专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种基于碳化硅的肖特基PIN二极管-CN202022141553.2有效
  • 陈利;陈译;陈彬 - 厦门芯一代集成电路有限公司
  • 2020-09-25 - 2021-03-23 - H01L29/872
  • 本实用新型公开了一种基于碳化硅的肖特基PIN二极管,该器件包括:半导体衬底,在半导体衬底上的N重掺杂区,在N重掺杂区上的N轻掺杂区和掺杂本半导体区,在N轻掺杂区上的金属区,在掺杂本半导体区上的P掺杂区,在P掺杂区、掺杂本半导体区和金属区的上表面的正极,在N重掺杂区上表面的负极,在N轻掺杂区上表面的硅氧化物绝缘区。该器件通过金属区和N轻/重掺杂区构成的肖特基二极管,和P掺杂区、掺杂本半导体区和N重掺杂区构成的PIN二极管,可以有效地降低该半导体器件的开关损耗和提高其开关速度。
  • 一种基于碳化硅肖特基pin二极管
  • [发明专利]一种pGaN层的生长方法和外延结构及其生长方法-CN202210219884.4在审
  • 李国强 - 广州市众拓光电科技有限公司
  • 2022-03-08 - 2022-07-12 - H01L33/00
  • 一种pGaN层的生长方法和外延结构及其生长方法,涉及半导体材料技术领域;包括周期循环生长的本GaN层和高掺GaN层,或掺GaN层和高掺GaN层;所述pGaN层的生长方法包括以下步骤:1)生长本GaN层或掺GaN层,生长温度为850‑950℃;2)在所述本GaN层或掺GaN层上生长高掺GaN层;3)在所述高掺GaN层上周期循环生长本GaN层/掺GaN层和高掺GaN层,得到pGaN层本发明的高掺GaN层为低温下通Mg源生长p‑GaN后高温退火,得到的pGaN层能改善p层材料的质量,有效改善了有源发光层延伸的Pits、表面粗糙等缺陷,提高Mg的激活效率,减少接触电阻。
  • 一种gan生长方法外延结构及其
  • [发明专利]光生伏打装置-CN200510105632.5有效
  • 寺川朗 - 三洋电机株式会社
  • 2005-09-28 - 2006-04-05 - H01L31/04
  • 本发明是一种在n单晶硅基板和含有氢的p非晶硅层之间,设置了含有氢的实质本非晶硅层的光生伏打装置,在该装置中,在所述p非晶硅层和所述本非晶硅层之间,设有氢浓度比所述本非晶硅层的氢浓度的捕获层利用该捕获层抑制氢从本非晶硅层向p非晶硅层扩散。
  • 光生伏打装置
  • [实用新型]一种基于碳化硅的槽肖特基PIN二极管-CN202022141624.9有效
  • 陈利;陈译;陈彬 - 厦门芯一代集成电路有限公司
  • 2020-09-25 - 2021-03-23 - H01L29/872
  • 本实用新型公开了一种基于碳化硅的槽肖特基PIN二极管,该器件包括:半导体衬底,半导体衬底上的N重掺杂区,N重掺杂区上的N轻掺杂区,N轻掺杂区上的金属区,该金属区设在N轻掺杂区中间,N轻掺杂区和金属区上表面的硅氧化物区,硅氧化物区上的P掺杂区和掺杂本半导体区,该掺杂本半导体区设在P掺杂区两侧,覆盖P掺杂区上表面、且贯穿P掺杂区并延伸至金属区上表面的正极,掺杂本半导体区上表面的绝缘区,N重掺杂区上表面的负极该器件通过金属区和N轻/重掺杂区构成的肖特基二极管,和P掺杂区、掺杂本半导体区和N重掺杂区构成的PIN二极管,有效地降低该器件的开关损耗和提高其开关速度。
  • 一种基于碳化硅槽型肖特基pin二极管
  • [发明专利]一种光电探测器及其制备方法-CN202310447173.7在审
  • 蔡文必;陈柏翰;王文平 - 厦门市三安集成电路有限公司
  • 2023-04-24 - 2023-09-01 - H01L31/105
  • 本发明公开了一种光电探测器及其制备方法,包括衬底、N掺杂层、本层、P掺杂层、N电极和P电极,N电极设置在N掺杂层上,P电极设置在P掺杂层上;自下而上N掺杂层、本层、P掺杂层依次设在衬底上,在本层与P掺杂层交界处具有至少一个P离子注入区,P离子注入区向本层延伸,P电极形成入射光窗口,P离子注入区位于入射光窗口下方;或者,自下而上P掺杂层、本层、N掺杂层依次设在衬底上,在本层与N掺杂层交界处具有至少一个N离子注入区,N离子注入区向本层延伸,N电极形成入射光窗口,N离子注入区位于入射光窗口下方。本发明可以同时兼顾电容,高吸收效率以及高响应速度。
  • 一种光电探测器及其制备方法
  • [实用新型]一种超宽带平坦的全光纤圆起偏器-CN202220230204.4有效
  • 任凯利;姚柯新;韩艳;梁磊;韩冬冬;郑益朋;王勇凯;刘继红;董军 - 西安邮电大学
  • 2022-01-27 - 2022-11-08 - G02B6/024
  • 本实用新型涉及一种超宽带平坦的全光纤圆起偏器,所述全光纤圆起偏器为双螺旋啁啾长周期光纤光栅,所述双螺旋啁啾长周期光纤光栅若干双螺旋手长周期光纤光栅依次连接形成;其中,所述双螺旋手长周期光纤光栅的光栅周期位于其工作在色散转折点时对应的光栅周期范围内;所述双螺旋啁啾长周期光纤光栅的光栅周期随着光纤轴位置变化。该全光纤圆起偏器工作在色散转折点附近,可以实现超宽带圆偏振滤波特性,同时对光纤光栅引入啁啾效应,使得光栅周期随着光纤轴位置变化,可以实现平坦滤波特性,从而实现工作带宽平坦、带宽较宽、体积小、成本的全光纤圆起偏器
  • 一种宽带平坦光纤型圆起偏器
  • [发明专利]一种超宽带平坦的全光纤圆起偏器及制作方法-CN202210101888.2在审
  • 任凯利;姚柯新;韩艳;梁磊;韩冬冬;郑益朋;王勇凯;刘继红;董军 - 西安邮电大学
  • 2022-01-27 - 2022-05-31 - G02B6/02
  • 本发明涉及一种超宽带平坦的全光纤圆起偏器及制作方法,制作方法包括:根据双螺旋手长周期光纤光栅将纤芯基模耦合至高阶包层模所满足的第一相位匹配条件计算其工作在色散转折点时的光栅周期范围;对双螺旋手长周期光纤光栅引入啁啾,得到双螺旋啁啾长周期光纤光栅;根据光栅周期范围获取双螺旋啁啾长周期光纤光栅中每个光栅段的光栅周期;在局部坐标系中建立双螺旋啁啾长周期光纤光栅的目标耦合方程;根据光栅段输出端与输入端的振幅关系,结合目标耦合方程,计算每个光栅段的长度;根据光栅周期和长度制作得到全光纤圆起偏器。该制作方法可以制作得到工作带宽平坦、带宽较宽、体积小、成本的全光纤圆起偏器。
  • 一种宽带平坦光纤型圆起偏器制作方法
  • [发明专利]PIN二极管及其制造方法-CN201010504117.5有效
  • 周正良;徐炯;刘冬华 - 上海华虹NEC电子有限公司
  • 2010-10-12 - 2012-05-09 - H01L29/868
  • 本发明公开了一种PIN二极管,有圆片状N阴极,圆片状N阴极的中间部分上方生长有本半导体,圆片状N阴极的周边部分上方形成有圆环状N外基区阴极,本半导体远离N阴极端的中央区域上方形成有圆片状P阳极。本发明还公开了另一种PIN二极管,有圆环状N阴极,圆环状N阴极的中间部分上方生长有本半导体,圆环状N阴极的周边部分上方形成有圆环状N外基区阴极,本半导体远离N阴极端的中央区域上方形成有圆片状P阳极。本发明的PIN二极管,导通电阻并且其制造工艺能兼容于BiCMOS工艺。本发明还公开了所述PIN二极管的制造方法。
  • pin二极管及其制造方法

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