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[发明专利]单层浮雕图形微结构防伪标识-CN201410139646.8在审
发明人：侯德胜;赵容宇 -专利权人：成都得迈科贸有限公司;侯德胜;赵容宇
申请日： 2014-04-09 - 公布日： 2015-10-14 - 主分类号： G09F3/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种具有动态效果、隐蔽性的微结构防伪标识，由两组或多组周期相同或相近、图案相同或不同的单层二维微图文阵列重叠在一起，构成单层浮雕图形微结构的防伪标识。这种单层浮雕图形微结构的防伪标识在普通灯具照明或自然光下不显现图像，而在强光或点光源照射下能够观察到明显放大的微图文结构和动态效果，具有特殊的防伪隐蔽性。其结构新颖独特，产品形式多样，适用范围很广。
单层浮雕图形微结构防伪标识

[发明专利]三明治结构的微流控芯片的制备方法及流体填充方法-CN202211062259.X在审
发明人：赵才明;出相龙;马盛林;曹小宝;夏雁鸣;于娟;王楠鑫 -专利权人：厦门大学
申请日： 2022-08-31 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： B01L3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种采用柔性模具剥离工艺三明治结构的微流控芯片的制备方法，采用柔性衬底和图形化光刻胶作为柔性模具，在柔性模具上形成柔性薄层，将柔性薄层和柔性模具的复合结构键合于硬质底层上，剥离柔性模具后于柔性薄层上得到与光刻胶图形对应的流路结构，再在柔性薄层流路结构的表面键合硬质盖板，实现低成本高良率的三明治结构的微流控芯片，且中间层为超薄的柔性。此外针对采用柔性模具剥离工艺制备的具有中间层为透气材料的三明治结构的微流控芯片，提出一种流体填充方式可形成多个独立反应单元，且微流控芯片的液体蒸发量较少，可应用在需要反应加热的蛋白质结晶和数字PCR等领域
三明治结构微流控芯片制备方法流体填充

[发明专利]大浮雕深度微透镜阵列的制作方法-CN02156823.5无效
发明人：董小春;杜春雷 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2002-12-19 - 公布日： 2004-06-30 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：大浮雕深度微透镜阵列的制作方法通过刻蚀深度和刻蚀口径计算所要刻蚀的微透镜阵列浮雕的剖面图，并根据刻蚀深度－曝光量的关系对获得的掩模单元图形进行优化，由优化后的掩模图形进行曝光、显影、坚膜，完成微透镜阵列的制作本发明能在刻蚀深度比较大的情况下，高保真的将目标图形传递到光刻胶上，制作的微透镜阵列的浮雕深度比现有技术提高近三倍。
浮雕深度透镜阵列制作方法

[发明专利]微透镜基板的制作方法和微透镜曝光光学系统-CN200310116489.0无效
发明人：岡田训明;上田稔 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2003-11-19 - 公布日： 2004-06-09 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明提供通过利用第1微透镜阵列而对第2微透镜阵列的透镜形状进行制作图形，而使光轴的一致简单化，并能简化制作工序的微透镜基板的制作方法。对作成圆柱形形状的第2微透镜阵列(7)的透镜形状的制作图形，通过将紫外光照射在第1微透镜阵列(4)上来进行。使从可改变位置的线光源射出的光、通过准直透镜(37)和第1微透镜(4)在微透镜焦点面上成像，对通过涂布在其面上形成的保护层(22)进行曝光。通过一边使线光源的位置变化一边进行曝光，能获得所需圆柱形状的保护层图形。然后，进行蚀刻，将保护层图形的形状复制在中间玻璃层(5)上，用高折射率的紫外线硬化树脂埋没凹部。
透镜制作方法曝光光学系统

[发明专利]一种磁表面等离激元的非接触式痕量生化传感器-CN202210455017.0在审
发明人：张璇如;崔铁军 -专利权人：东南大学
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： G01N27/22 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁表面等离激元的非接触式痕量生化传感器，包括人工表面等离激元谐振电路和微流腔；人工表面等离激元谐振电路包括第一谐振图形层、第二谐振图形层和介质基板层；第一谐振图形层包括微带线，以及由中心圆片及螺旋线组成的人工表面等离激元结构；第二谐振图形层为大面积金属地上的圆形孔洞结构；第一谐振图形层上的人工表面等离激元结构和第二谐振图形层的圆形孔洞中心重合。该传感器通过人工表面等离激元谐振器的极深度亚波长场束缚特性，实现对等效工作波长的高度压缩，从而在低频段实现对痕量生化量的高灵敏分辨；同时通过人工表面等离激元谐振器延伸的倏逝场及带有底板和盖板的微流腔，实现对生化量的非接触式传感
一种表面离激元接触痕量生化传感器

[发明专利]一种实现细胞集落均质性生长的装置和方法-CN201110403987.8有效
发明人：杜亚楠;姚睿;王婧宇 -专利权人：清华大学
申请日： 2011-12-07 - 公布日： 2013-06-12 - 主分类号： C12M3/00 文献下载
摘要：本发明所提供的装置包括具有若干微图形空腔的微图形化模板和位于所述微图形化模板下的粘性水凝胶，两者交联粘着为整体；每个所述微图形空腔的形状和尺寸决定细胞集落生长的物理空间。本发明所提供的平台制备工艺简单，配合培养皿使用简便易行；利用微图形化技术构建多种细胞共培养环境，为高通量模型构建和筛选提供了方便实用的手段；同时还可实现对细胞集落形状和尺寸、粘附基底机械强度和化学成分、
一种实现细胞集落均质性生长装置方法

[发明专利]光照响应安全元件-CN201710037288.3有效
发明人：楼瑾 -专利权人：楼瑾
申请日： 2017-01-19 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： B42D25/30 文献下载
摘要：发明涉及光学安全技术领域，具体涉及一种光照响应安全元件，包括：至少一层聚焦元件阵列层、基材层和至少一层微图形阵列层,所述各层之间相互粘接形成薄膜型安全元件；所述聚焦元件阵列层由聚焦元件单元排列而成，所述微图形阵列层由微图形单元排列而成，至少部分所述微图形单元不在所述聚焦元件阵列的焦深范围内；至少部分所述安全元件在光源照明下产生图像，所述图像是由微图形阵列层通过聚焦元件阵列层的综合放大成像作用而产生；所述图像在所述光源关闭时消失；至少部分所述安全元件产生的图像对所述光源方位的变化产生动态实时的响应
光照响应安全元件

[实用新型]一种微结构体模版-CN201620385618.9有效
发明人：郭文平;许南发;程金康;郭明灿 -专利权人：山东元旭光电股份有限公司
申请日： 2016-05-03 - 公布日： 2017-02-15 - 主分类号： A61M37/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种微结构体模版及其制备方法其中微结构体模版包括硅片基板，硅片基板的上面设有多个下凹棱锥结构，在相邻两个下凹棱锥结构之间设有电镀图形，电镀图形和下凹棱锥结构的外侧设有一层金属层。利用本实用新型的微结构体模版可得到均匀分布并垂直于基座上，微针形状为棱锥体的微针阵列。得到的微针具有足够的硬度，能有效刺穿皮肤角质层，并且针尖锐利，刺穿皮肤无痛感，对皮肤损伤小、修复快，利于大分子进入皮下吸收。而采用本实用新型的制备方法制作微结构体模版，具有成本低，工艺结构简单的优点。
一种微结构模版

[发明专利]一种制作纳米压印印章的方法-CN201010139179.0无效
发明人：刘宏伟;阚强;王春霞;陈弘达 -专利权人：中国科学院半导体研究所
申请日： 2010-03-31 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种制作纳米压印印章的方法，该方法通过电子束曝光在电子束胶上得到纳米图形，利用金属蒸发和电镀的方法将该纳米图形填充后转移到金属表面，然后将带有微纳结构的金属镀膜转移粘附在金属衬底上，得到可重复使用的纳米压印印章该方法制作的金属纳米压印印章具有高硬度和良好的延展性能，同时制作成本较低，工艺实现简单，在微纳图形加工技术领域可以得到广泛应用。
一种制作纳米压印印章方法

[发明专利]一种曲面衬底上微纳结构图形高精度刻蚀传递方法-CN202010354561.7有效
发明人：罗先刚;李雄;蒲明博;马晓亮;刘凯鹏;赵泽宇 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种曲面衬底上微纳结构图形高精度刻蚀传递方法。采用真空热蒸镀、磁控溅射沉积等方法，在石英、硅等材料的曲面衬底表面制备一层导电薄膜，之后经过涂胶、光刻、直写、湿法刻蚀或干法刻蚀等工序制备出与微结构图形一致的图形化导电薄膜，然后利用金属外壳和导电胶带，本发明中图形化的金属薄膜即是掩模，同时又是电极，解决了石英、硅等介质材料曲面衬底上微纳结构图形的刻蚀传递不均匀难题。
一种曲面衬底上微纳结构图形高精度刻蚀传递方法

[发明专利]一种基于表面增强拉曼散射活性基底的微流控检测器件-CN201010117672.2有效
发明人：毛海央;吴文刚;张煜龙;黄如;郝一龙;王阳元 -专利权人：北京大学
申请日： 2010-03-03 - 公布日： 2010-08-04 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于表面增强拉曼散射活性基底的微流控检测器件。该微流控检测器件是按照包括下述步骤的方法制备得到的：在衬底上旋涂光刻胶，并对光刻胶依次进行前烘、曝光、显影和定影后形成微流道形状的光刻胶图形；对光刻胶图形进行氧等离子体干法刻蚀，在衬底上形成了垂直分布于的纳米颗粒结构或纳米纤维直立结构；以所述纳米颗粒结构为掩模，对衬底进行各向异性刻蚀，在衬底上形成了纳米柱；在衬底上的硅纳米柱或纳米纤维直立结构上溅射金属纳米颗粒层，得到表面增强拉曼散射活性基底；结合微流体器件及其加工技术形成了无杂质干扰、可实时监测的硅-PDMS双层结构SERS微流控检测器件，该微流控检测器件不仅能用于液体待分析物的检测还可用于胶体和气体待分析物的检测。
一种基于表面增强散射活性基底微流控检测器件

[发明专利]一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法-CN201711414786.1有效
发明人：兰红波;许权;赵佳伟;周贺飞 -专利权人：青岛理工大学
申请日： 2017-12-22 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： B29C69/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种大尺寸无拼接微纳软模具制造方法，包括以下步骤：步骤一：基板预处理；步骤二：热熔融电流体动力喷射打印制造牺牲结构；根据所要制造的微纳模具图形结构，制造出与模具反形的牺牲结构；步骤三：图形复制和转移；采用旋涂或浇筑工艺，将液态软模材料均匀涂铺到牺牲结构上，并对液态软模材料进行预固化；步骤四：脱模；将软模具与打印的牺牲结构的结合体和基板完全分离，得到复合软模具；步骤五：复合软模具后处理；本发明结合热熔融电流体动力喷射打印和浇筑复制转移工艺的技术优势，实现大尺寸无拼接微纳尺度软模具的制造，尤其是具有能够实现米级尺度无拼接微纳复合软模具快速和低成本制造的独特优势。
一种尺寸拼接微纳软模具制造方法

[发明专利]一种优化DMD倍率和夹角标定的方法-CN202211072070.9在审
发明人：王建勋;吴明仓;罗男生;梁经伦;黄小婷 -专利权人：广东思沃激光科技有限公司
申请日： 2022-09-02 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光学技术领域，公开了一种优化DMD倍率和夹角标定的方法，先在曝光机的图形文件上设置四个数据图形，并将数据图形输出到DMD数字微镜，DMD数字微镜通过投射点投影相应的四个图形，在DMD数字微镜的投图视野内对应形成四个投影图形，其中两个投影图形沿X轴分布，另外两个投影图形沿Y轴分布，移动三维运动平台分别拍四个投影图形，得到四个投影图形的坐标数据，通过四组坐标数据进行相应计算可以分别得到X方向和Y方向的放大倍率和夹角。
一种优化 dmd 倍率夹角标定方法

[发明专利]双面复眼透镜成像晶片及其制备工艺-CN201710632636.1在审
发明人：邓杨;梦君 -专利权人：邓杨
申请日： 2017-07-28 - 公布日： 2017-09-22 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：双面复眼透镜成像晶片，包括透明基底，在透明基底的一侧通过微纳光刻的方式设有图形层，在图形层的外侧通过注塑的方式设有第一微透镜阵列，在透明基底的另一侧通过注塑的方式设有第二微透镜阵列。双面复眼透镜成像晶片的制备工艺，包括以下步骤(1)制备微透镜阵列模芯；(2)预处理；(3)制备图形层；(4)将透明基底置于做好微透镜阵列模芯的高速注塑机上，在透明基底的两侧加工注塑出第一微透镜阵列和第二微透镜阵列
双面复眼透镜成像晶片及其制备工艺

[发明专利]一种微纳弯曲结构的制备方法-CN201711368285.4在审
发明人：李俊杰;潘如豪;顾长志;刘哲;金爱子;田士兵 -专利权人：中国科学院物理研究所
申请日： 2017-12-18 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种微纳弯曲结构的制备方法，属于纳米技术领域，其步骤包括：在基底上制备悬空材料；在所述悬空材料上旋涂光刻胶，并通过曝光所述光刻胶以制备预定图形；通过刻蚀将所述预定图形转移至所述悬空材料上；去胶处理，并在所述悬空材料上进行材料沉积，以获得所述悬空材料和沉积材料的双层悬空膜结构；将所述双层悬空膜结构进行离子束辐照变形，得到微纳弯曲结构。本发明提供的一种微纳弯曲结构的制备方法，可以突破折叠加工等三维加工方法在大面积与百纳米结构尺度的加工以及其结构空间灵活性上的限制，以获得灵活的、可控性强的三维加工手段。
悬空制备弯曲结构三维加工预定图形光刻胶膜结构纳米技术领域离子束辐照材料沉积沉积材料结构空间纳米结构可控性灵活的折叠基底刻蚀去胶上旋加工变形尺度曝光