[发明专利]一种功率半导体器件在审

专利信息
申请号: 201610348220.2 申请日: 2016-05-24
公开(公告)号: CN106024869A 公开(公告)日: 2016-10-12
发明(设计)人: 陈万军;唐血锋;刘超;娄伦飞;程武;刘亚伟;张波 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: H01L29/417 分类号: H01L29/417;H01L29/745;H01L21/28;H01L21/332
代理公司: 成都点睛专利代理事务所(普通合伙) 51232 代理人: 葛启函
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明属于功率半导体器件技术领域,涉及一种功率半导体器件。本发明包括从下至上依次层叠设置的阳极金属、P型阳极区和N型衬底;所述N型衬底上层具有P型基区,所述P型基区上层具有相互独立的N型源区和N型发射区;所述N型衬底上表面具有栅氧化层,所述栅氧化层还延伸覆盖部分P型基区和N型源区的上表面;所述栅氧化层的上表面具有栅极金属;所述N型发射区上表面具有第一阴极金属,所述第一阴极金属还覆盖部分P型基区的上表面;其特征在于,所述N型源区的上表面还具有第二阴极金属。本发明的有益效果为,解决了常规的功率器件在阴极电感引起的栅氧化层击穿问题,从而提高了器件的可靠性。
搜索关键词: 一种 功率 半导体器件
【主权项】:
一种功率半导体器件,包括从下至上依次层叠设置的阳极金属(8)、P型阳极区(7)和N型衬底(6);所述N型衬底(6)上层具有P型基区(5),所述P型基区(5)上层具有相互独立的N型源区(2)和N型发射区(10);所述N型衬底(6)上表面具有栅氧化层(4),所述栅氧化层(4)还延伸覆盖部分P型基区(5)和N型源区(2)的上表面;所述栅氧化层(4)的上表面具有栅极金属(3);所述N型发射区(10)上表面具有第一阴极金属(9),所述第一阴极金属(9)还覆盖部分P型基区(5)的上表面;其特征在于,所述N型源区(2)的上表面还具有第二阴极金属(1)。
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