[发明专利]光致抗蚀剂组合物及使用其制造半导体器件的方法在审
| 申请号： | 202111516793.9 | 申请日： | 2021-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN114647148A | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 沈载熙;金誌恩;潘充铉 | 申请（专利权）人： | 爱思开海力士有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;H01L21/027;H01L21/266 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 张培源;张志楠 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种光致抗蚀剂组合物，其含有：包含第一化合物和第二化合物的聚合物；光致产酸剂；和溶剂，所述第一化合物具有由下式1表示的单元结构，所述第二化合物具有由下式2表示的单元结构；[式1] |
||
| 搜索关键词： | 光致抗蚀剂 组合 使用 制造 半导体器件 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士有限公司，未经爱思开海力士有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111516793.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
