-20 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明涉及一种成膜装置，用反应性溅射法在保持在溅射成膜室内的基板的表面形成化合物薄膜，所述溅射成膜室包括将对成膜在所述基板的表面的化合物薄膜的膜质进行调整的膜质调整用气体导入到所述基板的背面的第一膜质调整用气体导入设备
装置方法

[发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN200780025842.0有效
发明人：森崎英介;小林洋克;原岛正幸 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-11-29 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜装置和成膜方法，包括：内部维持在减压空间并且处理气体被供给在其中的处理容器；设置在处理容器的内部、用于保持基板的基板保持部；以及由含高熔点金属和碳化合物构成、设置在处理容器的内部、用于对基板进行加热的加热器
装置以及方法

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN200880018745.3有效
发明人：松本贤治;伊藤仁;根石浩司;小池淳一 -专利权人：东京毅力科创株式会社;国立大学法人东北大学
申请日： 2008-06-02 - 公布日： 2010-05-26 - 主分类号： H01L21/285 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜方法和成膜装置。使用含Mn原料气体(或含Mn原料气体和含Cu原料气体)和含氧气体(例如水蒸气)作为处理气体，通过热处理(CVD或ALD)在被处理体的表面形成含Mn薄膜或含CuMn合金膜薄膜。由此，能够在形成于被处理体表面的微细凹部内以高阶梯覆盖形成含Mn薄膜或含CuMn合金膜薄膜。
方法装置

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201280015418.9有效
发明人：山本昌裕 -专利权人：松下电器产业株式会社
申请日： 2012-02-15 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的成膜装置包括：真空腔(100)；基板保持件(5)，该基板保持件(5)在真空腔(100)中保持基板(6)；靶材(2)，该靶材(2)包含成膜材料，且具有相对于基板(6)的主面倾斜的主面；以及角度修正板(12)，该角度修正板(12)在由将靶材(2)的主面的外周与基板的主面的外周相连的线段(31、32)包围的空间区域(30)之外，并设置成覆盖基板的主面的上部空间，从真空腔(100)的正面观察，将基板的主面上的任意点设作B，将靶材(2)的主面上的至少中央处的点设作c时，从各个点B开始的相对于将各个点B与点c相连的各线成45度的各线上，存在有角度修正板(12)的主面上的至少一部分，角度修正板(12)的主面上的其它部分在与靶材
装置方法

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201180052234.5有效
发明人：竹之内崇;芹泽秀树 -专利权人： 3M创新有限公司
申请日： 2011-10-26 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： B29C51/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种不论被层合制品的尺寸、形状和数量如何均能以优异的均匀性和良好的贴合性层合膜的成膜装置(100)和方法。所提供的成膜装置(100)具有第一腔室(10、11)、第二腔室(20、21)、框式膜保持构件(30、31)和辅助压膜工具(40、41、42)，所述第一腔室(10、11)设有加热装置(50、51)并能保持真空或加压状态，所述第二腔室(20、21)被设置成能与第一腔室(10、11)接合和分离、设有在其上支承制品(300、310、320)的可移动支承台(60、61)并能保持真空或加压状态，所述框式膜保持构件(30、31)设置在第一腔室(10、11)和第二腔室(20、21)之间用于保持膜(200、210)，所述辅助压膜工具(40、41、42)具有当膜(200、210)在制品(300、310、320)的表面上层合时抑制所述膜的隆起的压膜部分
装置方法

[发明专利]成膜装置及成膜方法-CN201480027855.1有效
发明人：永峰明日香;玉垣浩 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2017-09-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：提供一种仅将磁铁单元和靶材替换就能够对应于基材的尺寸变更的成膜装置。本发明的成膜装置（1）是使用与基材（W）的正面对置的蒸发源（2）对被输送的基材（W）的表面进行成膜的装置，蒸发源（2）具有靶材（7）、背板（8）、磁铁单元（9）、阴极体（10）和冷却水流路（12）。
装置方法

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201280003216.2有效
发明人：盐野一郎;林达也;姜友松;长江亦周;宫内充祐;佐守真悟 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2012-09-26 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明提供一种能够高效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。其是基板支架12可旋转地配设在真空容器10内的成膜装置1，所述基板支架12具有用于保持2个以上基板的基体保持面，成膜装置1的构成为具有蒸镀源34和离子源38，其中，所述蒸镀源34按照如下构成配置在真空容器10内：使其向旋转停止时的基板支架12工作的情况下，能够对所述基体保持面的部分区域即第1区域(A3)供给比该第1区域以外的其他区域(残余区域)更多量的成膜材料；所述离子源38按照如下构成、配置和/或朝向设置在所述真空容器
方法装置

[发明专利]成膜方法及成膜装置-CN201180019919.X有效
发明人：盐野一郎;宫内充祐;姜友松 -专利权人：新柯隆株式会社
申请日： 2011-09-30 - 公布日： 2013-06-05 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明提供一种成膜方法，该成膜方法能够有效地形成在实用中耐用的并且耐磨耗性能被进一步提高的疏油膜。在成膜装置(1)具有离子源(38)和蒸发源(34)，该成膜装置(1)以在真空容器(10)内能转动的方式配置基板座(12)，该基板座(12)具有用于保持多个基板(14)的基体保持面；所述离子源(38)，以能够仅向着所述基体保持面的一部分区域照射离子的结构、配置以及/或方向被设置在所述真空容器(10)内；蒸发源(34)，以能够向着所述基体保持面的全部区域提供疏油膜的成膜材料的配置以及方向被设置在所述真空容器(10)内，该成膜装置被构成为：在所述蒸发源(34
方法装置

[发明专利]成膜装置和成膜方法-CN201180048181.X有效
发明人：长谷川彰;黑田俊也;真田隆 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2011-10-05 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种形成具有充分的阻气性且具有耐屈曲性的阻气性层叠膜的成膜装置。该成膜装置具有如下：真空室，其在内部收容基材；气体供给装置，其向该真空室内供给成膜气体，该成膜气体包含作为薄膜的原料的有机金属化合物和与该有机金属化合物发生反应的反应气体；一对电极，其配置在上述真空室内；等离子体发生用电源，其向这一对电极外加交流电力，使成膜气体的等离子体发生；控制部，其控制上述气体供给装置或上述等离子体发生用电源的任意一方或两方，切换第一反应条件和第二反应条件，所述第一反应条件是，通过所述有机金属化合物和反应气体反应
装置方法

[发明专利]成膜方法和成膜装置-CN201280003215.8有效
发明人：盐野一郎;林达也;姜友松;长江亦周;宫内充祐;佐守真悟 -专利权人：株式会社新柯隆
申请日： 2012-08-02 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： C23C14/02 文献下载
摘要：本发明提供可有效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜的耐磨耗性能不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。本发明的成膜装置(1)为将具有用于保持两个以上基板(14)的基体保持面的基板支架(12)可旋转地配设在真空容器(10)内的成膜装置(1)，其中，该成膜装置(1)是具有离子源(38)以及作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)的构成，所述离子源(38)按照可向着上述基体保持面的一部分区域照射离子束这样的构成、配置和/或朝向被设置在真空容器(10)内，所述作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)按照可向着作为上述基体保持面的一部分且与基于离子源(38)的离子束的照射区域的至少一部分重复的区域来供给成膜材料这样的构成被设置在真空容器(10)内。
方法装置