[发明专利]结型场效应晶体管及半导体器件在审

专利信息
申请号: 202110354801.8 申请日: 2021-03-31
公开(公告)号: CN113097309A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: 雷天飞;毛焜;杨翰飞 申请(专利权)人: 上海晶丰明源半导体股份有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/423;H01L29/08
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 王红艳
地址: 200131 上海市浦东新区自由贸*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种结型场效应晶体管及半导体器件,包括一衬底、一漂移区、一源接触区、一栅接触区、一沟道区及一漏接触区。所述衬底具有一第一导电类型。所述漂移区形成于所述衬底。所述漂移区具有一第二导电类型。所述源接触区形成于所述漂移区。所述源接触区具有所述第二导电类型。所述栅接触区形成于所述漂移区。所述栅接触区具有所述第一导电类型。所述栅接触区下方形成一沟道区。所述栅接触区相隔于所述源接触区。所述栅接触区包括一栅电极。所述栅电极包括2个次栅电极。所述2个次栅电极彼此相隔。所述沟道区形成于所述衬底之上且相邻于所述漂移区。所述漏接触区形成于所述漂移区且与所述栅接触区相隔。所述漏接触区具有所述第二导电类型。
搜索关键词: 场效应 晶体管 半导体器件
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