[发明专利]用于制备光致抗蚀剂图案的方法无效
| 申请号： | 201010517468.X | 申请日： | 2010-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN102043331A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 畑光宏;桥本和彦 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 柳春琦 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括步骤(1)至(11)：(1)在基底上涂覆第一光致抗蚀剂组合物，接着进行干燥，由此形成第一光致抗蚀剂膜，(2)预焙烘第一光致抗蚀剂膜，(3)将预烘焙的第一光致抗蚀剂膜曝光于辐射，(4)烘焙曝光的第一光致抗蚀剂膜，(5)用第一碱性显影液将烘焙的第一光致抗蚀剂膜显影，由此形成第一光致抗蚀剂图案，(6)在第一光致抗蚀剂图案上形成涂层，(7)在涂层上涂覆第二光致抗蚀剂组合物，接着进行干燥，由此形成第二光致抗蚀剂膜，(8)预焙烘第二光致抗蚀剂膜，(9)将预烘焙的第二光致抗蚀剂膜曝光于辐射，(10)烘焙曝光的第二光致抗蚀剂膜，和(11)用第二碱性显影液将烘焙的第二光致抗蚀剂膜显影，由此形成第二光致抗蚀剂图案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制备 光致抗蚀剂 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种用于制备光致抗蚀剂图案的方法，所述方法包括下列步骤(1)至(11)：(1)在基底上涂覆第一光致抗蚀剂组合物，接着进行干燥，由此形成第一光致抗蚀剂膜的步骤，所述第一光致抗蚀剂组合物包含树脂和酸生成剂，所述树脂包含在其侧链中具有酸不稳定基团的结构单元并且本身不溶于或难溶于碱性水溶液，但通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，(2)预焙烘所述第一光致抗蚀剂膜的步骤，(3)将预烘焙的第一光致抗蚀剂膜曝光于辐射的步骤，(4)烘焙曝光的第一光致抗蚀剂膜的步骤，(5)用第一碱性显影液将烘焙的第一光致抗蚀剂膜显影，由此形成第一光致抗蚀剂图案的步骤，(6)在第一光致抗蚀剂图案上形成涂层的步骤，(7)在所述涂层上涂覆第二光致抗蚀剂组合物，接着进行干燥，由此形成第二光致抗蚀剂膜的步骤，(8)预焙烘所述第二光致抗蚀剂膜的步骤，(9)将预烘焙的第二光致抗蚀剂膜曝光于辐射的步骤，(10)烘焙曝光的第二光致抗蚀剂膜的步骤，和(11)用第二碱性显影液将烘焙的第二光致抗蚀剂膜显影，由此形成第二光致抗蚀剂图案的步骤。
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