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[实用新型]掩模-CN202320315730.5有效
发明人：金世一;李尙玟 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2023-02-15 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：公开了一种掩模，所述掩模包括：主体，具有在第一方向上的长度，并且包括多个第一单元区域以及多个第二单元区域，多个第一单元区域在第一方向上布置且分别包括多个第一孔，多个第二单元区域分别包括多个第二孔；以及夹持部
掩模

[发明专利]掩模-CN201280059578.3在审
发明人：辛富建 -专利权人： LG化学株式会社
申请日： 2012-12-03 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模、一种制造该掩模的方法、一种光照射器件、一种光照射的方法和一种制造取向有序的光配向层的方法。当使用本发明的掩膜时，可以用具有优异的线性性能和均匀的照度的光照射待照射对象的表面上。此外，例如，即使在待照射对象具有弯曲表面时，本发明的掩模可以有效地照射光。
掩模

[发明专利]掩模-CN201280059582.X有效
发明人：辛富建 -专利权人： LG化学株式会社
申请日： 2012-12-03 - 公布日： 2017-09-01 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模、一种制造该掩模的方法、一种光照射器件、一种光照射的方法和一种制造取向有序的光配向层的方法。当使用本发明的掩膜时，可以用具有优异的线性性能和均匀的照度的光照射待照射对象的表面上。此外，例如，即使在待照射对象具有弯曲表面时，本发明的掩模可以有效地照射光。
掩模

[发明专利]掩模装置及其制造方法、蒸镀方法-CN201810284668.1有效
发明人：白珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-04-02 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩模装置及其制造方法、蒸镀方法，该掩模装置包括掩模边框、第一掩模板、第二掩模板。第一掩模板固定在掩模边框上且包括至少一个第一掩模开口；第二掩模板层叠在第一掩模板上且直接固定在掩模边框上；第二掩模板包括至少一个第二掩模开口，第二掩模开口与第一掩模开口至少部分重叠。该掩模装置可用于蒸镀有机薄膜，可提高掩模装置的平坦度，并且可有效改善清洗药液残留在第一掩模板和第二掩模板之间的不良现象。
装置及其制造方法

[发明专利]自动仓库以及物品搬出方法-CN201180042795.7有效
发明人：野村美砂树 -专利权人：村田机械株式会社
申请日： 2011-07-25 - 公布日： 2013-05-22 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：洁净储存库（100）具备：分别保管掩模板与掩模盒的掩模板用旋转架（111）以及空掩模盒用旋转架（112）；将装有掩模板的掩模盒供给给操作者的手动装载端口（160）；暂时保管装有掩模板的掩模盒的装有掩模板的掩模盒用旋转架（113）；检测来自操作者的指示的检测部（180）；掩模盒开启器（140），在检测到第1指示的情况下，从掩模板用旋转架（111）取得掩模板，从空掩模盒用旋转架（112）取得空掩模盒，并将取得的掩模板收纳于空掩模盒；以及掩模盒搬运装置（130），将装有掩模板的掩模盒载置于装有掩模板的掩模盒用旋转架（113），并且在检测出第2指示的情况下，将装有掩模板的掩模盒从装有掩模板的掩模盒用旋转架（113）移载于手动装载端口
自动仓库以及物品搬出方法

[发明专利]一种掩模装置、曝光设备及曝光方法-CN201810785237.3有效
发明人：张家锦;杨向超 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-07-17 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模装置、曝光设备及曝光方法，掩模装置包括：掩模版组，包括至少两个子掩模版，每个子掩模版上形成有子掩模图形；掩模固定机构，用于固持所述至少两个子掩模版，且将所述至少两个子掩模版层叠设置，所述层叠设置的至少两个子掩模版的子掩模图形构成所述掩模版组的掩模图形；位置调整机构，用于调整掩模固定机构上至少一个子掩膜版的位置，以调整所述掩模版组的掩模图形。本发明提供的掩模装置，多个子掩模版层叠设置，形成掩模版组，通过调整子掩模版的位置，进而调整掩模组的掩模图形的位置，使掩模组的掩模图形在基板上形成的多个曝光图形的位置姿态与一个曝光场内的多个单元芯片的位置姿态对应匹配
一种装置曝光设备方法

[发明专利]OLED像素形成用掩模、掩模支撑模板及框架一体型掩模-CN202110500020.5在审
发明人：李炳一;金奉辰 -专利权人：悟勞茂材料公司
申请日： 2021-05-08 - 公布日： 2021-11-30 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明涉及OLED像素形成用掩模、掩模支撑模板及框架一体型掩模。根据本发明的掩模为形成有多个掩模图案且用于形成OLED像素的掩模，掩模图案包括上部的第一掩模图案与下部的第二掩模图案，第一掩模图案的厚度大于第二掩模图案的厚度，第一掩模图案的两侧面具有凹状的曲率，第一掩模图案的上部宽度大于第二掩模图案的下部宽度，第一掩模图案的下部宽度小于第二掩模图案的下部宽度。
oled 像素形成用掩模支撑模板框架体型

[发明专利]电子束曝光掩模、曝光方法和设备及半导体器件制造方法-CN00123809.4无效
发明人：宫坂满美 -专利权人：恩益禧电子股份有限公司
申请日： 2000-08-18 - 公布日： 2004-08-04 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种电子束曝光掩模包括主掩模和一个或多个补偿掩模。所述主掩模包括多个第一限定掩模。补偿掩模包括一个或多个无缺陷第二限定掩模，每个第二限定掩模具有按所述第一限定掩模中有缺陷的掩模形成的图形构形。在利用该电子束曝光掩模进行曝光时，只要第一限定掩模没有缺陷，则使用第一限定掩模，在第一限定掩模有缺陷时，使用对应于第一限定掩模的第二限定掩模。
电子束曝光方法设备半导体器件制造

[发明专利]一种拼接式掩模版、曝光装置及曝光方法-CN201810813185.6有效
发明人：杨向超;张家锦 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：本发明公开了一种拼接式掩模版、曝光装置及曝光方法。拼接式掩模版包括掩模框架、子掩模版固定模块和至少两个子掩模版；所述掩模框架包括透光区域和不透光区域；子掩模版固定模块用于将至少两个子掩模版固定在所述掩模框架上；所述子掩模版的掩模图形正对所述掩模框架的透光区域本发明提供的拼接式掩模版，多个子掩模版固定在掩模框架上，通过调整子掩模版和掩模框架的相对位置，使子掩模版的掩模图形在基板上形成的曝光图形与基板上一个曝光场内对应的单元芯片的位置姿态匹配，提高了曝光精度。
一种拼接模版曝光装置方法

[发明专利]一种掩模参数优化方法及装置-CN202111274722.2在审
发明人：何建芳;韦亚一;粟雅娟;董立松;张利斌;陈睿;马乐 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-03-04 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模参数优化方法，方法包括：获取测试图形、光源参数、初始掩模参数，初始掩模参数包括掩模厚度和初始掩模侧壁角；根据初始掩模参数中的初始掩模侧壁角生成多组候选掩模参数；多组候选掩模参数包括的不同的掩模侧壁角和相同的掩模厚度；基于测试图形和光源参数得到每组候选掩模参数的成像对比度；根据成像对比度从多组候选掩模参数中选取最优掩模侧壁角。通过生成多组包括不同掩模侧壁角和相同掩模厚度的掩模参数，并对这些组掩模参数分别进行模拟，以得到每组掩模参数的成像对比度，从而根据成像对比度找到最优掩模侧壁角。从而，通过对多层膜透镜结构的掩模参数进行优化，也可以显著改善成像对比度，并提升成像分辨力。
一种参数优化方法装置

[发明专利]半导体结构形成的方法-CN200710002191.5有效
发明人：刘弘仁;谢维贤;叶章和 -专利权人：南亚科技股份有限公司
申请日： 2007-01-12 - 公布日： 2008-07-16 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种半导体结构形成的方法，包括：提供一基板；形成一第一下掩模层于基板上；形成一第一图案化掩模于第一下掩模层上，以界定一第三图案化掩模的一部分；形成一第二下掩模层于第一下掩模层上方且覆盖第一图案化掩模；形成一第二图案化掩模于第二下掩模层上，且第二图案化掩模与第一图案化掩模无重叠，以界定第三图案化掩模的另一部分；以第一图案化掩模及第二图案化掩模为掩模下切蚀刻第一下掩模层与第二下掩模层，以形成第三图案化掩模；以第三图案化掩模为掩模蚀刻基板，以形成多个岛；以及移除第三图案化掩模。
半导体结构形成方法

[发明专利]掩模组件、掩模框架以及掩模支撑架-CN201810068510.0有效
发明人：蒋谦;陈永胜 -专利权人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-01-24 - 公布日： 2020-06-05 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模组件、掩模框架以及掩模支撑架，所述掩模组件包括掩模框架和掩模支撑架；所述掩模框架包括至少一个第一连接部；所述掩模支撑架包括至少一个第二连接部；所述掩模框架和所述掩模支撑架通过所述第一连接部和所述第二连接部可拆卸连接本发明掩模组件包括可拆卸连接的掩模框架和掩模支撑架，在更换掩模组件时，由于掩模框架尺寸没有改变，掩模框架可以直接再次利用，只需更换掩模支撑架即可。本发明能够实现掩模框架多次循环使用，降低掩模框架的替换率，降低生产成本。
模组框架以及支撑架

[发明专利]掩模片、掩模板及其组装方法-CN201710289649.3在审
发明人：金龙;黄俊杰;唐富强;曹飞;吴文泽 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2017-04-27 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种掩模片、掩模板以及掩模板的组装方法。该掩模片包括至少一个掩模区域以及围绕所述掩模区域的周边区域；所述掩模片位于周边区域的至少一个边缘部包括厚度减薄部。由此，该掩模片提供一种新型的掩模片，使得使用该掩模片的掩模板无需设置覆盖条，从而可降低掩模板整体的焊接的节拍时间，提高掩模板的组装效率。
掩模片掩模板掩模区域周边区域组装厚度减薄组装效率边缘部覆盖条焊接节拍

[发明专利]掩模组件、包括掩模组件的沉积装置及掩模组件制造方法-CN201710857615.X在审
发明人：文在晳;柳英恩;闵秀玹;姜泽教;金旼柱 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2017-09-21 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供了掩模组件、包括掩模组件的沉积装置及掩模组件的制造方法。掩模组件包括掩模框架、掩模和磁性部分，其中掩模由掩模框架支撑，掩模包括多个图案孔；磁性部分设置在掩模的一个表面上。磁性部分提供掩模与目标基板之间的磁力，并且增加掩模与目标基板之间的附着力以防止沉积缺陷。
模组包括沉积装置制造方法

[发明专利]一种掩模制作装置及制作方法-CN201911008393.X有效
发明人：周畅;黄元昊;罗闻 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2019-10-22 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开一种掩模制作装置，包括：张网模块，用于拉伸掩模，并将所述掩模传送至掩模框架上；掩模检测模块，用于检测所述掩模条在所述掩模框架上的位置信息；掩模固定模块，用于将所述掩模固定在所述掩模框架上；第一位移测量模块，用于测量所述张网模块和所述掩模固定模块的位置信息。通过第一位移测量模块精确确定掩模检测模块的位置信息，进而可以更精确的获取掩模的实际位置，从而通过调整张网模块的拉伸和位移，使掩模更精确的移动到预设的位置，从而提高掩模相对掩模框架放置的位置精度；以及通过第一位移测量模块精确确定掩模固定模块的位置信息，提高掩模固定模块对掩模和掩膜框架的固定精度，从而提高了金属掩模版的制作精度。
一种制作装置制作方法