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[发明专利]三角形铝靶材及其制造方法-CN202310795402.4在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;刘聪 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2023-06-30 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：其中三角形铝靶材包括溅射区和附着区，溅射区沿三角形铝靶材的周向边缘设置；附着区设置于溅射区的内侧，附着区的粗糙度大于溅射区的粗糙度。本发明的溅射区用于对应溅射过程中的磁场强度，溅射成膜；位于溅射区内侧附着区粗糙度设置为大于溅射区的粗糙度，使得附着区对溅射过程中形成的Redepo层的附着力增强，可以有效地避免Redepo层脱离，进而避免了Redepo物质掉落机台或晶圆上造成的损失，节约了成本，同时提高了产品的良率；另外，通过在溅射区内侧设置附着区，可以在不影响溅射区溅射成膜的条件下防止其内侧Redepo层脱离，有效地减少了损失。
三角形铝靶材及其制造方法

[实用新型]一种溅射镀膜装置-CN201820520480.8有效
发明人：任建达 -专利权人：北京创昱科技有限公司
申请日： 2018-04-12 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种溅射镀膜装置，其包括真空腔体，真空腔体内设置有溅射靶材、与溅射靶材相对的被镀基体、出气装置，真空腔体的侧壁上设置有用于向真空腔体内通入溅射气体的进气孔，出气装置上设置有与进气孔相连的气体入口、至少两个与气体入口相连通的气体出口，各气体出口分布在溅射靶材的至少一侧。本实用新型的溅射镀膜装置，其使得溅射气体经进气孔、气体入口进入出气装置后能够经至少两个气体出口流出溅射气体提供给溅射靶材，有效地增加了向溅射靶材提供溅射气体的气体出口的数量，从而能够使得现有技术中溅射靶材表面受到的轰击很不均匀的现象得到较好地缓解，进而使得被镀基体上的镀膜膜层的均匀性和溅射靶材消耗的均匀性得到提高。
溅射靶材溅射气体气体出口溅射镀膜装置出气装置气体入口进气孔本实用新型真空腔体均匀性真空腔体内溅射靶材表面镀膜膜层不均匀有效地侧壁轰击流出消耗缓解

[发明专利]一种溅射靶材及用该溅射靶材制作的CIGS基薄膜太阳能电池-CN201510711517.6在审
发明人：李艺明;邓国云 -专利权人：厦门神科太阳能有限公司
申请日： 2015-10-28 - 公布日： 2016-02-24 - 主分类号： H01L31/032 文献下载
摘要：本发明提供了一种溅射靶材及用该溅射靶材制作的CIGS基薄膜太阳能电池，通过在硒化锌材料中掺入一定量的B、Al、Ga、In元素来制作硒化锌溅射靶材，并用该硒化锌溅射靶来制作无镉的薄膜太阳能电池，本发明的硒化锌溅射靶材可使用DC溅射沉积或AC溅射沉积，可避免使用复杂的RF溅射设备沉积硒化锌膜层，可降低薄膜电池的制造成本。
一种溅射制作 cigs 薄膜太阳能电池

[发明专利]溅射靶材及其使用方法-CN201910183904.5在审
发明人：杨清河;吴智稳;翁基祥;苏梦鹏 -专利权人：住华科技股份有限公司
申请日： 2019-03-12 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：溅射靶材及其使用方法。溅射靶材包括背板、溅射板与保护单元。背板具有上表面。溅射板设置在上表面上，并具有一溅射板边缘。保护单元设置在上表面上，并相邻溅射板边缘。本发明技术方案通过保护单元、中间保护单元共同防止背板在溅射工艺中被溅射消耗而损坏的问题产生，以进一步延长背板的使用寿命，因此可降低制造成本，且更换保护单元等的方法简单、快速，可提升工艺效率。
保护单元溅射板背板上表面溅射靶材溅射工艺效率使用寿命制造成本消耗

[发明专利]溅射沉积源、溅射沉积设备和为溅射沉积源供电的方法-CN201980095031.0在审
发明人：约阿希姆·松嫩申;威利·绍尔;丹尼尔·谢弗-科皮托;托拜西·伯格曼 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2019-04-03 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：描述了溅射沉积源(100)。所述溅射沉积源包括：第一溅射电极(110)；以及电源组件(130)，所述电源组件用于向所述第一溅射电极供应电流。另外，描述了一种溅射沉积设备(200)，所述溅射沉积设备包括两个相邻溅射电极，所述两个相邻溅射电极可经由包括多个绝缘芯的线缆供应交流电。
溅射沉积设备供电方法

[发明专利]溅射靶材及用该溅射靶材制作的CIGS基薄膜太阳能电池-CN201510370003.9有效
发明人：李艺明;邓国云 -专利权人：厦门神科太阳能有限公司
申请日： 2015-06-30 - 公布日： 2018-02-09 - 主分类号： H01L31/0336 文献下载
摘要：本发明提供了一种溅射靶材及用该溅射靶材制作的CIGS基薄膜太阳能电池，通过在硫化锌材料中掺入一定量的B、Al、Ga、In元素来制作硫化锌溅射靶材，并用该硫化锌溅射靶来制作无镉的薄膜太阳能电池，本发明的硫化锌溅射靶材可使用DC溅射沉积或AC溅射沉积，可避免使用复杂的RF溅射设备沉积硫化锌膜层，可降低薄膜电池的制造成本。
溅射制作 cigs 薄膜太阳能电池

[发明专利]一种磁控溅射镀膜机-CN201610865393.1有效
发明人：佘鹏程;彭立波;龚俊;范江华 -专利权人：中国电子科技集团公司第四十八研究所
申请日： 2016-09-29 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开了一种磁控溅射镀膜机，包括腔体、基片台及多个溅射靶，多个溅射靶沿基片台圆周方向布置并朝基片台偏转，所述腔体底部于相邻两个溅射靶之间分别安装有一组隔板组件，所述溅射靶与所述基片台之间设有旋转挡板组件，所述旋转挡板组件上开设有供单个溅射靶进行溅射工艺的缺口。本发明具有构简单可靠、成本低、可对溅射靶形成有效保护、减少靶材之间的交叉污染、提高沉膜质量等优点。
一种磁控溅射镀膜

[实用新型]一种温补衰减器三面溅射夹具-CN201820586345.3有效
发明人：郭冬英;陈庆红;朱雪婷;张铎;张青;罗彦军;喻振宁 -专利权人：中国振华集团云科电子有限公司
申请日： 2018-04-24 - 公布日： 2018-12-14 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种温补衰减器三面溅射夹具，包括底座，底座侧部设有档壁，底座紧挨档壁侧上下重叠设有上溅射夹具与下溅射夹具，上溅射夹具与下溅射夹具通过螺丝固定连接，下溅射夹具另一侧设有辅助固定块，下溅射夹具对应辅助固定块侧开设有容纳槽，上溅射夹具顶部对应容纳槽处开设有通槽，辅助固定块上开设有固定孔，辅助固定块通过螺栓与底座固定连接。
夹具溅射辅助固定块底座温补衰减器容纳槽档壁三面本实用新型底座侧部螺丝固定上下重叠螺栓固定孔紧挨通槽

[发明专利]溅射靶-CN201180056488.4有效
发明人：池田真 -专利权人：三井金属矿业株式会社
申请日： 2011-11-28 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明为一种溅射靶，其特征在于，含有Ag和C。本发明的溅射靶在Fe、Pt及C的基础上还含有Ag。由于含有Ag，从而本发明的溅射靶成为高密度。其结果为，能够减少在实施溅射时将溅射靶设置在真空气氛中之际，从溅射靶释放出的气体的量，从而能够提高通过实施溅射而形成的薄膜的特性。此外，本发明的溅射靶即使在通过低温烧结而被制造的情况下也成为高密度。
溅射

[发明专利]溅射沉积方法、溅射系统、光掩模坯料的制造及光掩模坯料-CN201410738665.2在审
发明人：笹本纮平;深谷创一;中川秀夫;稻月判臣 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2014-12-05 - 公布日： 2015-06-10 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本发明提供了溅射沉积方法、溅射系统、光掩模坯料的制造及光掩模坯料。通过以下方法在衬底上溅射沉积膜：向真空室(3)提供第一和第二靶材(1，2)，使得第一和第二靶材(1，2)的溅射表面(11，21)可面向衬底(5)并且彼此平行或倾斜布置，同时向第一和第二靶材(1，2)供应电能，并且在衬底上沉积溅射颗粒同时控制溅射条件，使得从一个靶材射出的溅射颗粒到达另一个靶材的溅射表面并且沉积在其上的速率不大于通过溅射从该另一个靶材移除该溅射颗粒的速率。
溅射沉积方法系统光掩模坯料制造

[发明专利]非粘合溅射结构以及形成用于溅射的结构的方法-CN201210227849.3在审
发明人：朴京一;全勤益;金相秀;李允龙 -专利权人：三星电子株式会社;YMC株式会社
申请日： 2012-07-02 - 公布日： 2013-01-02 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供了非粘合溅射结构以及形成用于溅射的结构的方法。该非粘合溅射结构包括具有板状的溅射靶和具有板状的背板。背板面对溅射靶，并且溅射靶和背板的面对表面彼此接触。冷却材料将由溅射而从溅射靶产生的热传导到背板的外部。该非粘合型溅射结构还包括多个非粘合紧固构件，该多个非粘合紧固构件保持背板和溅射靶的面对表面彼此接触。
粘合溅射结构以及形成用于方法

[发明专利]一种多层透明导电薄膜及其制备方法与应用-CN202110119993.4有效
发明人：宋安刚;霍方方;朱地;胡俊华;赵保峰;关海滨;徐丹;王树元 -专利权人：山东省科学院能源研究所
申请日： 2021-01-28 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种多层透明导电薄膜及其制备方法与应用，以氩气为等离子气源，以氧气为反应气体，在衬底上依次溅射第一二氧化钛膜、铜膜和第二二氧化钛膜，其中，二氧化钛膜采用远源等离子体溅射技术反应溅射沉积，铜膜采用直流溅射法溅射沉积是采用远源等离子体溅射技术在衬底上直流溅射沉积薄膜，通过控制反应溅射过程中的氧气流量和溅射功率，在相对较低的溅射功率和氧流量条件下，通过控制中间层铜薄膜的厚度来调控透明导电膜的光电性能。
一种多层透明导电薄膜及其制备方法应用

[实用新型]一种LED灯带可靠防水结构-CN201320487336.6有效
发明人：杨子明;刘新祥;施振华 -专利权人：深圳市日上光电股份有限公司
申请日： 2013-08-12 - 公布日： 2014-02-12 - 主分类号： F21S4/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种LED灯带可靠防水结构，由柔性带状电路板、LED贴片和纳米材料溅射层组成，LED贴片安装在柔性带状电路板表面，纳米材料溅射层附着在LED贴片和柔性带状电路板表面，纳米材料溅射层的厚度为其产生的有益效果是：纳米材料溅射层是通过溅射的方式在LED灯带表面形成的一层纳米材料，纳米材料溅射层厚度范围是50纳米到300纳米之间，这样厚度的纳米材料溅射层具有良好的透光和导热效果，同时，由于采用溅射的工艺，纳米材料溅射层与LED灯带表面的结合非常紧密，使得纳米材料溅射层具有良好的防水效果。
一种 led 可靠防水结构

[发明专利]溅射靶材毛刺去除方法、装置及电子设备-CN201810388691.5在审
发明人：姚力军;潘杰;王学泽;钱百峰 -专利权人：宁波江丰电子材料股份有限公司
申请日： 2018-04-26 - 公布日： 2018-09-21 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明实施例涉及溅射靶材加工技术领域，具体而言，一种溅射靶材毛刺去除方法、装置及电子设备。该方法包括：获得包含了待检测溅射靶材的图片，将包含了待检测溅射靶材的图片中的待检测溅射靶材与预设标准图片中的样本溅射靶材进行特征匹配，获得匹配率，判断匹配率是否低于预设值，若低于预设值，控制清洗设备对包含了待检测溅射靶材的图片中的各个螺纹孔进行清洗，获得包含了清洗之后的待检测溅射靶材的图片，将包含了清洗之后的待检测溅射靶材的图片中的待检测溅射靶材与预设标准图片中的样本溅射靶材进行特征匹配，获得二次匹配率，判断二次匹配率是否低于预设值，若不低于预设值该方法能提高溅射靶材的成品质量。
溅射靶材检测预设匹配毛刺去除装置及电子设备清洗图片特征匹配预设标准样本加工技术领域清洗设备螺纹孔判定

[发明专利]真空状态下靶材厚度的检测方法-CN201811307206.3在审
发明人：张诚 -专利权人：三河市衡岳真空设备有限公司
申请日： 2018-11-05 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： G01B7/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种真空状态下靶材厚度的检测方法，该检测方法包括：制定自检溅射工艺，其中溅射功率和工艺气体压强被设置为固定值；溅射设备和靶材首次配合使用时，启动溅射设备执行自检溅射工艺对靶材进行溅射直至靶材被击穿，记录执行过程中电压电流参数和靶材的厚度之间的对应关系，若靶材是导电靶材则电压电流参数是溅射电压和/或溅射电流，若靶材是不导电靶材则电压电流参数是射频溅射工艺产生的直流偏压；在溅射设备和靶材再次配合使用的过程中，当需要对靶材的厚度进行检测时启动溅射设备执行自检溅射工艺，在获得稳定的电压电流参数后根据电压电流参数和对应关系确定靶材的厚度。
靶材电压电流参数溅射设备溅射真空状态检测自检对靶压强导电靶材工艺气体关系确定溅射电压溅射功率射频溅射直流偏压不导电击穿记录制定