专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]N型场效应晶体管的形成方法-CN201510215957.2有效
  • 李勇 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2015-04-30 - 2019-09-27 - H01L29/66
  • 一种N型场效应晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底具有部;形成横跨所述部的栅极结构;对所述栅极结构两侧的部进行离子注入,所述部包括被所述栅极结构覆盖的第一侧壁和与所述第一侧壁相对的第二侧壁,所述离子注入对所述第一侧壁或对所述第二侧壁进行;所述离子注入后,对所述部进行退火处理;所述退火处理后,在所述栅极结构两侧的部表面分别形成源极和漏极。采用本发明的方法能够提高N型场效应晶体管的性能。
  • 型鳍式场效应晶体管形成方法
  • [实用新型]散热装置-CN201921604262.3有效
  • 林星晨;邱英哲 - 华硕电脑股份有限公司
  • 2019-09-25 - 2020-05-19 - H05K7/20
  • 本实用新型公开了一种散热装置,包含离心风扇以及第一散热片组。离心风扇包含扇框。扇框具有第一开口及第一舌部。第一开口具有相对的第一侧边以及第二侧边。第一舌部邻近第一侧边且远离第二侧边。第一散热片组邻近第一开口。第一散热片组包含第一片、第二片以及第三片。第一片、第二片以及第三片依序由第二侧边排列至第一侧边。第二片以及第三片各包含本体部以及弯折部。第二片的弯折部相对本体部的弯折角度小于第三片的弯折部相对本体部的弯折角度。借此,本实用新型的散热装置,可降低气流进入散热片时产生的冲击,进而提高散热装置的散热能力。
  • 散热装置
  • [发明专利]场效应晶体管及其形成方法-CN201310259904.1有效
  • 三重野文健 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2013-06-26 - 2014-12-31 - H01L21/336
  • 一种场效应晶体管及其形成方法,所述场效应晶体管包括:半导体衬底,所述半导体衬底上形成有分立的第一部和第二部;覆盖所述第一部、第二部和半导体衬底表面的第一掺杂层;位于半导体衬底的隔离层,所述隔离层的表面低于第一部和第二部顶端上的第一掺杂层表面;横跨所述第一部的侧壁和顶端表面的栅极结构;位于隔离层上的介质层,所述介质层覆盖所述栅极结构和第二部;位于介质层中的通孔,所述通孔暴露出第二部顶端上的第一掺杂层;填充所述通孔的导电插塞,所述导电插塞用于连接偏置控制电压
  • 场效应晶体管及其形成方法
  • [发明专利]场效应晶体管的形成方法-CN201410598408.3有效
  • 张海洋;张璇 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2014-10-30 - 2019-01-22 - H01L21/336
  • 一种场效应晶体管的形成方法,包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底表面具有部以及隔离层,所述隔离层的表面低于部的顶部表面,覆盖半导体衬底表面以及部分部的侧壁;在所述隔离层表面以及部表面形成栅介质材料层和位于所述栅介质材料层表面的栅极材料层;刻蚀所述栅介质材料层和栅极材料层形成横跨部的栅极结构,同时使栅极结构两侧的部尺寸缩小,所述栅极结构包括栅介质层和栅极,所述栅极结构覆盖部的侧壁及顶部;在栅极结构两侧的部表面形成第一半导体外延层;在所述栅极结构侧壁表面形成侧墙;在栅极结构两侧的部内形成源极和漏极。所述方法可以提高形成的场效应晶体管的性能。
  • 场效应晶体管形成方法

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