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- [发明专利]真空处理方法及真空处理装置-CN201510845151.1在审
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津田英司
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株式会社仲氏液控
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2015-11-26
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2016-04-13
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C23C14/56
- 所述真空处理方法从可开闭的工件搬入口将工件依次搬入真空容器内，并沿设定为真空状态的真空容器内的工件搬送通路搬送工件后，从可开闭的工件搬出口将工件依次搬出真空容器外，其特征在于，当设置有搬送通路的搬送通路室以及设置在真空容器内与搬送通路室连通的工件的待避室在搬入口和搬出口敞开前设定为真空状态时，使搬送通路上的工件移动到待避室内并将待避室的出入口封闭成气密状态，在从打开的搬入口和搬出口执行工件的搬出搬入后，封闭搬入口和搬出口并在搬送通路室设定为真空状态时，打开待避室的出入口并将待避室内的工件返回到搬送通路上
- 真空处理方法装置
- [发明专利]真空成膜装置-CN201180042876.7有效
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天久勇人
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新明和工业株式会社
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2011-08-30
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2013-05-08
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C23C14/24
- 本发明的真空成膜装置（100）是在真空状态下对多个基材（20）成膜的成膜装置，具备：用于支持基材的多个基材支持体（23）；支持并搬运多个基材支持体（23）的基材单元（2）；和具有用于搬入及搬出该基材单元（2）的搬入口（10）以及用于开闭该搬入口（10）的搬入口门（11），且用于形成真空状态的真空槽（1）。基材单元（2）支持多个基材支持体（23）以使其在向真空槽（1）的搬运方向上直列地配置；搬入口（10）根据基材单元（2）的尺寸而形成。
- 真空装置
- [发明专利]基板匣、基板保管装置及基板处理系统-CN201180018294.5有效
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浜田智秀;木内彻
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株式会社尼康
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2011-04-11
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2012-12-19
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B65H75/36
- 基板匣(CTR)，具备：收容部(1)、搬出口(3)、搬入口(2)、导引部(4)。收容部(1)收容带状的基板(FB)。搬出口(3)及搬入口(2)是设于收容部(1)且供基板(FB)通过。导引部(4)将基板(FB)从搬入口(2)导引至搬出口(3)。导引部(4)包含可动导引板(45)及移动滚筒(47,48)。移动滚筒(47,48)包含伸缩部(52b)。当使用搬入滚筒(23)送入基板(FB)时，导引板(45)旋动成垂直姿势。随着基板(FB)搬入，伸缩部(52b)逐渐延伸。基板匣(CTR)是连接于基板处理装置(FPA)。
- 基板匣保管装置处理系统
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