[实用新型]光罩检查机有效
申请号: | 201420760979.8 | 申请日: | 2014-12-05 |
公开(公告)号: | CN204360094U | 公开(公告)日: | 2015-05-27 |
发明(设计)人: | 陈明生;邱铭乾 | 申请(专利权)人: | 家登精密工业股份有限公司;陈明生 |
主分类号: | G03F1/84 | 分类号: | G03F1/84;G01N21/94 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种光罩检查机,其于机架上设有一位于载台上方的光学影像处理模组,且该光学影像处理模组与该载台可相对线性位移,又该光学影像处理模组可向下撷取该载台上光罩的影像,再者该上检测模组于该光学影像处理模组一侧另设有一导光单元,该导光单元具有一光源及一导光板,其中该导光板可导引该光源的光线以线性方式照射于该光学影像处理模组的扫描位置,藉此,可利用由线性影像感光元件构成的光学影像处理模组,快速扫描光罩的表面,且通过斜设的导光单元导光板的作用,使光源的光线可斜射于光学影像处理模组扫描处,而提高其聚焦效果,从而提高污染物的辨识率,故能有效增进其检查效率与准确率,减少不必要的人力及误判状况,进一步可提高晶圆后续加工的合格率。 | ||
搜索关键词: | 检查 | ||
【主权项】:
一种光罩检查机,其特征在于其至少包含有:一机架,该机架上设有一供承载一光罩的载台;一上检测模组,其于该机架上设有一位于该载台上方的光学影像处理模组,且该光学影像处理模组与该载台能够相对线性位移,又该光学影像处理模组能够向下撷取该载台上该光罩的影像,供扫描、辨识、标示及储存该光罩的污染物,再者该上检测模组于该光学影像处理模组一侧另设有一导光单元,该导光单元具有一光源及一导光板,其中该导光板能够导引该光源的光线以线性方式照射于该光学影像处理模组的扫描位置,且该导光单元斜射的光线与该光学影像处理模组垂直的扫描线间形成有一夹角;藉此,进而组构成一迅速、且准确检出异物的光罩检查机。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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