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[发明专利]图像增强模型的训练、图像增强方法、装置和存储介质-CN201811183016.5有效
发明人： 石世昌;黄飞 -专利权人：腾讯科技（深圳）有限公司
申请日： 2018-10-11 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G06V10/774 文献下载
摘要：本发明涉及一种图像增强模型的训练、图像增强方法、装置和存储介质，所述图像增强模型的训练方法包括：获取第一训练图像集，所述第一训练图像集中的各个训练样本包括训练图像以及配对的目标图像；根据所述第一训练图像集的各个训练样本对初始图像增强模型进行有监督的模型训练，得到中间图像增强模型；获取第二训练图像集，所述第二训练图像集包括第一质量图像子集和第二质量图像子集；根据所述第二训练图像集对所述中间图像增强模型和判别网络模型进行对抗学习，采用无监督训练算法训练得到目标图像增强模型。上述方法可以提高目标图像增强模型的图像增强效果。
图像增强模型训练方法装置存储介质

[发明专利]文本区域的确定方法、装置、设备及可读存储介质-CN202110274178.5有效
发明人： 石世昌;黄飞 -专利权人：腾讯科技（深圳）有限公司
申请日： 2021-03-15 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： G06V30/412 文献下载
摘要：本申请公开了一种文本区域的确定方法、装置、设备及可读存储介质，涉及机器学习领域。该方法包括：获取目标图像；对目标图像进行文本识别，得到区域中心预测结果和区域边缘预测结果；对区域中心预测结果和区域边缘预测结果进行逻辑结合，得到目标图像中的文本连通区域；基于文本连通区域确定文本内容在目标图像中的文本区域。在对图像进行文本识别时，同时识别得到用于表示文本区域的中心预测结果和用于表示边缘的边缘预测结果，从而通过对中心预测结果和边缘预测结果的逻辑结合对文本区域的预测进行修正，并最终得到文本区域，在两层检测结果的优化下，文本区域的检测准确率较高，从而后续基于文本区域进行文本内容处理的效率和准确率也较高。
文本区域确定方法装置设备可读存储介质

[发明专利]图像处理网络的训练方法、装置、计算机设备和存储介质-CN202111188444.9有效
发明人： 石世昌;黄飞;华超;熊唯;杨梁 -专利权人：腾讯科技（深圳）有限公司
申请日： 2021-10-12 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： G06T3/40 文献下载
摘要：本申请公开了一种图像处理网络的训练方法、装置、计算机设备和存储介质，该方法包括：调用图像处理网络获取低清图像数据对应的样本超分图像数据，结合高清图像数据生成超分损失函数；获取样本超分图像数据对应的第一样本增强图像数据，结合高清图像数据生成画质损失函数；获取第一样本增强图像数据对应的第二样本增强图像数据，结合高清图像数据生成人脸损失函数；获取第二样本增强图像数据对应的样本锐化图像数据，结合高清图像数据生成锐化损失函数；根据超分损失函数、画质损失函数、人脸损失函数及锐化损失函数更新图像处理网络的网络参数。采用本申请，可提高训练得到的图像处理网络对图像数据进行优化的效果。
图像处理网络训练方法装置计算机设备存储介质

[发明专利]音频降噪、音频降噪模型的处理方法、装置、设备和介质-CN202110557785.2在审
发明人：刘秋男;黄飞;石世昌;华超;杨梁 -专利权人：腾讯科技（深圳）有限公司
申请日： 2021-05-21 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： G10L21/0208 文献下载
摘要：本申请涉及一种音频降噪、音频降噪模型的处理方法、装置、设备和介质。所述方法涉及人工智能技术，音频降噪模型的处理方法包括：通过基于神经网络的第一子模型中的实部处理网络与虚部处理网络，分别对将样本音频信号变换为频域信号后获得的实部序列与虚部序列进行特征编码，获得样本音频信号对应的实部注意力与虚部注意力，基于实部序列与虚部序列、实部注意力与虚部注意力获得样本音频信号对应的频域编码特征；根据基于频域编码特征与干净音频信号对应的频域变换序列所确定的第一损失对第一子模型进行模型训练获得频域处理子模型；将频域处理子模型与时域处理子模型连接后共同训练得到音频降噪模型，能够提升音频降噪模型的降噪效果。
音频模型处理方法装置设备介质

[发明专利]晶圆座的清洁方法、半导体制作方法与清洁系统-CN201710851998.X有效
发明人：王绍华;陈梓文;石世昌;陈立锐;郑博中 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-09-20 - 公布日： 2021-06-01 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：一种晶圆座的清洁方法。晶圆座的清洁方法包括：在真空腔室中，将清洁装置放置于晶圆座；通过晶圆座将清洁装置的聚合物材料层吸附于晶圆座；以及当清洁装置被吸附于晶圆座且经过第一时间时，将清洁装置与晶圆座分离。
晶圆座清洁方法半导体制作方法系统

[发明专利]基于人工智能的图像风格处理方法、装置及电子设备-CN202010833104.6在审
发明人：聂士伟;黄飞;石世昌 -专利权人：腾讯科技（深圳）有限公司
申请日： 2020-08-18 - 公布日： 2021-05-18 - 主分类号： G06T3/00 文献下载
摘要：本申请提供了一种基于人工智能的图像风格处理方法、装置、设备及计算机可读存储介质；方法包括：通过风格生成网络对第一图像样本进行风格变换处理，得到第二图像样本；获取所述第二图像样本图像进行风格分类时对应的风格分类损失函数、以及对所述第二图像样本进行内容分类时对应的内容分类损失函数；根据所述风格分类损失函数和所述内容分类损失函数训练所述风格生成网络；通过训练后的所述风格生成网络对第一图像进行风格变换处理，得到第二图像。通过本申请，能够实现准确图像风格迁移。
基于人工智能图像风格处理方法装置电子设备

[发明专利]排气系统-CN201711269252.4有效
发明人：林钰富;石世昌;陈家桢 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-12-05 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明实施例提供一种排气系统，用于从半导体制造设备排出有害气体，包括：主排气管，具有顶表面及底表面；第一支管，包括上游端及下游端，上游端耦接到混合气体的来源，混合气体包括有害气体，下游端通过顶表面连接到主排气管；第二支管，包括下游端，下游端通过底表面连接到主排气管；以及检测器，配置以检测第二支管中的有害气体的存在。
排气系统

[实用新型]一种便于拆装的风景园林用固定架-CN202021124266.4有效
发明人： 石世昌 -专利权人： 石世昌
申请日： 2020-06-17 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： A01G17/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种便于拆装的风景园林用固定架，具体涉及园林设备技术领域，包括圆弧固定架，两个所述圆弧固定架之间通过转轴转动连接，所述圆弧固定架呈半圆环形状，两个所述圆弧固定架内均匀开设有三个螺纹孔，所述螺纹孔内螺纹套有螺纹杆，所述螺纹杆一端焊接有转块。本实用新型在遇到强风天气时，橡胶垫的柔软性可起到为树木的摇摆进行软阻挡，当树木摇摆幅度较大时，可通过滑动杆在支撑套杆内的伸缩与复位弹簧的形变，来有效减小树木摇摆的幅度，防止树木摇摆的幅度过大而发生断裂，也避免了在强风天气使用木材支撑而发生断裂的麻烦，等树木移栽一段时间后固定架整体还可拆下进行再次利用，提高了固定架的适用性。
一种便于拆装风景园林固定

[发明专利]倍缩光罩的检测方法-CN201811147885.2在审
发明人：陈梓文;石志聪;石世昌;陈立锐;郑博中 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-09-29 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： G03F1/84 文献下载
摘要：一种检测倍缩光罩的方法，包括：通过在相对于倍缩光罩表面的参考表面高度的倍缩光罩表面的第一高度以光源扫描倍缩光罩表面，获得在第一高度的倍缩光罩的表面的第一图像，且通过在相对于倍缩光罩表面的参考表面高度的倍缩光罩表面的第二高度以光源扫描倍缩光罩表面，获得在第二高度的倍缩光罩的表面的第二图像，第二高度与第一高度不同，第一高度与第二高度之间的距离小于倍缩光罩的厚度，结合第一图像以及第二图像以获得倍缩光罩的表面轮廓图像。
光罩表面光罩图像参考表面光源扫描表面轮廓种检测检测

[发明专利]清洁方法-CN201811087076.7在审
发明人：陈梓文;石志聪;石世昌;陈立锐;郑博中 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-09-18 - 公布日： 2019-04-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开提供了一种清洁方法，其中部分实施例提供一种在一光刻工具中清洁一感测器的方法而不须在光刻工具中进行重新校准。更具体而言，本公开实施例启示在性能表现偏移仍高于一偏移容忍度时，在短的时间间隔中利用氢自由基清洁感测器。在此公开中的清洁工艺之后，光刻工具可重新开始生产而不须重新校准。
光刻工具清洁重新校准感测器偏移容忍度氢自由基清洁工艺重新开始偏移表现生产

[发明专利]光刻掩模-CN201711306343.0在审
发明人：石志聪;石世昌;陈立锐;郑博中 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-12-11 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： G03F1/24 文献下载
摘要：本公开实施例提供一种光刻掩模。光刻掩模包括基板，其包含低热膨胀材料。光刻掩模也包括反射结构，设置于基板上方。反射结构包括第一层和设置于第一层上方的第二层。至少第二层为多孔。光刻掩模的制造方法包括于基板上方形成多层反射结构，形成多层反射结构包括形成多个重复薄膜对，薄膜对各自包括第一层和多孔第二层。于多层反射结构形成上方盖层。于盖层上方形成吸收层。
光刻掩模多层反射结构第一层基板反射结构盖层薄膜低热膨胀材料吸收层光刻重复制造

[发明专利]极紫外光光刻系统-CN201711307411.5在审
发明人：简上杰;郑杰夫;石世昌;巫昆晋;刘冠亨;钟仁阳;陈立锐;郑博中 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-12-11 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种极紫外光光刻系统，包括配置以收集和反射极紫外光放射线的收集器、与收集器整合的盖体、连接盖体且配置以接收来自收集器的碎屑蒸气的第一排气线路、连接第一排气线路且配置以补集碎屑蒸气的碎屑补集器、以及连接碎屑补集器的第二排气线路。
碎屑排气线路收集器补集光刻系统极紫外光配置连接盖体紫外光反射极放射线盖体整合

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