专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]具有亚带隙红外响应的宽谱晶硅太阳电池及其制备方法-CN202010007683.9有效
  • 戴希远;胡斐;陆明 - 复旦大学
  • 2020-01-05 - 2021-06-04 - H01L31/047
  • 本发明属于硅基光伏技术领域,具体为具有亚带隙红外响应的宽谱晶硅太阳电池及其制备方法。本发明太阳电池结构包括:包括上、下两个部分:上半部分为透明导电电极ITO、由黑硅与钝化层组成的常规PN结,下半部分为由N型黑硅与金属纳米颗粒制成的具有亚带隙红外光伏响应的肖特基电池、背电极Al;上、下两部分之间由透明导电胶PEDOT:PSS连接;其中,ITO和Al作为电池的负极,中间的导电胶PEDOT:PSS作为电池的正极,上下电池呈并联叠层结构。本发明有效地将常规PN结电池与具有亚带隙红外光伏响应的肖特基电池结合,与常规PN结电池相比,拓宽了电池的光谱响应范围,提高了光电转化效率。
  • 具有亚带隙红外响应宽谱晶硅太阳电池及其制备方法
  • [发明专利]一种背接触式黑硅电池及其制备方法-CN201710815428.5有效
  • 周智全;胡斐;戴希远;陆明 - 复旦大学
  • 2017-09-12 - 2019-07-05 - H01L31/068
  • 本发明属于光伏技术领域,具体为一种背接触式黑硅电池的制备方法。本发明使用银纳米颗粒诱导化学腐蚀制备高吸收率黑硅,背表面黑硅将有效提升硅片在700nm至1500nm的吸收,而受光面将采用表面织构化技术。产生的300‑1500nm广谱光生电子空穴对都可被IBC结构的PN结区有效利用,其光电流远高于常见的晶硅太阳能电池。这种新型的IBC结构同时利用了黑硅的广谱吸收效应和背接触光伏结区构造的优势,从根本上拓宽了晶硅太阳能电池的光谱响应,突破窄带晶硅电池效率理论极限29%,充分利用占据太阳光能谱近半的红外光,实现近20年来晶硅电池工艺瓶颈的突破。
  • 一种接触式黑硅电池及其制备方法

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