[发明专利]掩模板探伤装置及探伤方法在审

申请号：	201810004926.6	申请日：	2018-01-03
公开（公告）号：	CN108227371A	公开（公告）日：	2018-06-29
发明（设计）人：	张晓妹;王志强;王辉;廖务义	申请（专利权）人：	京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号：	G03F1/84	分类号：	G03F1/84
代理公司：	北京律智知识产权代理有限公司 11438	代理人：	袁礼君;王卫忠
地址：	100015 ***	国省代码：	北京;11
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摘要：	本公开提供一种掩模板探伤装置及探伤方法，涉及显示技术领域。该掩模板探伤装置包括：光量接收器，设置于掩模板载物台的一侧并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。本公开可及时发现掩模板表面的划伤或污染，从而避免产生批量产品的不良，还能提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物，从而延长掩模板的使用寿命，同时降低成本并节约产能。
搜索关键词：	掩模板探伤装置掩模板载物台掩模板表面对比结果探伤光电转换模块参考电信号光信号转换报警模块光电转换计算模块批量产品使用寿命接收器异物产能光量划伤预设警报节约污染发现
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【主权项】：

1.一种掩模板探伤装置，其特征在于，包括：光量接收器，设置于掩模板载物台的一端并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。

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摘要：本公开提供一种掩模板探伤装置及探伤方法，涉及显示技术领域。该掩模板探伤装置包括：光量接收器，设置于掩模板载物台的一侧并能沿所述掩模板载物台的下方运动，用于接收透过掩模板的光信号；光电转换模块，用于将所述光信号转换为电信号；计算模块，用于将基于待测掩模板经过光电转换而得到的电信号与预设的参考电信号进行对比，以判断对比结果是否超出阈值范围；报警模块，用于在所述对比结果超出所述阈值范围时发出警报。本公开可及时发现掩模板表面的划伤或污染，从而避免产生批量产品的不良，还能提醒工作人员及时查看并清理掩模板表面的异物，从而延长掩模板的使用寿命，同时降低成本并节约产能。

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发明人：肖宇;袁剑峰;吴洪江;黎敏;姜晶晶;李晓光 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2014-07-30 - 公布日： 2014-11-19 - 主分类号： G03F1/84
摘要：本发明的目的是提供一种掩膜板检测装置和方法，其中所述装置包括：设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏电阻的作用区域对应；检测板用于当平行光通过掩膜板上的透光区域照射到多个光敏电阻上时，检测多个光敏电阻的电阻值，并判断多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与第一光敏电阻的作用区域对应的掩膜板上的第一透光区域的位置信息。本发明能够确定掩膜板表面是否存在微小异物，并确定微小异物所在的区域，防止因微小异物引起显影后形成的图形存在共同缺陷而造成的损失。

一种针对光刻版图接触孔热点的检查方法-201410106641.5
发明人：王伟斌;朱忠华;魏芳;张旭昇 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-03-20 - 公布日： 2014-06-25 - 主分类号： G03F1/84
摘要：本发明公开了一种针对光刻版图接触孔热点的检查方法，根据接触孔与相应互连线的包围值对原始接触孔进行分类，并对分类后的接触孔覆盖一一对应的矩形作为分类标记，然后对不同类型的接触孔进行不同规格的最小叠对面积检查，最终在光刻版图的设计中实现更加精确的光刻工艺友善性检查，同时能更精确地找到光刻版图设计中的接触孔接触不良的工艺热点。

母版检测清洁装置-201110459661.7
发明人：田玉民;罗向辉 -专利权人：四川虹欧显示器件有限公司
申请日： 2011-12-31 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： G03F1/84
摘要：本发明提供了一种母版检测清洁装置，包括：母版夹持装置、检测装置和清洁装置。其中，母版夹持装置可移动地设置在母版检测清洁装置上；检测装置设置在母版夹持装置的一侧，用于检测待清洁母版的清洁度；清洁装置设置在检测装置的下游侧。本发明的母版检测清洁装置，通过检测装置检测母版的是否存在异物，并利用清洁装置对母版上的异物进行清洁，有效地防止了母版上的异物发生漏检的现象，确保母版上无异物的存在，杜绝了在生产过程中的由异物污染造成的产品上的公共缺陷。

极紫外光刻掩模缺陷检测系统-201210156651.0
发明人：李海亮;谢常青;刘明;李冬梅;牛洁斌;史丽娜;朱效立;王子欧 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2012-05-18 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： G03F1/84
摘要：本发明公开了一种极紫外光刻掩模缺陷检测系统，该极紫外光刻掩模缺陷检测系统包括极紫外光源、极紫外光传输系统(包括多层膜平面反射镜和多层膜凹面聚光镜)、极紫外光刻掩模、样品扫描台、光子筛、CCD相机、PC机、隔振台、真空腔和多层膜半反半透镜。该极紫外光刻掩模缺陷检测系统利用光子筛代替传统的史瓦西透镜，实现极紫外波段对掩模的成像，从而对掩模上的缺陷进行检测。本发明利用光子筛的体积小、易加工、低成本和分辨率强的特性代替了加工难度极大、成本高昂和体积大的史瓦西透镜，实现成本较低、体积较小并且分辨率强的极紫外光刻掩模缺陷检测装置。

灰色调掩模的检查装置及制造方法、图案转印方法-201210323436.5
发明人：吉田光一郎;平野照雅 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2007-12-05 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： G03F1/84
摘要：在本发明的灰色调掩模的检查方法中，经由照明光学系统(2)向灰色调掩模(3)照射从光源(1)发出的规定波长的光束，经由物镜系统(4)，由摄像部件(5)摄像经过灰色调掩模(3)的光束，求出摄像图像数据，根据该摄像图像数据，取得灰色调掩模的包含半透光部的区域的透过光强度分布数据。

专利分类

G 物理

G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备

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[发明专利]掩模板探伤装置及探伤方法在审

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