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[发明专利]微透镜一次掩模成形方法-CN03123578.6无效
发明人：董小春;杜春雷 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2003-05-29 - 公布日： 2004-12-08 - 主分类号： G02B3/08 文献下载
摘要：微透镜一次掩模成形方法，其特点在于将圆形作为掩模的单元图形，使微透镜的口径等于所述的圆形单元图形的直径，然后在微透镜的制作工艺过程中，只进行一次X和Y方向互相垂直的曝光。而且在移动曝光过程中不需要旋转、对准掩模，最后进行显影，坚膜即形成所需的微透镜阵列。本发明避免了移动掩模法中，由于存在两次交叉、对准曝光而导致的透镜正交性问题。使透镜阵列的正交性误差减小到了极限，同时也降低了微结构制作过程中工艺复杂程度，为制作用于与其他探测器件相耦合的、正交性要求很高的微透镜阵列提供了途径。
透镜一次成形方法

[发明专利]一种硅基MEMS微纳通孔结构的制作方法-CN201610786575.X在审
发明人：焦海龙;赵广宏;李文博;金小锋;张世名;邹江波 -专利权人：北京遥测技术研究所;航天长征火箭技术有限公司
申请日： 2016-08-30 - 公布日： 2017-01-18 - 主分类号： B81C1/00 文献下载
摘要：一种硅基MEMS微纳通孔结构的制作方法，涉及一种硅通孔结构的实现方法领域；在硅衬底材料的正面沉积二氧化硅薄膜并进行通孔图形转移，在硅衬底材料的背面沉积金属薄膜层和涂覆光刻胶薄膜层；二氧化硅薄膜的通孔图形转移采用三氟甲烷RIE干法刻蚀的方法；硅干法刻蚀的前处理步骤包括氧气RIE刻蚀清洗和三氟甲烷RIE干法刻蚀清洗，然后再进行硅的干法深刻蚀；克服现有干法刻蚀(DRIE或ICP)实现硅微纳通孔结构方法的步骤繁杂、效率低、一致性和稳定性差等不足，提出一种新颖的硅通孔结构干法刻蚀微纳实现方法，极大地提高硅通孔结构微纳实现效率的同时也提高了制造精度、一致性和稳定性。
一种 mems 微纳通孔结构制作方法

[发明专利]一种在GaP表面制备锥状结构的方法-CN201310093588.5有效
发明人：杨海方;刘哲;顾长志;尹红星;夏晓翔 -专利权人：中国科学院物理研究所
申请日： 2013-03-22 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明提供一种在GaP表面制备锥状结构的方法，在GaP样品表面上旋涂光刻胶，利用微、纳米尺度图形制备技术在光刻胶上制备孔状光刻胶阵列图形，得到含有孔状光刻胶阵列图形的样品；利用金属镀膜设备，在含有孔状光刻胶阵列图形的样品上生长一层金属层并溶脱，得到含有金属柱状图形阵列的样品；利用干法刻蚀设备对含有金属柱状图形阵列的GaP样品进行刻蚀，得到具有锥状阵列结构的GaP样品；将具有锥状阵列结构的GaP样品置于金属腐蚀液中清洗，去除表面残留的金属层，在GaP表面得到锥状阵列结构。该锥状阵列结构可用于AlGaInP基红光LED光提取效率的增强。
一种 gap 表面制备结构方法

[发明专利]基于铁电PZT膜面内极化工作的硅微压电传声器及其制备方法-CN200810227949.X无效
发明人：刘梦伟;汪承灏;李俊红 -专利权人：中国科学院声学研究所
申请日： 2008-12-03 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： H04R17/02 文献下载
摘要：基于铁电PZT膜面内极化工作的硅微压电传声器及其制备方法属于硅微压电传声器技术领域，其特征在于：硅微压电传声器由从上到下依次放置的电极、面内极化的铁电PZT膜层、氧化锆过渡层、振动膜层、高温二氧化硅圆形倒模层所述的微传声器的振动膜层的工作区域为圆形结构，PZT膜及电极构成的电容位于微传声器振动膜圆形工作区域的中心或边缘，PZT膜的图形为圆形或环形，电极图形为具有相同圆心的圆形叉指结构。采用本发明所述的面内极化的PZT膜工作的硅微压电传声器，不需沉积PZT膜的底电极，简化了工艺，通过改变PZT膜和叉指电极在振动膜圆形工作区域上的位置、叉指电极间距大小可明显提高压电微传声器的灵敏度。
基于 pzt 膜面内极化工作压电传声器及其制备方法

[发明专利]基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置-CN200810116067.6无效
发明人：严伟;唐小萍;胡松;邢薇;赵立新;杨勇;杨文波;杨波;周绍林;陈旺富 -专利权人：中国科学院光电技术研究所
申请日： 2008-07-02 - 公布日： 2008-12-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置，利用数字微镜阵列替代传统掩模板的方法，结合投影曝光系统的特点，实现系统数字式、柔性曝光；由计算机将要曝光的图形、图像发送到数字微镜阵列上，构成数字式掩模，再利用均匀化、准直化后的照明光照射数字微镜阵列，数字微镜阵列上的掩模图像将对该光束进行空间光调制，再由投影物镜系统将该数字掩模板上的图形、图像复制到光刻样品上；光刻样品被置于高精密X－Y向移动工件台上，依靠工件台步进，顺次由数字微镜阵列在焦平面上所形成各个曝光子场的图形，经拼接获得较大面积的曝光图像或图形。
基于数字阵列步进式无掩模曝光装置

[外观设计]用于智能手机的图形用户界面-CN201730497292.9有效
发明人：陈圆龙;赖永恒 -专利权人：有米科技股份有限公司
申请日： 2017-10-18 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： 14-03 文献下载
摘要：1．本外观设计产品的名称：用于智能手机的图形用户界面。2．本外观设计产品的用途：本外观设计产品用于运行程序、显示信息和通信。3．本外观设计产品的设计要点：在于图形用户界面的内容。6．界面用途：本外观设计产品的图形用户界面为显示“米汇”媒体营销平台的图形用户界面。主视图显示的界面为显示“米汇”媒体营销平台各功能的图形用户界面，界面上半部分为“米汇”媒体营销平台的封面界面，界面下半部分为“微博名人”的界面；主视图界面向下滑动进入变化状态图1的图形用户界面，界面上半部分为“微博名人”的界面，界面下半部分为“明星名人”、“草根大号”的微博界面；变化状态图1的界面向下滑动进入变化状态图2的图形用户界面，显示“明星名人”、“草根大号”的微博界面列表；变化状态图2的界面向下滑动进入变化状态图3的图形用户界面，显示“微博推广智能分析”界面；变化状态图3的界面向下滑动进入变化状态图4的图形用户界面，显示详细的联系方式。
图形用户界面变化状态外观设计微博向下滑动营销平台智能手机省略联系方式硬件设计运行程序智能分析封面通信图片

[发明专利]重叠标记及其形成方法与应用-CN200710105213.0有效
发明人：黄志豪 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2007-05-21 - 公布日： 2008-11-26 - 主分类号： H01L23/544 文献下载
摘要：一种重叠标记，包括下晶圆层的一部分，其中有二X向与二Y向下条状图形，并包括由定义上晶圆层的微影制程所形成的二X向与二Y向条状光阻图形，其被前述下条状图形围绕。定义下晶圆层的图案化制程与前述微影制程二者中至少有一者包括两次曝光步骤，分别用以定义第一元件区与第二元件区。当前述图案化制程包括两次曝光步骤时，一X向与一Y向下条状图形同时定义，另一X向与另一Y向下条状图形同时定义。当前述微影制程包括两次曝光步骤时，一X向与一Y向条状光阻图形同时定义，另一X向条状光阻图形与另一向条状光阻图形同时定义。
重叠标记及其形成方法应用

[外观设计]用于智能手机的图形用户界面-CN201730496937.7有效
发明人：欧小靖;詹梦怡 -专利权人：有米科技股份有限公司
申请日： 2017-10-18 - 公布日： 2018-06-05 - 主分类号： 14-03 文献下载
摘要：7．界面用途：本外观设计产品的图形用户界面为显示“有料”微信公众号矩阵的图形用户界面。设计1主视图显示的界面为“有料”微信公众号矩阵主页选中“有料首页”功能选项的图形用户界面，点击“有料首页”进入设计1变化状态图的图形用户界面，显示“有料首页”界面，界面上半部分为首页 banner 区域展示界面，界面下半部分为有料微信公众号矩阵的介绍展示界面；设计2主视图显示的界面为“有料”微信公众号矩阵主页选中“产品矩阵”功能选项的图形用户界面，点击“产品矩阵”进入设计2变化状态图的图形用户界面，显示“产品矩阵”界面，界面上半部分为有料微信公众号矩阵的介绍展示界面，界面下半部分为推荐公众号的展示列表界面；设计3主视图显示的界面为“有料”微信公众号矩阵主页选中“合作方式”功能选项的图形用户界面，点击“合作方式”；设计5主视图显示的界面为“有料”微信公众号矩阵主页选中“关于有料”功能选项的图形用户界面，点击“关于有料”进入设计5变化状态图的图形用户界面，显示“关于有料”界面，界面上半部分为“我们服务过各行业合作方
图形用户界面矩阵外观设计变化状态功能选项合作方式选中展示智能手机省略成功品牌餐饮联系方式列表界面硬件设计运行程序金融通信服务合作图片

[发明专利]基于微图数据采集和人工智能技术的智能笔系统及控制方法-CN201610863524.2在审
发明人：李晖;王志维;柯天星;姜鑫 -专利权人：武汉工程大学
申请日： 2016-09-29 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： G06F3/0354 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于微图数据采集和人工智能技术的智能笔系统及控制方法，该系统包括编码图形组微图，用于充当用户书写内容转换为数字化信息的连接媒介，采集图像的智能硬件能对该编码图形组微图进行摄取、识别和解码；智能笔，用于在用户完成书写的同时，从书写介质的图像中筛选出有用的编码图形组微图，对编码图形组微图进行识别得到书写轨迹信息，并将书写轨迹信息通过无线的方式发送给同步响应终端；同步响应终端，用于存储和管理接收到的书写轨迹信息
基于数据采集人工智能技术智能系统控制方法

[发明专利]微透镜的制造方法和微透镜-CN201780001976.2在审
发明人：姚国峰;沈健 -专利权人：深圳市汇顶科技股份有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2018-06-08 - 主分类号： G02B3/00 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种微透镜的制造方法和微透镜，该微透镜的制造方法包括：对硅模板的第一表面进行图形化处理，得到第一微透镜区域；采用各向同性的刻蚀工艺对所述第一微透镜区域进行刻蚀处理，形成空腔结构；在所述硅模板的第一表面以及所述空腔结构的内表面制备一层疏水化薄膜；向所述硅模板的第一表面以及所述空腔结构内填充透镜材料；将基底连接到填充的透镜材料的上表面；移除所述硅模板，得到目标微透镜组件。
微透镜硅模板第一表面空腔结构透镜材料填充制造图形化处理微透镜组件基底连接刻蚀工艺内表面上表面疏水化刻蚀移除制备薄膜申请

[发明专利]一种双旋转轴喷墨打印系统及加工工艺-CN202110726430.1有效
发明人：栗大超;郑浩;蒲治华 -专利权人：天津大学
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： B41J2/01 文献下载
摘要：喷头装置和拍摄装置，所述双轴转台固定于位移台上，该位移台可沿水平或垂直方向移动，所述加热装置、喷头装置和拍摄装置均设置于双轴转台上方，通过两轴转台的三维旋转，配合可水平面上移动的位移台以及可上下位移的喷头实现了微球或复杂曲面的图形化构建异质微结构，特别是微小球面的图形化构建异质微结构，可针对毫米级别的微小球面进行异质微结构构建；同时基于喷墨打印的加工方式，可以显示同一位置多层异质结构的加工，实现在微球面等复杂曲面上图形化构建异质微结构的加工。
一种旋转轴喷墨打印系统加工工艺

[发明专利]基于电控液晶红外发散平面微柱镜的红外波束控制芯片-CN201410579907.8有效
发明人：张新宇;雷宇;佟庆;罗俊;桑红石;谢长生 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2014-10-24 - 公布日： 2015-01-21 - 主分类号： G02F1/1343 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于电控液晶红外发散平面微柱镜的红外波束控制芯片。其包括电控液晶红外发散平面微柱镜阵列；电控液晶红外发散平面微柱镜阵列包括液晶材料层，依次设置在液晶材料层上表面的第一液晶初始取向层、第一电隔离层、图形化电极层、第一基片和第一红外增透膜，以及依次设置在液晶材料层下表面的第二液晶初始取向层、第二电隔离层、公共电极层、第二基片和第二红外增透膜；公共电极层由一层匀质导电膜构成；图形化电极层由其上布有m×n元阵列分布的长方孔对的一层匀质导电膜构成。本发明能实现微长方光孔阵图形化光场的电控成形与调变，易与其它红外光学光电结构、电子和机械装置等匹配耦合，环境适应性好。
基于液晶红外发散平面微柱镜波束控制芯片

[实用新型]基于电控液晶红外发散平面微柱镜的红外波束控制芯片-CN201420621473.9有效
发明人：张新宇;雷宇;佟庆;罗俊;桑红石;谢长生 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2014-10-24 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： G02F1/1343 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于电控液晶红外发散平面微柱镜的红外波束控制芯片。其包括电控液晶红外发散平面微柱镜阵列；电控液晶红外发散平面微柱镜阵列包括液晶材料层，依次设置在液晶材料层上表面的第一液晶初始取向层、第一电隔离层、图形化电极层、第一基片和第一红外增透膜，以及依次设置在液晶材料层下表面的第二液晶初始取向层、第二电隔离层、公共电极层、第二基片和第二红外增透膜；公共电极层由一层匀质导电膜构成；图形化电极层由其上布有m×n元阵列分布的长方孔对的一层匀质导电膜构成。本实用新型能实现微长方光孔阵图形化光场的电控成形与调变，易与其它红外光学光电结构、电子和机械装置等匹配耦合，环境适应性好。
基于液晶红外发散平面微柱镜波束控制芯片

[发明专利]一种基于图形化石墨烯薄膜的微流控芯片及其制备方法-CN201910149682.5在审
发明人：董国材;刘玉菲;张金龙 -专利权人：常州碳维纳米科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： B01L3/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于图形化石墨烯薄膜的微流控芯片及其制备方法。本发明利用图形化石墨烯薄膜制备的微流控芯片，具有良好的生物兼容性，制备方法简单易行，工艺参数可控，检测得到的电信号强度是普通微流控芯片的2倍。
一种基于图形化石薄膜微流控芯片及其制备方法

[发明专利]一种纳米压印模板制备方法-CN201610369964.2在审
发明人：李东栋;许贞;邓昌凯;马朋莎;王敏;罗晓雷;殷敏;鲁林峰;陈小源 -专利权人：中国科学院上海高等研究院
申请日： 2016-05-30 - 公布日： 2016-08-03 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种纳米压印模板制备方法，所述方法包括以下步骤：提供具有微纳米尺寸的三维图形结构的原始模板；在基底上涂覆溶胶作为衬底；利用所述原始模板通过压印技术在所述衬底上压印出所述微纳米尺寸的三维图形结构的互补图形并固化；将得到的具有所述互补图形的所述衬底作为模板在后续的纳米压印工艺中使用。低成本制备无机物模板且可用于紫外压印、热压印等过程，所制得的模板有较高的机械强度、重复利用性高、在后续压印过程中保形性好，将其作为掩膜版使用经过刻蚀后能得到更高纵深比的基底材料，能有效避免光刻胶作为掩膜版带来的刻蚀之后结构较浅的困境
一种纳米压印模板制备方法