专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201810089427.1有效
  • 江本哲也 - 株式会社斯库林集团
  • 2018-01-30 - 2022-09-13 - H01L21/02
  • 本发明提供能够良好地排除基板上的低表面张力液体的基板处理方法以及基板处理装置。该基板处理方法包括:基板保持工序,将基板保持为水平状态;处理液供给工序,向基板上表供给含有水的处理液;置换工序,向基板上表供给表面张力比水的表面张力低的低表面张力液体,由此利用低表面张力液体置换处理液;液膜形成工序,在置换工序后,继续向基板上表供给低表面张力液体,由此在基板上表形成低表面张力液体的液膜;开口形成工序,在液膜的中央区域形成开口;扩大排除工序,使开口向基板的周缘扩大,由此将液膜从基板上表排除;液膜接触工序,在开口形成工序开始后,使接近构件接近基板的周缘,由此使接近构件与液膜接触。
  • 处理方法以及装置
  • [实用新型]一种高光密度高功率LED装置-CN201420402694.7有效
  • 张伟;肖亮 - 广州市添鑫光电有限公司
  • 2014-07-21 - 2014-11-26 - H01L33/48
  • 本实用新型公开了一种高光密度高功率LED装置,包括散热基板和LED发光芯片,散热基板上表的中心区域设有绝缘导热基板,绝缘导热基板上表设有LED发光芯片,绝缘导热基板上表还设有与LED发光芯片电连接的金属触片,散热基板上表在中心区域的周围设有绝缘基板,绝缘基板与绝缘导热基板之间具有间隙,绝缘基板上表设有金属线路层,金属线路层上表设有油漆层,油漆层上设有与金属线路层电连接的电路引出位,绝缘导热基板上表的金属触片通过电路连接线与电路引出位电连接
  • 一种光密度功率led装置
  • [实用新型]一种新型核心模块-CN202021459356.9有效
  • 孙磊;张踬;谢仕宏 - 深圳市慧达云泰科技有限公司
  • 2020-07-22 - 2021-04-13 - G06F1/16
  • 本实用新型公开了一种新型核心模块,包括核心模块本体,所述核心模块本体包括PCB基板,所述PCB基板上表右侧固定设有MINI‑USB接口,所述PCB基板上表左侧固定设有MINI‑JTAG接口,所述PCB基板上表一边缘处固定设有电源指示灯,所述PCB基板上表的另一个边缘处固定设有状态指示灯,所述PCB板下表面两侧固定设有等距分布的双排插针,所述PCB基板上表中部固定设有主控芯片,所述PCB基板上表固定设有GND测试口、外部电源输入口,所述PCB基板表面右侧固定设有TF卡卡座,所述PCB基板表面中部固定设有TVS、高频晶振、LDO以及熔断器,本实用新型结构合理、功能齐全,二次开发性好。
  • 一种新型核心模块
  • [发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201310553034.9有效
  • 奥谷学 - 大日本网屏制造株式会社
  • 2013-11-08 - 2014-05-21 - H01L21/02
  • 本发明的基板处理方法包括:冲洗工序,向形成有微细图案且基板保持单元保持为水平姿势的基板上表供给冲洗液;有机溶媒供给工序,向基板保持单元保持的基板的包括微细图案的间隙的上表供给有机溶媒,在该上表上形成有机溶媒的液膜,将附着于基板上表的冲洗液置换为有机溶媒,且有机溶媒是表面张力比冲洗液的表面张力小的规定的液体;高温保持工序,在开始有机溶媒供给工序后执行,使被基板保持单元保持的基板上表保持比有机溶媒的沸点高的规定的高温,在基板的包括微细图案的间隙的整个上表形成有机溶媒的气相膜,在该气相膜的上方形成有机溶媒的液膜;有机溶媒排除工序,从基板保持单元保持的基板上表排除有机溶媒的液膜。
  • 处理方法以及装置
  • [发明专利]基板处理方法以及基板处理装置-CN201610905897.1有效
  • 奥谷学 - 斯克林集团公司
  • 2013-11-08 - 2019-07-26 - H01L21/02
  • 本发明的基板处理方法包括:冲洗工序,向形成有微细图案且基板保持单元保持为水平姿势的基板上表供给冲洗液;有机溶媒供给工序,向基板保持单元保持的基板的包括微细图案的间隙的上表供给有机溶媒,在该上表上形成有机溶媒的液膜,将附着于基板上表的冲洗液置换为有机溶媒,且有机溶媒是表面张力比冲洗液的表面张力小的规定的液体;高温保持工序,在开始有机溶媒供给工序后执行,使被基板保持单元保持的基板上表保持比有机溶媒的沸点高的规定的高温,在基板的包括微细图案的间隙的整个上表形成有机溶媒的气相膜,在该气相膜的上方形成有机溶媒的液膜;有机溶媒排除工序,从基板保持单元保持的基板上表排除有机溶媒的液膜。
  • 处理方法以及装置
  • [实用新型]一种传感器电气组件-CN202023082626.1有效
  • 于成奇;陈利宏;王悦峰 - 苏州纳芯微电子股份有限公司
  • 2020-12-18 - 2021-09-21 - B81B7/00
  • 本申请公开了一种传感器电气组件,包括:电路板,传感器芯片,固定部,基板,且基板上表和下表面均设置有焊盘;传感器芯片通过固定部固定于基板上表,传感器芯片通过导线与焊盘电连接,基板通过焊盘与电路板的上表或者下表面固定连接可见,本申请中的传感器电气组件中,基板上表和下表面均设置有焊盘,传感器芯片固定在基板上表并通过导线与焊盘电连接,由于基板上表和下表面均设有焊盘,所以基板既可以通过位于下表面的焊盘与电路板的上表固定连接,又可以通过位于上表的焊盘与电路板的下表面固定连接,既能进行正面贴装又能进行背面贴装,结构设计非常灵活,具有多样性。
  • 一种传感器电气组件
  • [发明专利]基板处理方法-CN201710834416.7在审
  • 日野出大辉;太田乔 - 株式会社斯库林集团
  • 2017-09-15 - 2018-04-03 - H01L21/67
  • 根据本发明的基板处理方法,其包括基板保持工序,通过从基座的上表向上方隔开间隔而水平地保持基板基板夹具来保持基板;第一处理液供应工序,向被所述基板夹具保持的基板上表供应第一处理液;清洗液供应工序,向所述基座的上表供应用于冲洗附着在所述基座上表的第一处理液的清洗液,并且以使所述基座上的所述清洗液不与被所述基板夹具保持的基板的下表面相接触的方式,向所述基座的上表供应所述清洗液;排除工序,从所述基座的上表排除所述清洗液
  • 处理方法
  • [实用新型]具有连接器的影像传感器构造-CN200520129320.3无效
  • 辛宗宪 - 胜开科技股份有限公司
  • 2005-10-31 - 2006-12-13 - H01L27/146
  • 本实用新型涉及一种具有连接器的影像传感器构造,其包括有一基板,其设有一上表及一下表面;一凸缘层设于该基板上表,而与该基板形成有一凹槽;一芯片,其设置于该基板上表,位于该凹槽;多数个导线电连接该芯片至该基板上表上,使芯片的讯号由基板上表传输至基板的下表面;一透光层盖设于该凸缘层上,用以将该芯片的感测区覆盖住;一连接器,其设置于该基板的下表面
  • 具有连接器影像传感器构造

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