专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]电源引线焊点的可靠性检测方法-CN201410072811.2有效
  • 章晓文;何小琦;恩云飞 - 工业和信息化部电子第五研究所
  • 2014-02-28 - 2014-05-28 - G01N17/00
  • 一种电源引线焊点的可靠性检测方法,包括:建立引线焊点可靠性的测试装置,所述测试装置置于温循箱内,包括:引线、过渡片、粘接层和陶瓷基板,各键引线设置在过渡片上,各条引线串联,串联后的引线一端连接电源的第一接线柱,另一端连接电源的第二接线柱,所述过渡片的粘接面粘接在粘接层上,所述粘接层设置在陶瓷基板上,引线为与电源引线相同类型的引线;通过所述测试装置获取引线焊点初始阻值和当前阻值,并根据初始阻值、当前阻值和预设倍数值判断引线焊点是否失效,当引线焊点失效时获取温度循环次数;根据温度循环次数判断电源引线焊点的可靠性。
  • 电源引线可靠性检测方法
  • [发明专利]Mini LED/Micro LED灯珠的工艺和装置-CN202211152326.7在审
  • 黄良斌;耿婷;黄良辉;王文磊 - 领先光学技术(江苏)有限公司
  • 2022-09-21 - 2022-12-27 - G01N21/88
  • 本发明公开了一种Mini LED/Micro LED灯珠的工艺和装置,属于显示器制造领域,所述工艺包括:检测第一层的完整性;在第一层和第二连接处制造物理黏附层,并对第二层进行固定;分别以第一层和第二层相对应的一个基准位置作为原点建立两个平面坐标系;获取第一层的区域特征值和第二层的区域特征值;判断所述第一层的区域特征值是否匀称的覆盖在第二层的区域特征值上;利用压模具对所述第一层和第二层进行物理本发明通过获取第一层和第二层的进行数学模型化,预先进行模拟,保证了第一层和第二层之间的位置准确性,降低了因为尺寸原因或错位安装,而导致的返工。
  • miniledmicro工艺装置
  • [发明专利]三维存储器及其检测方法-CN202110748364.8有效
  • 杨荟;汤强;史维华 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-06-30 - 2022-05-27 - H01L23/544
  • 该三维存储器包括:存储阵列芯片,包括第一面;外围电路芯片,包括第二面,其中,存储阵列芯片在第一面处与外围电路芯片在第二面处连接;受检电路,包括位于存储阵列芯片中的第一导电层和位于外围电路芯片中的第二导电层,其中,第一导电层包括暴露于第一面的第一触点,第二导电层包括暴露于第二面的第二触点,第一导电层和第二导电层通过第一触点和第二触点连接后形成受检电路;以及检测模块,位于外围电路芯片和/或存储阵列芯片中,并与受检电路的第一端连接,用于检测受检电路的开路或者短路情况。
  • 三维存储器及其检测方法
  • [实用新型]一种采用应力改善结构的装置-CN202320708811.1有效
  • 刘畅畅;李军帅;孔玮 - 西湖烟山科技(杭州)有限公司
  • 2023-04-03 - 2023-08-11 - H01L21/603
  • 本实用新型属于半导体制造领域,尤其是一种采用应力改善结构的装置,针对现有的装置在使用过程中,加热板和压头表面的不均匀和表面清洁不到位,导致片容易出现损坏的问题,现提出如下方案,其包括外壳,所述外壳连接有加热底座,加热底座上连接有第三缓冲材料,第三缓冲材料连接有第四缓冲材料,外壳连接有压力头,压力头连接有第一缓冲材料,第一缓冲材料连接有第二缓冲材料,本实用新型能够在施加压力时,缓冲材料起到缓冲样品作用,保证样品处于等静压状态下,进一步提高样品每一处的受力均匀,防止样品破损,提高样品的良率,保证界面质量。
  • 一种采用应力改善结构装置
  • [实用新型]FBAR滤波器-CN201921406463.2有效
  • 李国强 - 广州市艾佛光通科技有限公司
  • 2019-08-27 - 2020-05-01 - H03H9/54
  • 本实用新型提供一种FBAR滤波器,FBAR滤波器包括:衬底,衬底一侧设置有与第一连接的第二层,支撑层设置在第一层远离第二层的一侧;第一电极,第一电极设置在支撑层远离第一层的一侧,支撑层空腔贯穿支撑层、第二层且两端分别接触第一电极、衬底;压电薄膜,压电薄膜设置在第一电极远离支撑层一侧,电极上引结构贯穿压电薄膜与第一电极连接,顶电极设置在压电薄膜远离第一电极一侧,与电极上引结构部分连接;第一通孔,第一通孔贯穿衬底与支撑层空腔连接。本实用新型无需设置牺牲层,保留了压电薄膜的完整性,并且这种在衬底上开孔的结构设计,结构稳定,不易塌陷,可以很好的改善压电薄膜的品质。
  • fbar滤波器
  • [发明专利]一种微同轴接口-CN201911416253.6有效
  • 周彪;王建;许向前;要志宏;史光华;孔令甲;常青松;袁彪;赵正桥 - 中国电子科技集团公司第十三研究所
  • 2019-12-31 - 2021-09-07 - H01L23/49
  • 本发明提供了一种微同轴接口,属于芯片连接结构技术领域,包括外导体、内导体、绝缘板以及支撑体;其中,外导体设有通腔;内导体悬空设置在通腔内,内导体的一端用于与芯片通过线;绝缘板设于通腔内且与内导体的端搭接,一端伸出通腔且伸出端与外导体的侧壁固定连接;支撑体设于通腔内且位于绝缘板的正下方,支撑体的顶端支撑于绝缘板的底面。本发明提供的一种微同轴接口,绝缘板的正下方设有支撑体,在内导体上进行操作时,能够避免因下压而造成内导体向下弯折或下坠的问题,确保点的结合强度高,从而保证质量,确保接口的信号传输稳定可靠
  • 一种同轴接口
  • [发明专利]一种原子级离子清洁活化低温装置及方法-CN202110579209.8在审
  • 张景文;时明月;刘静楠;王燕;张恒清;侯洵 - 西安交通大学
  • 2021-05-26 - 2021-09-10 - H01L21/50
  • 本发明公开了一种原子级离子清洁活化低温装置及方法,通过在真空腔内设置射频电极和气源,采用移动承载台,在移动承载台上设置有承载台,承载台上设置有两个对称设置的样品承载台,样品承载台与承载台通过移动转台连接,移动转台能够在承载台上滑动,样品承载台与移动转台转动连接,样品承载台上端用于固定预晶圆,真空腔能够在真空腔和退火真空腔之间移动,形成相对固定的能够在独立空间内进行低温处理和退火处理的空间,能够实现在低温环境下进行,退火真空腔内的退火加热装置气体沉积原子层来避免不易界面的晶格失配,最后经过热退火处理装置对晶圆进行热退火,从而获得高质量的界面和强度。
  • 一种原子离子清洁活化低温装置方法
  • [实用新型]晶圆装置-CN201922172247.2有效
  • 欧欣;李忠旭;赵晓蒙;陈阳;黄凯 - 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
  • 2019-12-06 - 2020-10-09 - H01L21/67
  • 本实用新型提供了一种晶圆装置,包括:用于晶圆的腔;用于对后的所述晶圆进行逐级冷却的多个串联设置的温度缓冲腔;用于传送所述晶圆的多个晶圆传送模块,其设置于所述腔与所述温度缓冲腔之间以及多个串联设置的所述温度缓冲腔中相邻的所述温度缓冲腔之间本实用新型通过设置多个串联连接腔的温度缓冲腔,使后的晶圆在多个温度缓冲腔中逐级冷却,减少了对所述腔的占用时间,从而提升了腔的使用效率;同时,温度缓冲腔的设置还可以减小晶圆传递时的热冲击,使晶圆的热应力逐步释放,优化晶圆的整体形貌参数,避免了直接将高温晶圆从装置中取出而导致的晶圆解或碎裂问题。
  • 晶圆键合装置
  • [发明专利]RF放大器封装-CN202111443631.7在审
  • 约瑟夫斯·H·B·范德赞登;丹尼尔·玛森 - 安普林荷兰有限公司
  • 2021-11-30 - 2022-06-03 - H01L25/16
  • 根据本发明,RF功率FET包括布置在栅极条和第一漏极条之间的第二漏极条,第一漏极连接到RF放大器封装的输出端。漏极指状物从第二漏极条朝向栅极条延伸,且漏极指状物朝向第一漏极条延伸。第二漏极条使用线连接到隔直电容器。这些线形成电感,该电感与RF功率FET的输出电容在RF放大器封装的工作频率处或RF放大器封装的工作频率附近进行谐振。通过在栅极条和第一漏极条之间布置第二漏极条,RF放大器封装可以以更高的频率工作。
  • rf放大器封装
  • [实用新型]三维封装结构-CN201420155463.0有效
  • 王文斌;王之奇;喻琼;王蔚 - 苏州晶方半导体科技股份有限公司
  • 2014-04-01 - 2015-02-04 - H01L23/538
  • 一种三维封装结构,包括:第一衬底,第一衬底上具有第一焊盘;位于第一焊盘上的第一层;位于第一层周围形成保护墙,所述保护墙的顶部表面高于第一层的表面;倒装在第一衬底上的第二衬底,所述第二衬底上具有第二焊盘,所述第二焊盘的表面上具有第二层,第二衬底上的第二层与第一衬底上的第一连接,所述保护墙围绕所述第一层和第二层。本实用新型的三维封装结构具有保护墙,在进行第一层和第二层的合时,防止第一层或第二层材料向面两侧的溢出。
  • 三维封装结构

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