专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种沟槽阵列晶体结构-CN202021130563.X有效
  • 王以凯 - 无锡芯硅科技有限公司
  • 2020-06-17 - 2021-02-05 - H01L23/10
  • 本实用新型公开了一种沟槽阵列晶体结构,包括晶体主体、引脚和支撑组件,所述引脚阵列安装在晶体主体上下表面,两个所述支撑组件相对安装在晶体主体两侧,所述支撑组件包括卡板、支撑块和压紧螺杆,“U”型的所述卡板套设在晶体主体侧面,且内表面固定有与晶体主体表面接触的填充层,所述支撑块固定在卡板后表面,且可与安装面接触,所述压紧螺杆垂直安装在卡板前表面,且可对晶体主体表面挤压接触,所述晶体主体与安装面留有距离;本实用新型通过设置有支撑组件,既不影响晶体结构的安装和使用,又可对晶体主体起到支撑防护作用,让晶体主体与安装面之间留有距离,提高晶体散热效率,又避免表面造成磨损。
  • 一种沟槽阵列晶体管结构
  • [发明专利]一种SRAM器件及其制作方法-CN202310957862.2在审
  • 陈兴 - 合肥晶合集成电路股份有限公司
  • 2023-07-28 - 2023-10-27 - H10B10/00
  • 该SRAM器件包括负载晶体、传输晶体以及驱动晶体,首先提供一衬底,接着基于衬底定义负载晶体、传输晶体以及驱动晶体的有源区并形成浅槽隔离,再基于负载晶体的有源区表面进行氧离子注入,以减小负载晶体的顶角圆滑程度,并增加负载晶体的有源区上方的氧化层厚度,之后对负载晶体、传输晶体以及驱动晶体的有源区进行沟道掺杂,接着对负载晶体、传输晶体以及驱动晶体表面进行处理,并露出有源区,最后基于负载晶体、传输晶体以及驱动晶体的有源区制作栅电极
  • 一种sram器件及其制作方法
  • [发明专利]晶体器件及其制造方法-CN202210113386.1在审
  • R·西门尼克;I·穆里;T·施洛瑟;H-J·舒尔茨;O·斯托贝克 - 英飞凌科技股份有限公司
  • 2022-01-30 - 2022-08-05 - H01L29/423
  • 公开了晶体器件及其制造方法。提出了一种晶体器件(10)。晶体器件(10)的示例包括半导体本体(100),其具有第一主表面(101)、与第一主表面(101)相对的第二主表面(102)。晶体器件(10)进一步包括晶体单元阵列(610),其包括多个晶体单元(TC)。晶体单元阵列(610)包括在第一主表面(101)上的第一负载电极(L1)。第一负载电极(L1)被电连接到多个晶体单元(TC)。晶体单元阵列(610)进一步包括在第二主表面(102)上的第二负载电极(L2)。第二负载电极(L2)被电连接到多个晶体单元(TC)。多个晶体单元(TC)包括至少一个控制电极(C),该至少一个控制电极(C)包括碳。
  • 晶体管器件及其制造方法
  • [发明专利]双自行对准硅化物制造方法-CN02148260.8有效
  • 钟维民 - 旺宏电子股份有限公司
  • 2002-10-28 - 2004-05-05 - H01L21/82
  • 一种双自行对准硅化物制造方法,其包括在基底上形成掩模层,而基底上已形成有第一晶体与第二晶体,且第一晶体的栅极的上表面略高于第二晶体的栅极的上表面。接着图案化掩模层以暴露出第二晶体的栅极、源极与漏极,再分别于第二晶体的栅极、源极与漏极之上以自行对准硅化物制造方法来形成第一金属硅化物。然后在基底上形成介电层,且使其上表面高于第一晶体的栅极的上表面。去除高于第二晶体栅极上表面的介电层,以暴露出第一与第二晶体的栅极上表面。再以自行对准硅化物制造方法于第一晶体的栅极上表面形成第二金属硅化物。
  • 自行对准硅化物制造方法
  • [发明专利]薄膜晶体装置制备方法和薄膜晶体装置-CN201610867849.8在审
  • 张婷婷 - 昆山国显光电有限公司
  • 2016-09-30 - 2017-02-08 - H01L21/84
  • 本发明实施例提供了一种薄膜晶体装置制备方法和薄膜晶体装置,解决了现有技术中因驱动薄膜晶体和开关薄膜晶体的制程相同而导致的驱动薄膜晶体和开关薄膜晶体的亚阈值摆幅大小相等的问题。其中的薄膜晶体装置制备方法可包括在基板上制备至少两个薄膜晶体半成品,其中所述薄膜晶体半成品包括有源层、栅极绝缘层和栅极,所述至少两个薄膜晶体半成品包括至少一个起驱动作用的薄膜晶体半成品和至少一个起开关作用的薄膜晶体半成品;在所述至少两个薄膜晶体半成品表面制备层间介质层;减薄所述起驱动作用的薄膜晶体半成品表面的层间介质层;以及在每个所述薄膜晶体半成品表面制备源极和漏极。
  • 薄膜晶体管装置制备方法
  • [实用新型]一种HEMT晶体-CN202020814263.7有效
  • 胡绍朋 - 深圳市高鹏诺科技有限公司
  • 2020-05-15 - 2021-02-02 - H01L23/32
  • 本实用新型公开了一种HEMT晶体,包括晶体主体,所述晶体主体的外侧靠近边缘处安装有传递引脚,所述晶体主体的下端安装有晶体基座,所述晶体基座的上端外表面开设有方形凹槽,所述晶体主体的两端靠近底面的位置延伸有延长板,且晶体主体与延长板均位于方形凹槽的内部,所述晶体基座的上端外表面的方形凹槽的一侧开设有圆形槽,所述圆形槽的内部安装有滚针轴承,所述滚针轴承的内部安装有连接圆柱,所述连接圆柱的顶部连接有定固板,且定固板贴合于延长板的上端外表面本实用新型所述的一种HEMT晶体,使晶体主体能够被固定在方形凹槽中即将晶体主体固定在晶体基座上完成安装,操作比较方便,且固定牢固。
  • 一种hemt晶体管
  • [实用新型]晶体刷散热膏辅助工装-CN201720925669.0有效
  • 刘国仟;李光显;吴壬华 - 深圳欣锐科技股份有限公司
  • 2017-07-27 - 2018-03-02 - H01L21/67
  • 本实用新型公布了一种晶体刷散热膏辅助工装,所述晶体刷散热膏辅助工装包括底座、第一晶体载盘、钢网板及刮刀,所述钢网板与所述底座转动连接,所述第一晶体载盘位于所述底座与所述钢网板之间,所述第一晶体载盘用于盛放晶体,所述刮刀位于所述钢网板背离所述第一晶体载盘的一侧,压合所述钢网板与所述底座后,所述刮刀透过所述钢网板涂覆散热膏于所述晶体上。刮刀将散热胶涂覆于第一晶体载盘上的晶体表面,并且涂覆过程中散热胶需要透过钢网板的钢网缝隙后渗入到晶体表面,通过使用不同厚度的钢网板可以控制涂覆于晶体表面的散热胶的厚度,并且保证散热胶均匀的涂敷在晶体
  • 晶体管散热辅助工装
  • [实用新型]一种散热效果好的异质结双极晶体的半导体组件-CN202122570132.6有效
  • 林宏达;张德强;王丹 - 成都中浦科技有限公司
  • 2021-10-25 - 2022-03-11 - H01L23/367
  • 本实用新型公开了一种散热效果好的异质结双极晶体的半导体组件,包括散热外壳、底座、晶体以及散热块,所述散热外壳底部设置有底座,所述底座表面设置有基板,所述基板表面设置有晶体,所述晶体表面设置有导热块,所述导热块表面设置有散热块,所述散热块外表面设置有防护壳,且防护壳设置在散热外壳顶部,所述散热块顶部设置有第一散热板,所述第一散热板与防护壳顶部相连接。该异质结双极晶体的半导体组件,通过将晶体设置在外壳内部,以及晶体顶部设置有导热块和散热块,利用散热块顶部的散热板,把散热效果发挥到最佳,最大程度上减缓了晶体自身的热量,使晶体能够长时间进行使用,增加晶体的使用寿命。
  • 一种散热效果异质结双极晶体管半导体组件

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