专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于直接晶片的晶片设备和晶片系统-CN201910549829.X在审
  • 金兑泳;金俊亨;金会哲;罗勋奏;文光辰 - 三星电子株式会社
  • 2019-06-24 - 2020-02-21 - H01L21/603
  • 提供了一种晶片设备和一种晶片系统。所述晶片设备包括:下卡盘,所述下卡盘用于在所述下卡盘的周缘部分处固定下晶片;上卡盘,所述上卡盘用于固定上晶片;引发器,所述引发器用于对所述上晶片的中心部分加压,直到所述上晶片的所述中心部分触及所述下晶片的中心部分,由此通过使所述上晶片变形来引发所述上晶片与所述下晶片的过程;以及控制器,所述控制器用于控制所述上晶片的周缘部分与所述下晶片的周缘部分之间的合速度,使得在所述上晶片的周缘部分和所述下晶片的周缘部分之前
  • 用于直接晶片设备系统
  • [发明专利]微发光装置的治具、设备及其方法-CN202210110504.3在审
  • 徐宸科 - 厦门市三安光电科技有限公司
  • 2018-02-02 - 2022-05-06 - H01L33/00
  • 本发明有关一种微发光装置的治具及其方法,其主要由若干块多孔板构成,各多孔板设有穿孔以容置依据待微发光装置待分离点设置的顶针,顶针两端凸伸出治具,其在待微发光装置端,为与待微发光装置的待分离点对应的接触端,而在针床端,则为与针床的弹簧针接触的接触端,各顶针依据待分离点具有适当的斜率,该针床端的多孔板穿孔外缘具有容设顶针端部的定位孔,且该定位孔深度依据所容置顶针的斜率大小而定,使待微发光装置端的顶针具有相同出针长度,具有提高治具的稳定性,避免微发光装置排列不齐的效果。
  • 发光装置键合治具设备及其方法
  • [发明专利]微发光装置的治具、设备及其方法-CN201810108493.9有效
  • 徐宸科 - 厦门市三安光电科技有限公司
  • 2018-02-02 - 2022-02-22 - H01L33/00
  • 本发明有关一种微发光装置的治具及其方法,其主要由若干块多孔板构成,各多孔板设有穿孔以容置依据待微发光装置待分离点设置的顶针,顶针两端凸伸出治具,其在待微发光装置端,为与待微发光装置的待分离点对应的接触端,而在针床端,则为与针床的弹簧针接触的接触端,各顶针依据待分离点具有适当的斜率,该针床端的多孔板穿孔外缘具有容设顶针端部的定位孔,且该定位孔深度依据所容置顶针的斜率大小而定,使待微发光装置端的顶针具有相同出针长度,具有提高治具的稳定性,避免微发光装置排列不齐的效果。
  • 发光装置键合治具设备及其方法
  • [发明专利]晶圆结构、晶圆方法及芯片结构-CN202010762646.9有效
  • 叶国梁;易洪昇 - 武汉新芯集成电路制造有限公司
  • 2020-07-31 - 2021-10-26 - H01L21/60
  • 本发明提供了一种晶圆结构、晶圆方法及芯片结构,第一晶圆包括非金属层区域和分布有所述第一金属层的金属层区域;位于非金属层区域的第一调整层低于位于金属层区域的所述第一调整层;第二调整层覆盖第一调整层化学机械研磨所述第二调整层和所述第一调整层,研磨液对第一调整层和第二调整层的研磨速率不同,使在非金属层区域剩余的第二调整层高于或低于在金属层区域剩余的第一调整层,在非金属层区域形成第一凸起部或第一凹陷部,以匹配与其的有凹陷或凸起的晶圆或芯片减少间隙,提高工艺质量以及产品良率。消除或减少由于化学机械研磨工艺带来的局部位置凹陷,修正上下晶圆的空隙,提高强度以及质量。
  • 晶圆键合结构方法芯片
  • [发明专利]多功能半导体晶片装置-CN200610082853.X无效
  • 杨国华;何国荣;石岩;宋国峰;郑婉华;陈良惠 - 中国科学院半导体研究所
  • 2006-06-15 - 2007-12-19 - H01L21/603
  • 一种多功能半导体晶片装置,包括腔室,该腔室中间的下部安装有一下压头;抽真空装置与腔室连接,控制真空泵机组对腔室抽真空,并且实时监测腔室的真空度;加热装置位于腔室内,对腔室加热到设定的温度,并且通过反馈装置保持腔室的温度在一定范围内,并且能够实时监测腔室的温度;气体氛围改变装置与腔室连接,改变腔室的气体氛围分别为真空、氮气氛围、氢气氛围或者氮气氢气混合氛围;施力装置位于腔室的任一侧,为腔室内的半导体晶片施加压力,并且可以实时监控晶片上施加的压力。
  • 多功能半导体晶片装置
  • [发明专利]带有导线的半导体封装件-CN201480034338.7无效
  • A·P·乔希;G·拉金德兰;B·帕克斯 - 德克萨斯仪器股份有限公司
  • 2014-04-21 - 2016-02-03 - H01L23/49
  • 一种半导体封装件10具有管芯12,管芯12具有多个电连续管芯导线部位30,所述多个电连续管芯导线部位包括第一管芯导线部位32和第二管芯导线部位34。该封装件包括基板22,基板22具有多个电连续基板导线部位40,所述多个电连续基板导线部位包括第一基板导线部位42和第二基板导线部位44。第一线52被连接在第一管芯导线部位32与第一基板导线部位42之间,并且第二线54被连接在第二管芯导线部位34与第二基板导线部位44之间。第一和第二线52、54位于相邻的基本平行的线平面AA、BB内。第二线54相对于第一线52充分偏移。
  • 带有导线半导体封装
  • [发明专利]芯片晶圆结构及方法-CN202310579092.2在审
  • 蓝天;丁潇 - 芯盟科技有限公司
  • 2023-05-19 - 2023-08-22 - H01L23/485
  • 本发明提供一种芯片晶圆结构及方法。所述芯片晶圆结构包括:基底晶圆,具有第一表面,在所述第一表面设置有第一柱;层,位于所述基底晶圆的第一表面,所述层包括至少一槽,所述第一柱位于所述槽底部;至少一芯片,位于所述槽内,所述芯片朝向所述基底晶圆的表面具有第二柱,所述第一柱与所述第二连接。上述技术方案通过设置所述层及槽,在晶圆合时无需对准晶圆标记,仅需将所述芯片放置于所述槽中,并在所述基底晶圆及所述芯片的表面设置所述第一柱及所述第二柱,通过所述第一柱及所述第二柱完成所述基底晶圆及所述芯片的,提高效率。
  • 芯片晶圆键合结构方法
  • [发明专利]晶粒设备和晶粒方法-CN202011330424.6在审
  • 胡庆云;胡金 - 深圳市联得自动化装备股份有限公司
  • 2020-11-24 - 2021-03-26 - H01L21/18
  • 本发明涉及一种晶粒设备和晶粒方法,该晶粒设备包括:激光发生器;台,位于所述激光发生器发出的激光的光路上;压头,为透光材质;升降模块,用于带动所述压头在垂直于所述台的方向运动。上述晶粒设备通过压头向晶粒施加压力,同时激光透过压头使粘合材料融化,使晶粒在与基板过程中不会随着粘合材料融化而产生位置偏移或者角度变化,实现LED晶粒与基板稳定
  • 晶粒设备方法
  • [发明专利]晶圆结构及方法-CN202011478699.4在审
  • 张栖瑜;王学毅 - 联合微电子中心有限责任公司
  • 2020-12-15 - 2021-04-02 - H01L21/60
  • 本发明提供一种晶圆结构及方法,通过分别在第一晶圆及第二晶圆上制备对应设置的第一沟槽及第二沟槽,以及进行表面亲水性处理后,可通过在分立的晶粒上添加液体,以进行对应晶粒的贴合处理,从而依靠晶粒实现第一晶圆与第二晶圆的自对准;由于晶圆的自对准是基于晶粒进行的,从而本发明可适用于不同尺寸的晶圆间的自对准,适用范围较广;操作便捷,无需价格昂贵的自动对准机,可降低生产成本;通过表面亲水性处理及等离子体激活处理可提高晶圆表面能,降低退火温度,增加工艺流程的可靠性;第一沟槽及第二沟槽可作为热流道,提高自对准的效果。
  • 晶圆键合结构方法
  • [发明专利]技术的能测试方法-CN202111314371.3在审
  • 余汇宇;刘武 - 长江存储科技有限责任公司
  • 2021-11-08 - 2022-03-29 - G01N3/08
  • 本申请实施例公开了技术的能测试方法,包括如下步骤:提供样品,样品包括互相的第一部以及第二部,第一部包括相背的第一表面和第二表面,第二部位于第二表面的中部;对样品施加压力:在第一表面向第一部施加第一压力;同时,在第二表面或者在第一部的周侧面向第一部施加多个第二压力;记录第二部与第一的边缘出现裂纹时,对应的第一压力与第二压力;根据裂纹的长度、第二部与第一的边缘出现裂纹时对应的第一压力以及第二压力,计算能;通过控制第一压力与第二压力的大小可以降低样品破碎的风险,进而为晶圆的质量提供可靠保障。
  • 技术键合能测试方法

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