[发明专利]圆筒形掩模板的涂布装置和涂布方法有效
申请号: | 201310222164.4 | 申请日: | 2013-06-05 |
公开(公告)号: | CN104216230B | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 刘洋;伍强;胡华勇 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/16 | 分类号: | G03F7/16 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 骆苏华 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种圆筒形掩模板的涂布装置和涂布方法,所述涂布装置包括:基台;精密位移控制平台,位于基台上,精密位移控制平台在基台上沿扫描方向直线来回移动;压印模板,固定于精密位移控制平台的上表面,所述压印模板内具有凹槽;光刻胶喷头,位于压印模板上方,用于向凹槽内喷吐光刻胶;掩模板载物台,用于装载圆筒形掩模板,使圆筒形掩模板绕中心轴旋转,并能使圆筒形掩模板的表面贴合压印模板的上表面;其中,当在凹槽内喷吐满光刻胶时,圆筒形掩模板的表面贴合压印模板的上表面,精密位移控制平台沿扫描方向移动,同时圆筒形掩模板绕中心轴旋转,将凹槽内的光刻胶涂覆于圆筒形掩模板表面。该涂布装置能在圆筒形掩模板表面形成厚度均匀的光刻胶层。 | ||
搜索关键词: | 圆筒形 掩模板 压印模板 精密位移 控制平台 涂布装置 光刻胶 上表面 掩模板表面 表面贴合 扫描方向 中心轴 掩模板载物台 光刻胶喷头 光刻胶层 厚度均匀 基台 涂覆 移动 装载 | ||
【主权项】:
一种圆筒形掩模板的涂布装置,其特征在于,包括:基台;精密位移控制平台,位于基台上,所述精密位移控制平台在基台上沿扫描方向直线来回移动;压印模板,固定于精密位移控制平台的上表面,所述压印模板内具有凹槽,凹槽贯穿压印模板的部分上表面,所述凹槽用于容纳光刻胶,所述压印模板的凹槽的长度大于等于圆筒形掩模板的表面周长;光刻胶喷头,位于压印模板上方,用于向凹槽内喷吐光刻胶;掩模板载物台,用于装载圆筒形掩模板,使圆筒形掩模板绕中心轴旋转,并能使圆筒形掩模板的表面贴合压印模板的上表面;其中,当在凹槽内喷吐满光刻胶时,圆筒形掩模板的表面贴合压印模板的上表面,精密位移控制平台沿扫描方向移动,同时圆筒形掩模板绕中心轴旋转,将凹槽内的光刻胶涂覆于圆筒形掩模板表面。
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