[发明专利]具有再分布线结构的扇出型半导体封装件在审

专利信息
申请号: 201910450006.1 申请日: 2019-05-28
公开(公告)号: CN110783305A 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 金钟润;李锡贤 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498
代理公司: 11330 北京市立方律师事务所 代理人: 李娜
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 提供了一种包括再分布线结构的扇出型半导体封装件。扇出型半导体封装件包括:再分布线结构,所述再分布线结构包括多个再分布线绝缘层和多个再分布线图案,每一个所述再分布线图案位于所述多个再分布线绝缘层中的一个再分布线绝缘层的上表面和下表面之一上;至少一个半导体芯片,所述至少一个半导体芯片布置在所述再分布线结构上并且所占据的覆盖区域的水平宽度小于所述再分布线结构的水平宽度;以及模制构件,所述模制构件在所述再分布线结构上包围所述至少一个半导体芯片并且所述模制构件的水平宽度小于所述再分布线结构的水平宽度,其中,所述多个再分布线绝缘层具有阶梯结构。
搜索关键词: 再分布 线结构 绝缘层 半导体芯片 模制构件 半导体封装件 布线图案 扇出型 覆盖区域 阶梯结构 上表面 下表面 包围 占据
【主权项】:
1.一种扇出型半导体封装件,包括:/n再分布线结构,所述再分布线结构包括多个再分布线绝缘层和多个再分布线图案,每一个所述再分布线图案位于所述多个再分布线绝缘层中的一个再分布线绝缘层的上表面和下表面之一上;/n至少一个半导体芯片,所述至少一个半导体芯片位于所述再分布线结构上并且所占据的覆盖区域的水平宽度小于所述再分布线结构的水平宽度;以及/n模制构件,所述模制构件在所述再分布线结构上包围所述至少一个半导体芯片并且所述模制构件的水平宽度大于所述再分布线结构的水平宽度,/n其中,所述多个再分布线绝缘层具有阶梯结构。/n
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