专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种薄膜伏太阳能电池-CN201010236616.0无效
  • 赵一辉;贺方涓 - 河南阿格斯新能源有限公司
  • 2010-07-26 - 2010-12-08 - H01L31/042
  • 本发明公开了一种薄膜伏太阳能电池,其结构为:衬底层/背电极层/P+层/P铜铟镓硒薄膜层/N铜铟镓硒缓冲层/P非晶层/I非晶层/N非晶层/N+层/TCO层。本发明太阳能电池的非晶P-I-N结层厚度设计合理,近红外光谱能量能够被铜铟镓硒P-N结层充分吸收,因此功率大大提高。另外,在双结层的P铜铟镓硒薄膜层与背电极层之间设置重掺杂的P+层,在双结层的N非晶层与TCO层之间设置重掺杂的N+层,增强了载体在伏组件中的漂流速度与流通量,提高了薄膜伏太阳能电池的功率。本发明提供的薄膜伏太阳能电池所产生的功率较目前同类型双结层结构的薄膜伏太阳能电池平均提高约1.5%,同时,还具有可靠性高和制造价格低等优点。
  • 一种薄膜太阳能电池
  • [发明专利]基发光与探测共用器件及其构成的互连系统-CN200710150995.X无效
  • 牛萍娟;王伟;代晓光;郭维廉;李晓云;杨广华;王彩凤 - 天津工业大学
  • 2007-12-12 - 2008-05-14 - H01L33/00
  • 本发明公开一种与标准CMOS工艺完全兼容的基发光与探测共用器件及其构成的单片集成互连系统,其特征在于,包括:利用同一基器件,在PN结正向注入模式时可实现发射,在PN结反向耗尽的模式可实现探测;该器件结构采用N+有源区与P+有源区U插指结构,嵌入P衬底,构成PN结,同时在器件N+-N+之间的栅氧化层上加多晶硅栅;采用U插指结构可在器件的侧面和正面同时得到较强的发光(针对发光器件)与光吸收(针对探测器件),便于与基光波导进行耦合;基于该器件构建发光、传输、探测互连系统,采用多晶硅栅作为波导材料,栅氧化层和多晶上氧化物作为包层进行传输;多晶光波导与基发光与探测共用器件中的多晶硅栅连接,相当于多晶波导深入到插指结构中的发光区域(对于发光功能而言)或探测区域(对于探测功能而言),更好地实现耦合。这种新型基发光与探测共用器件及其构成的互连系统可采用工业标准CMOS工艺实现,在下一代集成电路中作为光电接口具有非常广阔的应用前景。
  • 发光探测共用器件及其构成互连系统
  • [发明专利]一种半导体结构的制造方法及半导体结构-CN202210844521.X有效
  • 宋富冉;黄厚恒;周儒领 - 合肥晶合集成电路股份有限公司
  • 2022-07-19 - 2022-11-11 - H01L21/3215
  • 本发明公开了一种半导体结构的制造方法及半导体结构,属于半导体技术领域,且所述半导体结构的制造方法包括以下步骤:提供一衬底,且所述衬底中包括第一类掺杂区和第二类掺杂区;在所述衬底上形成多晶层;向所述多晶层中植入第一离子,在所述多晶层内形成阻挡层,且所述阻挡层位于所述多晶层靠近所述衬底的一侧;在所述多晶层上形成阻层,且所述阻层覆盖所述第一类掺杂区上的所述多晶层;以所述阻层为掩膜,向所述多晶层中植入第一离子,在所述多晶层内形成阻挡区;以所述阻层为掩膜,向所述阻挡区中植入第二离子。
  • 一种半导体结构制造方法
  • [发明专利]生伏打装置-CN200510105632.5有效
  • 寺川朗 - 三洋电机株式会社
  • 2005-09-28 - 2006-04-05 - H01L31/04
  • 本发明是一种在n单晶基板和含有氢的p非晶层之间,设置了含有氢的实质本征非晶层的生伏打装置,在该装置中,在所述p非晶层和所述本征非晶层之间,设有氢浓度比所述本征非晶层的氢浓度低的捕获层利用该捕获层抑制氢从本征非晶层向p非晶层扩散。
  • 光生伏打装置
  • [发明专利]一种异质结太阳能电池及其制备方法-CN202211530546.9在审
  • 宿世超;王伟;田宏波;李世岚;宫元波 - 国家电投集团新能源科技有限公司
  • 2022-12-01 - 2023-03-07 - H01L31/074
  • 本发明涉及太阳能电池技术领域,具体公开了一种异质结太阳能电池及其制备方法,包括N单晶硅片受光面叠设第一N+扩散层、本征非晶层、第一N非晶层、第二N非晶氧化硅层、第三N非晶层、TCO导电薄膜层及栅线电极;背光面叠设第二N+扩散层、本征非晶层、第一P非晶层、第二P非晶层、第三P非晶层、TCO导电薄膜层及栅线电极;受光面设置第一N+扩散层,能提供额外的场钝化效果提升少数载流子寿命,背光面引入第二N+层扩散与P非晶层形成更强的PN结内建电场,提高电池转化效率,双面沉积多层非晶层,保留高钝化效果,提高电池的生电流,降低生载流子传输时的电阻损失。
  • 一种异质结太阳能电池及其制备方法
  • [发明专利]光电动势元件-CN200610057698.6有效
  • 寺川朗;浅海利夫 - 三洋电机株式会社
  • 2006-02-24 - 2006-08-30 - H01L31/04
  • 在n单晶基板主面的除去外周部的规定宽度之外的区域内形成有i非晶膜和n非晶膜。n单晶基板的主面上形成有覆盖i非晶膜和n非晶膜的表面电极。在n单晶基板的背面的整个区域内形成有i非晶膜和p非晶膜。在p非晶膜上的除去外周部的规定宽度的区域内形成背面电极。表面电极侧成为主要的入射面。
  • 电动势元件

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