[发明专利]成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 201811362764.X | 申请日： | 2018-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN110527948A | 公开（公告）日： | 2019-12-03 |
| 发明（设计）人： | 阿部可子;菅原洋纪 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/14;C23C14/24;C23C14/35;C23C14/58;C23C16/04;C23C16/455;C23C16/513;C23C16/56 |
| 代理公司： | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘杨<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够谋求成膜装置的成膜处理中的生产率提高的成膜装置、成膜方法及电子器件的制造方法。成膜装置具备：被维持成真空的基板搬送室(12)；具有用于搬入及搬出基板(10)的搬入搬出口(22a、22b)的第一真空成膜室(20a、20b)；以及分别具有用于搬入基板(10)的搬入口(32)和用于搬出基板(10)的搬出口(34)的第二真空成膜室(30)，第一真空成膜室(20a、20b)经由搬入搬出口(22a、22b)与基板搬送室(12)之间搬入及搬出基板(10)，第二真空成膜室(30)经由搬入口(32)从基板搬送室(12)搬入基板(10)，且不经由搬入口(10)向所述基板搬送室(12)搬出基板(10)。 | ||
| 搜索关键词： | 搬入 基板 真空成膜室 基板搬送 搬出 成膜装置 搬出口 搬入口 成膜处理 电子器件 成膜 制造 | ||
【主权项】：
1.一种成膜装置，其特征在于，/n该成膜装置具备：/n基板搬送室，被维持成真空；/n第一真空成膜室，具有用于搬入及搬出基板的搬入搬出口；以及/n第二真空成膜室，分别具有用于搬入基板的搬入口和用于搬出基板的搬出口，/n所述第一真空成膜室经由所述搬入搬出口与所述基板搬送室之间搬入及搬出基板，/n所述第二真空成膜室经由所述搬入口从所述基板搬送室搬入基板，且不经由所述搬入口向所述基板搬送室搬出基板。/n
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- 赵毅;孙影;刘立宁 - 吉林大学
- 2018-03-26 - 2020-01-07 - C23C14/04
- 本发明旨在解决传统真空镀膜机不能实现在光纤等柱型基片上均匀生长材料的问题，公开了一种用于在柱型基片上均匀蒸镀材料的镀膜机的上法兰盘，包括一个圆盘状的法兰盘主体，法兰盘主体上有一个放气阀，还包括转动机构、组合夹具机构和掩膜机构，一个电源与转动机构中的电机连接，电机固定在法兰盘主体的上表面上；组合夹具机构用于固定柱型基片的位置，通过电机带动夹具旋转，进而实现柱型基片的匀速旋转，通过旋转旋钮来调节掩模板的位置，选择需要的掩膜，本发明的转动机构可以使柱型基片绕其中心轴旋转，包含多个掩膜的掩膜板可以制备出完整并均匀的器件，并且避免了开仓对器件造成的污染和多次抽真空带来的时间上的浪费。
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