专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]具有仿真碳纤维纹理的光学面板-CN202020336734.8有效
  • 简伟平 - 苏州天至尊模具科技有限公司
  • 2020-03-17 - 2020-12-01 - B32B27/06
  • 本实用新型公开的具有仿真碳纤维纹理的光学面板,包括塑胶材质的基材本体,以及设置在所述基材本体一侧表面的纹理层及另一侧的脱模层;所述纹理层为设置在所述基材本体表面的由纳米曲线排列而成的几何图形,所述几何图形纳米曲线等间距设置并呈具有不同弧度的弧形本实用新型通过在模具表面加工出对应的纹理,从而通过注塑的方式在塑胶材质的基材本体表面形成具有不同方向、宽度及深度的纳米曲线并排列成几何图形,通过纳米结构的曲线阵列排布形成视觉上光影变化,在自然光的照射下产生碳纤维材料的的肌理感,从而达到了设计新颖、结构合理且应用效果好的目的。
  • 具有仿真碳纤维纹理光学面板
  • [发明专利]一种光辅助图形转移方法-CN202010203035.0在审
  • 王虎;安海岩;胡维 - 武汉锐晶激光芯片技术有限公司
  • 2020-03-20 - 2021-10-12 - H01L21/027
  • 本发明提供了一种光辅助图形转移方法,所述方法包括:在暗盒里注入电化学腐蚀溶液;将半导体基片置于所述电化学腐蚀溶液中;按照半导体器件图形控制光照分布,并对应照射在所述半导体基片上。解决了现有技术在进行图形转移时需要预先制备掩膜版,工序复杂,缺乏现场图形编辑功能,同时对于不规则图形结构实现难度大的技术问题。达到了不涉及制作掩膜版、涂胶、曝光、显影等复杂工序,简化了工艺流程,借助控制光照分布,具有灵活、准确、高效的特点,从而实现现场编辑的功能,同时可以灵活自由实现不规则图像,包括量子点、量子线等各种结构的技术效果
  • 一种辅助图形转移方法
  • [发明专利]大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石衬底压印装置及方法-CN201110302920.5无效
  • 兰红波;丁玉成 - 兰红波
  • 2011-10-09 - 2012-02-22 - G03F7/00
  • 本发明公开了一种大尺寸晶圆级纳米图形化蓝宝石衬底压印装置及方法。其方法为:(1)在蓝宝石衬底之上沉积硬掩模层和旋涂纳米压印用抗蚀剂;(2)采用滚对平面纳米压印工艺和装置图形化抗蚀剂;(3)抗蚀剂图形转移到硬掩模层和蓝宝石衬底;(4)去除抗蚀剂和硬掩模层,并清洗图形化后的蓝宝石衬底本发明还可用于碳化硅、硅、砷化镓、氮化镓等其它材料衬底的图形化制造,以及太阳能电池、燃料电池双极板、微光学透镜、流控器件等结构的制造。具有结构简单、成本低、生产率高、压印面积大、适合规模化制造的特点。
  • 尺寸晶圆级纳米图形蓝宝石衬底压印装置方法
  • [发明专利]一种空心金属针及其批量制备方法-CN201510163902.1有效
  • 丁桂甫;刘龙 - 上海交通大学
  • 2015-04-08 - 2018-04-10 - A61M37/00
  • 本发明提供了一种空心金属针及其批量制备方法,步骤为(1)在基片上溅射金属种子层作为导电层;(2)导电层上电镀金属层作为释放层;(3)释放层上甩光刻胶并图形化;(4)电镀金属填充图形,制作针第一层,随后溅射金属种子层;(5)金属种子层上甩光刻胶并图形化;(6)图形化的光刻胶适当烘胶;(7)溅射金属种子层;(8)甩光刻胶并图形化,电镀金属制作针第二层;(9)去胶,释放针。本发明采用加工工艺,克服传统注射针头生产工艺难以批量制作极细针头的难题。
  • 一种空心金属及其批量制备方法
  • [发明专利]一种PTMC图形仿生功能膜的制备方法-CN202110287916.X有效
  • 侯瑞霞;竺亚斌;张立兵 - 宁波大学
  • 2021-03-17 - 2022-11-11 - C08J7/12
  • 本发明公开了一种PTMC图形仿生功能膜的制备方法,特点是先制备PTMC图形薄膜;然后在PTMC图形薄膜表面制备聚多巴胺涂层;最后在带有聚多巴胺涂层的PTMC图形薄膜表面接枝丝素蛋白和明胶中的至少一种,得到仿生功能膜;优点是用本方法制备得到的PTMC图形仿生功能膜作为组织工程的生物支架,其在降解后分子量基本保持不变,可保持较佳的力学性能,且降解后组织内部不会产生局部酸性过高的现象,大大降低了炎症的发生率
  • 一种ptmc图形仿生功能制备方法
  • [发明专利]一种调光薄膜-CN201710849828.8在审
  • 李玉清 - 海安浩驰科技有限公司
  • 2017-09-19 - 2018-01-12 - G02B3/00
  • 本发明有关于一种调光薄膜,包括由下向上依次复合层叠的透明基材层和调光功能层,其特征是,所述调光功能层包括上表面和/或下表面设有图形化沟槽的形状记忆聚合物薄膜层、内嵌在图形化沟槽中的导电薄膜和设置在导电薄膜两端的电极;所述透明基材层的光入射面具有两个或两个以上透镜结构,且该透明基材的光出射面具有两个或两个以上柱状棱镜结构,其中每个透镜结构的曲率为45μm‑1至550μm‑1,透镜结构柱状棱镜结构的表面涂有透明的聚氨酯树脂
  • 一种调光薄膜
  • [发明专利]一种结构固化方法-CN201811640086.9在审
  • 李勇滔;景玉鹏 - 中国科学院微电子研究所
  • 2018-12-29 - 2020-07-07 - G03F7/40
  • 本发明提供一种结构固化方法,所述方法包括,将经显影后具有图形结构的晶圆放置于去离子水的溶液中,用去离子水置换出晶圆上的显影液;将置换完成的晶圆放置在微波干燥腔室内的载片台上,开启真空吸附装置以便将晶圆固定在载片台上;启动微波功率源,通过微波耦合匹配器将微波功率完全施加至微波干燥腔室内,对晶圆上的图形结构进行微波干燥固化;微波功率源开启一段时间后,启动与微波干燥腔室连接的真空泵组,将腔室内的水汽排除至腔室外,直至固化完毕本发明纳固化方法能够有效彻底地清除晶圆上的水分,进而干燥固化结构,并且固化过程不会导致这些微纳结构塌陷。
  • 一种结构固化方法
  • [发明专利]通用性薄膜材料图形化方法-CN200710047946.3无效
  • 丁桂甫;蔡豪刚;杨卓青 - 上海交通大学
  • 2007-11-08 - 2008-03-19 - B81C1/00
  • 本发明公开一种微机械加工技术领域的通用性薄膜材料图形化方法。本发明通过光刻或掩模电镀在基片上制备一次性平面模具;在整个基片范围内淀积薄膜材料,填满模具的空隙;通过研磨加工去除薄膜高出模具的多余部分,并减至所需厚度;选择性去除一次性平面模具,得到所需微结构本发明既可制造单层结构,也可制造叠层结构,且可与牺牲层工艺相结合,制造悬空结构,具有不受薄膜材料、厚度、淀积方法,以及衬底材料限制,通用化的优点,解决了一些薄膜材料用常规方法无法制造具有较大厚度以及整齐边界微结构的问题,工艺简单,图形化质量较高,与常规加工工艺兼容,不需特殊的工艺或设备,易于推广。
  • 通用性薄膜材料图形方法
  • [发明专利]具有导电图形的制品的制备-CN201480064334.3有效
  • Y.王;J.A.勒本斯;M.L.赖特;J.A.卡明斯 - 伊斯曼柯达公司
  • 2014-11-19 - 2019-09-06 - G03F7/00
  • 导电制品和设备具有通过固化透明柔性基底上的可光致固化层形成的导电丝,所述透明柔性基底具有低于150ºC的变形温度。所述可光致固化层在通道形成的温度下具有<5,000帕斯卡.秒的粘度,且所述通道具有小于或等于4µm的平均宽度和大于或等于1的平均深度与平均宽度比率。使所述可光致固化层暴露于固化紫外辐射以形成光固化通道的图形,且在所述光固化通道中形成包含金属纳米颗粒的导电组合物。使所述导电组合物在所述光固化通道的图形中固化,以在所述透明柔性基底上的光固化通道的图形中提供导电丝的图形。至少50%的所述导电丝各自具有低于0.025欧姆/平方的薄膜电阻。
  • 具有导电图形制品制备
  • [发明专利]激光能量密度的监测装置及方法-CN201410225849.9有效
  • 赵俊 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2014-05-26 - 2018-03-02 - H01L21/66
  • 本发明公开了一种激光能量密度的监测装置及方法,该装置包括图形监测采集模块,用于在退火过程中对硅片表面产生的纹进行检测和采集;图形控制模块,对图形监测采集模块采集到的图形进行处理和存储,以获取与该图形对应的实际能量密度;主机电路模块,对从图形控制模块获取的图形的实际能量密度和从激光器中直接获取的能量密度进行计算,并根据计算结果调整激光器的能量密度至最佳。通过监测硅片表面纹调整激光器输出能量密度使硅片在最佳工艺能量密度,提高了制程的良率。
  • 激光能量密度监测装置方法
  • [发明专利]一种纳三维混合结构的制备方法-CN202111679258.5在审
  • 李海亮;张晓萌;姚楚豪;谢常青 - 中国科学院微电子研究所
  • 2021-12-31 - 2022-05-10 - H01L21/306
  • 本发明公开了一种纳三维混合结构的制备方法,包括:在衬底上依次形成金属膜层和光刻胶层;根据预设的版图图形,刻蚀所述光刻胶层,形成图形化的光刻胶层;去除所述金属膜层的显露区域,并保留所述显露区域注入所述衬底中的残留金属颗粒,所述显露区域为未被所述图形化的光刻胶层覆盖的金属膜层区域;去除所述图形化的光刻胶层;采用金属辅助化学腐蚀工艺处理所述衬底,通过所述金属膜层的催化和所述残留金属颗粒的催化,形成所述纳三维混合结构。提供了一种在通过版图图形化腐蚀衬底的同时,也能在无版图图案设计的衬底区域形成特定结构的方法。
  • 一种三维混合结构制备方法

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