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[发明专利]一种采用微转移图案化图形作为掩模板的光刻图案化方法-CN200610017027.7有效
发明人：韩艳春;邢汝博;于新红 -专利权人：中国科学院长春应用化学研究所
申请日： 2006-07-20 - 公布日： 2007-01-03 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种采用微转移图案化图形作为掩模板的光刻图案化方法。该方法的薄膜结构具有金属薄膜、热塑性高分子薄膜、光刻胶薄膜三层组成。金属薄膜图形采用微转移图案化的方法得到，并可以作为后续的光刻掩模板，与传统的多层结构光刻图案化相比，省略了一次光刻加工。同时由于上层的图案化金属薄膜不受曝光和显影过程的影响，因此即使曝光时间或者显影时间出现偏差，金属薄膜图形依然可以保证剥离工艺得到与金属薄膜尺寸相符的传递图形。另外，由于本方法可以得到边缘直立甚至向内凹陷的光刻胶侧壁结构，因此该光刻胶图形可以用作有机发光矩阵显示的有机发光层和电极层的分隔器。加工精度达到1微米以下，高于负性光刻胶10微米的图案化精度。
一种采用转移图案图形作为模板光刻方法

[发明专利]防伪膜-CN201510025439.4有效
发明人：王笑冰;李建兵;黄燕燕;何成 -专利权人：深圳市深大极光科技有限公司;珠海百盛防伪技术有限公司
申请日： 2015-01-19 - 公布日： 2017-08-22 - 主分类号： G09F3/02 文献下载
摘要：一种防伪膜，包括图形层、透明基膜和微透镜阵列层，图形层和微透镜阵列层分别设置在透明基膜的相对的两个表面；图形层包括多个子单元图案，子单元图案呈阵列分布，透明基膜和子单元图案接触；微透镜阵列层包括呈阵列分布的多个微透镜，同行的微透镜的数值孔径依次递增或依次递减，同列的微透镜的数值孔径相同；微透镜阵列层的微透镜和图形层的子单元图案一一对应。上述防伪膜，通过对微透镜阵列层的微透镜的数值孔径进行缓慢而递进的变化，微透镜对子单元图案的放大倍率也在逐步变化。
防伪

[发明专利]一种在GaN基材料表面上制备聚酰亚胺微图形的方法-CN201210492585.4有效
发明人：徐兆青;陈鹏;谭崇斌;徐洲;张琳;吴真龙;徐峰;高峰;夏群;邵勇;王栾井;宋雪云 -专利权人：南京大学扬州光电研究院
申请日： 2012-11-28 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L33/44 文献下载
摘要：一种在GaN基材料表面上制备聚酰亚胺微图形的方法，属于半导体技术领域，先在GaN基材料表面上制备光刻胶几何图形掩膜层，再蒸镀遮光层，行Lift-off处理后，经丙酮和无水乙醇浸泡、去离子水冲洗干净、烘烤；再在GaN基上涂布负型聚酰亚胺薄膜、烘烤、曝光、显影、定影，得到聚酰亚胺的微图形；然后对聚酰亚胺的微图形进行低温固化，去除GaN基上的残余金属遮光层后，再对聚酰亚胺的微图形进行高温固化。用此聚酰亚胺图形充当GaN芯片的表面保护膜、层间绝缘膜、深沟槽填充物，尤其能够解决多芯片组件的表面平坦化的问题。
一种 gan 基材表面上制备聚酰亚胺图形方法

[发明专利]基于修补机台的玻璃基板补刻号方法-CN201610986237.0在审
发明人：梁泽超 -专利权人：梁泽超
申请日： 2016-11-09 - 公布日： 2018-05-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基于修补机台的玻璃基板补刻号方法，所述方法包括如下步骤：步骤1、提供修补机台、及数字微镜芯片，所述修补机台包括本体、承载面板、控制单元存储单元、及激光头；步骤2、将数字微镜芯片安装于激光头上，并使数字微镜芯片与所述控制单元电性连接；步骤3、将待刻号的玻璃基板放置于承载面板上，该玻璃基板上形成有光阻层；步骤4、控制单元调用存储单元中对应的样式图形文件，并将该样式图形文件中的样式图形信号发送至数字微镜芯片，数字微镜芯片根据该样式图形信号显示该样式图形；步骤5、激光头发出激光，该激光经由数字微镜芯片照射于玻璃基板上，对玻璃基板上光阻层进行曝光。
基于修补机台玻璃基板补刻号方法

[发明专利]基于修补机台的玻璃基板补刻号方法及玻璃基板补刻号装置-CN201210084571.9无效
发明人：李珊 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2012-03-27 - 公布日： 2012-07-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基于修补机台的玻璃基板补刻号方法及玻璃基板补刻号装置，所述方法包括如下步骤：步骤1、提供修补机台、及数字微镜芯片，所述修补机台包括本体、承载面板、控制单元、存储单元、及激光头；步骤2、将数字微镜芯片安装于激光头上，并使数字微镜芯片与所述控制单元电性连接；步骤3、将待刻号的玻璃基板放置于承载面板上，该玻璃基板上形成有光阻层；步骤4、控制单元调用存储单元中对应的样式图形文件，并将该样式图形文件中的样式图形信号发送至数字微镜芯片，数字微镜芯片根据该样式图形信号显示该样式图形；步骤5、激光头发出激光，该激光经由数字微镜芯片照射于玻璃基板上，对玻璃基板上光阻层进行曝光。
基于修补机台玻璃基板补刻号方法装置

[发明专利]一种材料表面制备壳聚糖/蛋白质复合微图形的方法-CN200910058128.2无效
发明人：鲁雄;谢佳;周先礼;姜丽丽;张红平;屈树新;冯波;翁杰;汪建新 -专利权人：西南交通大学
申请日： 2009-01-14 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： A61L31/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种材料表面制备壳聚糖/蛋白质复合微图形的方法。选用硅作为基底，在1000℃下干氧氧化，硅表面得到一层致密均匀的氧化膜，再用碱处理，清洗干燥，以得到表面充满羟基的硅片。将牛血清白蛋白与磷酸盐缓冲液、壳聚糖与乙酸分别配制一定浓度的溶液，采用微转移模塑法在羟基化的硅表面先制备壳聚糖的沟糟状微图形，再在此涂层上相叉地制备蛋白质的沟槽状微图形，最终制得材料表面形状规则的壳聚糖/蛋白质复合微图形。
一种材料表面制备聚糖蛋白质复合图形方法

[发明专利]一种幻影多变反光布及其制作方法-CN201810974001.4在审
发明人：许明旗;陈志锋;梁桂德;林玉青;朱庆金;尹扬鹏;吴俊雄 -专利权人：福建夜光达科技股份有限公司
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2018-11-30 - 主分类号： G02B5/128 文献下载
摘要：本发明涉及一种反光布，提供一种幻影多变反光布及其制作方法，所述幻影多变反光布，包括基材层，基材层上设有树脂粘结层，树脂粘结层上分布设有玻璃微珠，玻璃微珠的下半部镀覆有金属镀层，金属镀层浸没于树脂粘结层中，玻璃微珠的上半部外露于树脂粘结层上，玻璃微珠的上半部沿其圆周方向依次划分为多个图形面，各图形面上分别设有图形；所述幻影多变反光布能够呈现幻影多变的图案视觉效果，增加了反光布在衣服装饰、场景装潢、个人流行时尚穿着等的装饰应用效果，同时结构简单，制作便利，适合大批量化生产制作，具有优异的市场经济效益。
反光布树脂粘结层玻璃微珠金属镀层基材层上半部制作图案视觉效果衣服装饰装饰应用图形面下半部浸没外露镀覆装潢场景量化时尚便利生产

[实用新型]一种幻影多变反光布-CN201821375011.8有效
发明人：许明旗;陈志锋;梁桂德;林玉青;朱庆金;尹扬鹏;吴俊雄 -专利权人：福建夜光达科技股份有限公司
申请日： 2018-08-24 - 公布日： 2019-04-12 - 主分类号： G02B5/128 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种反光布，提供一种幻影多变反光布，所述幻影多变反光布，包括基材层，基材层上设有树脂粘结层，树脂粘结层上分布设有玻璃微珠，玻璃微珠的下半部镀覆有金属镀层，金属镀层浸没于树脂粘结层中，玻璃微珠的上半部外露于树脂粘结层上，玻璃微珠的上半部沿其圆周方向依次划分为多个图形面，各图形面上分别设有图形；所述幻影多变反光布能够呈现幻影多变的图案视觉效果，增加了反光布在衣服装饰、场景装潢、个人流行时尚穿着等的装饰应用效果，同时结构简单
反光布树脂粘结层玻璃微珠金属镀层基材层上半部图案视觉效果本实用新型衣服装饰装饰应用图形面下半部浸没外露镀覆制作装潢场景量化时尚便利生产

[发明专利]MEMS垂直梳齿微镜面驱动器的制作方法-CN201110335464.4有效
发明人：李四华;吴亚明;徐静 -专利权人：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
申请日： 2011-10-28 - 公布日： 2013-05-08 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种MEMS垂直梳齿微镜面驱动器的制作方法，包括：提供具有双层硅器件层的SOI硅结构；在第一衬底层的表面制作第一划片图形；去除第二衬底层；在第二埋层氧化层上制作双层掩膜；利用双层掩膜，制作出高梳齿结构、低梳齿结构以及微镜面结构；将双抛硅片与SOI硅结构进行硅硅键合；在双抛硅片的表面制作第二划片图形；去除第一衬底层并显露出第一埋层氧化层；以第一埋层氧化层作为掩膜，刻蚀第一硅器件层，释放可动梳齿结构、可动微镜面结构和固定梳齿结构；去除第一埋层氧化层；在微镜面区域和引线区域形成薄膜金属层。相较于现有技术，本发明技术方案能制作出具有自对准高低梳齿结构的垂直梳齿微镜面驱动器，具有制作简单和成品率高的优点。
mems 垂直梳齿微镜面驱动器制作方法

[发明专利]一种解决DV微影对准标志破坏的方法-CN201410003732.6有效
发明人：董金文;张国民 -专利权人：武汉新芯集成电路制造有限公司
申请日： 2014-01-03 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：一种解决DV微影对准标志破坏的方法，包括如下步骤步骤一，DV微影光罩上设置DV对准标志图形，进行DV微影工艺在待处理晶圆上定义DV对准标志图形；步骤二，刻蚀待处理晶圆上DV对准标志图形，形成沟槽形式的DV对准标志；步骤三，TE微影光罩上设置类DV对准标志图形，进行TE微影工艺在待处理晶圆上定义类DV对准标志图形；步骤四，进行TE干法蚀刻干法刻蚀所述DV对准标志的沟槽。本发明一种解决DV微影对准标志破坏的方法，在TE微影工艺时，将DV对准标志上的光阻打开，TE蚀刻将蚀刻DV对准标志沟槽内的残留物，使TE蚀刻后，DV对准标志沟槽内没有残留物，使后续工艺可以正常的进行，有效的解决了因
一种解决 dv 对准标志破坏方法

[发明专利]一种电子束发散角测量装置及其制备方法和测量方法-CN202010294120.2有效
发明人：马玉田;刘俊标;韩立;赵伟霞;王鹏飞 -专利权人：中国科学院电工研究所
申请日： 2020-04-15 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： G01T1/29 文献下载
摘要：本发明公开一种电子束发散角测量装置及其制备方法和测量方法，包括荧光屏和钨微纳米图形，六羰基钨通过氦离子显微镜沉积在所述荧光屏上形成所述钨微纳米图形，所述钨微纳米图形为多个同心圆，同心圆的圆心位于所述荧光屏的中心处利用氦离子显微镜离子辅助沉积，在荧光屏上构建钨微纳米图形，移动荧光屏时，电子束打在荧光屏的斑点形状及其大小将会发生变化，依据钨微纳米图形的尺寸和大小直接测量电子束束斑和电子束发散角。
一种电子束发散测量装置及其制备方法测量方法

[外观设计]用于微创手术机器人显示屏幕面板的图形用户界面-CN201930364966.7有效
发明人：王淑林;刘岩;隋鹏锦;王炳强 -专利权人：山东威高手术机器人有限公司
申请日： 2019-07-09 - 公布日： 2020-04-28 - 主分类号： 14-04 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：用于微创手术机器人显示屏幕面板的图形用户界面。2.本外观设计产品的用途：用于微创手术机器人操作面板，控制微创手术机器人动作。3.本外观设计产品的设计要点：在于图形用户界面。5.图形用户界面的用途：用于操作微创手术机器人。
用于手术机器人显示屏幕面板图形用户界面

[发明专利]一种实现微球离散化的微流控芯片制备方法-CN200910229154.7无效
发明人：高鹏;牟诗城;徐超;吴元庆;屈怀泊 -专利权人：国家纳米技术与工程研究院
申请日： 2010-03-12 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：一种实现微球离散化的微流控芯片制备方法：微流控芯片模具的制作：制作玻璃基金属掩模板，得到微流控芯片图形；再用光刻转移图形至旋涂有光刻胶的基底上，通过干法刻蚀，在该基底上得到具有柱状图形的微流控芯片模具；聚二甲基硅氧烷微流控图形芯片基片的制备：溶融的聚二甲基硅氧烷于步骤(1)制作的凸起的微流控芯片模具处原位聚合固化，脱模后得到含有图形的PDMS基片；玻璃盖片和PDMS基片的键合：玻璃盖片和PDMS基片一起经由本发明的优越性：这种基于纳米热压印方法制备的微流控芯片，只需制作一次压印模具便可以制造出多种具有较高台阶高度的浇铸阳模，该方法投入很少，过程简单。
一种实现离散微流控芯片制备方法

[发明专利]微影图形成形方法-CN200810161879.2有效
发明人：许峰诚;陈建宏 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2008-10-13 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明是有关于一种微影图形成形方法，包含下列步骤：形成一第一光阻图形于一基板上，第一光阻图形包含多个开口；形成一第二光阻图形于该第一光阻图形的该等开口间，且该第二光阻图形至少包含一开口；以及移除第一光阻图形以曝露第一光阻图形所覆盖的基板的部分本发明的微影图形成形方法可以降低生产成本及降低关键尺寸的变化影响。
图形成形方法

[发明专利]基于半导体集成电路工艺的红外传感器芯片及其制造方法-CN202111095737.2有效
发明人：刘伟;段程鹏;马仁旺;郭得福;王鹏;欧秦伟 -专利权人：西安中科立德红外科技有限公司
申请日： 2021-09-18 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： G01J5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基于半导体集成电路工艺的红外传感器芯片及其制造方法，涉及半导体技术领域，该基于半导体集成电路工艺的红外传感器芯片包括衬底和微桥结构，微桥结构设置在衬底上，微桥结构包括悬空在衬底上方的悬空区域；微桥结构的悬空区域包括晶体管层、红外吸收层和第一电引线图形层，第一电引线图形层位于晶体管层朝向衬底的一侧，第一电引线图形层包括多条第一电引线，每条第一电引线朝向衬底的一侧设置有形变梁，每个形变梁背离第一电引线的一端设置有悬垂电极
基于半导体集成电路工艺红外传感器芯片及其制造方法