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- [发明专利]轧辊在线抛光设备-CN202111037531.4有效
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王玉红;李风浪;赵冬杰;宋超;张汉
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东莞兆泰机械设备有限公司
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2021-09-06
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2023-05-23
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B24B21/02
- 本发明涉及一种轧辊在线抛光设备，包括机架、抛光组件、检测组件及平行调节组件，抛光组件包括抛光支架与抛光轮，抛光轮转动连接抛光支架的一端；检测组件包括检测滑块与位移感应器，检测滑块滑设于机架，抛光支架滑设于检测滑块，位移感应器安装于抛光支架上，位移感应器用于检测辊压机的轧辊与抛光轮的平行度；平行调节组件连接辊压机与机架以调整机架与辊压机的间距。本轧辊在线抛光设备通过检测滑块带动位移感应器沿轧辊移动以检测轧辊与抛光轮的平行度，根据位移感应器反馈的信息，通过平行调节组件调整机架与辊压机的间距，使抛光轮与轧辊平行，确保抛光精度；本轧辊在线抛光设备使用方便、降低成本、缩短修磨周期、提高抛光精度。
- 轧辊在线抛光设备
- [实用新型]抛光机用调节装置-CN202122142180.5有效
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王玉红;李风浪;赵冬杰;宋超;张汉
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东莞兆泰机械设备有限公司
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2021-09-06
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2022-03-11
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B24B27/033
- 本实用新型涉及一种抛光机用调节装置，包括检测组件与平行调节组件，检测组件包括检测滑块、位移感应器及显示屏，检测滑块滑设于抛光机的机架，位移感应器与显示屏均安装于检测滑块上，位移感应器用于检测待抛光件与机架的平行度，位移感应器与显示屏信号连接，显示屏用于显示位移感应器反馈的信息；平行调节组件连接待抛光件与机架以调整机架与待抛光件的间距。本抛光机用调节装置通过检测滑块带动位移感应器沿待抛光件移动以检测待抛光件与机架的平行度，操作人员根据显示屏反馈的信息，通过平行调节组件调整机架与待抛光件的间距，使机架与待抛光件平行，确保抛光精度；本抛光机用调节装置结构简单、使用方便、提高抛光精度。
- 抛光机调节装置
- [实用新型]高精度抛光装置-CN202122142195.1有效
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王玉红;李风浪;赵冬杰;宋超;张汉
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东莞兆泰机械设备有限公司
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2021-09-06
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2022-03-11
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B24B21/00
- 本实用新型涉及一种高精度抛光装置，包括基板、砂带组件及抛光组件，砂带组件包括砂带支架、放卷轮及收卷轮，砂带支架安装于基板，放卷轮与收卷轮转动连接砂带支架，抛光组件包括底板、抛光支架、抛光轮及滑动动力元件，底板安装于基板，抛光支架滑设于底板，抛光轮转动连接抛光支架的一端，砂带的一端连接放卷轮，另一端经抛光轮连接收卷轮，滑动动力元件用于驱动抛光轮靠近或远离待抛光件。本高精度抛光装置的砂带通过抛光轮与待抛光件进行摩擦，实现抛光；通过滑动动力元件驱动抛光轮靠近或远离待抛光件，进行补偿，确保抛光精度；本高精度抛光装置结构简单、使用方便、抛光精度高。
- 高精度抛光装置
- [实用新型]轧辊在线抛光设备-CN202122142252.6有效
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王玉红;李风浪;赵冬杰;宋超;张汉
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东莞兆泰机械设备有限公司
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2021-09-06
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2022-03-11
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B24B21/02
- 本实用新型涉及一种轧辊在线抛光设备，包括机架、抛光组件、检测组件及平行调节组件，抛光组件包括抛光支架与抛光轮，抛光轮转动连接抛光支架的一端；检测组件包括检测滑块与位移感应器，检测滑块滑设于机架，抛光支架滑设于检测滑块，位移感应器安装于检测滑块上，位移感应器用于检测辊压机的轧辊与抛光轮的平行度；平行调节组件连接辊压机与机架以调整机架与辊压机的间距。本轧辊在线抛光设备通过检测滑块带动位移感应器沿轧辊移动以检测轧辊与抛光轮的平行度，根据位移感应器反馈的信息，通过平行调节组件调整机架与辊压机的间距，使抛光轮与轧辊平行，确保抛光精度；本轧辊在线抛光设备使用方便、降低成本、缩短修磨周期、提高抛光精度。
- 轧辊在线抛光设备
- [实用新型]抛光机用防尘装置-CN202122142253.0有效
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王玉红;李风浪;赵冬杰;宋超;张汉
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东莞兆泰机械设备有限公司
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2021-09-06
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2022-03-11
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B24B55/08
- 本实用新型涉及一种抛光机用防尘装置，包括机架与除尘组件，除尘组件包括除尘支架、雾化器、喷淋管、收集箱及除尘轮，除尘支架安装于机架上，雾化器连通喷淋管，喷淋管安装于除尘支架上，喷淋管用于朝抛光用的砂带喷淋雾化水，收集箱安装于除尘支架，除尘轮转动连接除尘支架上，除尘轮安装于收集箱的上方，除尘轮用于擦拭抛光后的砂带。本抛光机用防尘装置通过喷淋管喷洒雾化水，防止抛光过程中产生的灰尘等杂质飞扬；再通过除尘轮擦拭砂带，将砂带上的灰尘等杂质沉积在收集箱，实现除尘；本抛光机用防尘装置结构简单、使用方便、除尘效果佳。
- 抛光机防尘装置
- [发明专利]一种集成电路封装生产线设备-CN201610865244.5有效
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李风浪;李舒歆
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合肥芯谷微电子有限公司
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2016-09-25
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2020-09-04
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H01L21/67
- 本发明公开了一种集成电路封装生产线设备，包括底座、输送机构、压合机构、点胶机构以及控制机构，输送机构、压合机构、点胶机构以及控制机构均设置在底座上部，压合机构和点胶机构依次设置在输送机构的侧面，输送机构、压合机构、点胶机构均与控制机构电连接；输送机构包括支架，支架上沿左右方向均匀排布有带有方形槽的托盘，集成电路封装被放置在托盘中，托盘的前后两端均具有长度超过支架边缘的延伸条；支架的两侧均设置有步进式推进单元，步进式推进单元包括设置在底座上部的电机座以及多个带轮座。本发明提供一套完整的封装生产线设备，其利用步进式推进单元实现集成电路板的逐渐推送，进而完成压合和点胶密封两个工艺，使得整个封装过程连续不间断。
- 一种集成电路封装生产线设备
- [发明专利]一种有效除去废水中环丙沙星的方法-CN201611049638.X有效
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李风浪;李舒歆
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施小斌
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2016-11-25
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2019-11-22
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C02F9/08
- 本发明公开了一种有效除去废水中环丙沙星的方法，包括以下步骤：将废水预先沉淀，上清液通入到絮凝反应池中，边搅拌边向絮凝反应池中加入絮凝剂，静置沉淀，上清液注入到吸附处理池中；向吸附处理池中加入由微钠二级结构的掺杂聚苯胺颗粒作为吸附剂，搅拌吸附处理2‑5h，后过滤，滤水注入到超声波发生器中；向超声波发生器的废水中加入过氧化氢，搅拌混合均匀，开启超声波发生器，200‑500W下处理1‑2h，处理完成后，过滤，滤液可直接排放。该方法可以有效除去废水中的环丙沙星，且对水体和环境无二次污染，操作简单，成本低。
- 一种有效除去水中环丙沙星方法
- [发明专利]一种抗生素制药废水的深度处理工艺-CN201611049645.X有效
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李风浪;李舒歆
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罗芳芳
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2016-11-25
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2019-10-22
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C02F9/04
- 本发明公开了一种抗生素制药废水的深度处理工艺，包括以下步骤：首先向抗生素制药废水中投加混凝剂，投加完毕后，50‑100r/min的转速下搅拌5‑10min，然后静置沉淀1‑2h，上清液注入到吸附沉淀池中；向吸附沉淀池的废水中加入由微纳二级结构的掺杂聚苯胺颗粒作为吸附剂，搅拌吸附处理2‑5h后过滤，滤水注入到光催化降解池中；向光催化降解池的废水中加入Fe‑Ni离子掺杂的纳米TiO2，在可见光的照射下处理1.5‑3.5h，处理后的废水经保安过滤器过滤后，用高压泵纳滤装置，纳滤装置出水直接排放或回用。该方法操作简单、成本低，有机物去除率高，对水体和环境无二次污染。
- 一种抗生素制药废水深度处理工艺
- [发明专利]一种遮阳伞固定器-CN201710212356.5有效
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李风浪
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张金丹
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2017-04-01
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2019-10-22
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A45B25/00
- 本发明公开了一种遮阳伞固定器，包括底座，遮阳伞的中心撑杆的底部安装在所述底座上，所述底座插设在地面上的凹坑内；所述底座开设中空腔，底座上枢接有竖立设置的中心螺杆，中心螺杆的下半部分位于所述中空腔内，中心螺杆的下半部分上螺接有驱动块，驱动块的底部外径小于其顶部外径，驱动块的侧壁上活动连接有插杆，插杆横向穿过开设在中空腔侧壁上的通孔而突出所述底座。底座插设在地面上的凹坑内，中心螺杆旋转，驱动块下降，插杆横向移动而突出底座的侧壁并插入凹坑的侧壁中，以定位底座，进而，遮阳伞能够稳定地固定在地面上。
- 一种遮阳伞固定器
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