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[发明专利]一种干湿法结合去胶工艺-CN202211442093.4在审
发明人：陈银培;宁珈祺;杨巨椽;吴超 -专利权人：杭州美迪凯微电子有限公司
申请日： 2022-11-17 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种干湿法结合去胶工艺，其工艺步骤为：S1、基板准备：选取尺寸4寸‑12寸硅晶元的一种作为基板，基板表面做抛光处理；S2、光刻胶涂覆：通过旋涂的方式将光敏胶均匀涂覆在基板表面，并使用曝光显影的方式使需要镀膜的区域裸露出来；S3、镀膜：通过PVD或者CVD的方式在基板表面沉积膜层，完成镀膜；S4、湿法去胶：采用浸泡去胶液的方式对成膜后的基板进行初步去胶，初步去胶时间1‑2小时；S5、干法刻蚀：将初步去胶后的基板放入干刻机通入高纯度的氧气以及氩气本发明将湿法去胶工艺与干法刻蚀工艺相结合去除光刻胶，使得去胶效率明显提高，降低了生产成本。
一种湿法结合工艺

[实用新型]梳齿机涂胶装置去胶轮-CN201820059225.8有效
发明人：李朝东 -专利权人：佛山市顺德区锐匠机械制造有限公司
申请日： 2018-01-15 - 公布日： 2018-08-21 - 主分类号： B27G11/00 文献下载
摘要：一种梳齿机涂胶装置去胶轮，包括机架，于所述机架上设置胶轮，所述胶轮上设置有涂胶盘，相邻的两个所述涂胶盘之间形成有胶液容置空间。还包括有去胶轮，所述去胶轮包括有安装体，所述安装体设置于所述胶轮的一侧，于所述安装体朝向所述胶轮的一侧面上设置有去胶齿，所述去胶齿可插入至所述胶液容置空间内、并与所述涂胶盘之间形成有刮胶间隙。在安装体上设置有去胶齿，去胶齿能够对胶轮上的涂胶盘进行刮胶操作，从而保证胶轮上胶液厚度的一致性，提高胶轮涂胶的均匀性。由去胶齿刮除的胶液能够进行收集，可以实现二次利用，这样能够极大程度地降低胶液浪费。
胶轮去胶涂胶安装体去胶轮胶液刮胶容置空间涂胶装置梳齿机本实用新型二次利用工作效率机械设备人力资源均匀性可插入上胶液刮除保证

[发明专利]一种光刻胶去胶液-CN201710753705.4在审
发明人：杜冰;顾群艳;梁豹;鲍杰;张兵;朱坤 -专利权人：昆山艾森半导体材料有限公司
申请日： 2017-08-29 - 公布日： 2018-01-12 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明属于晶圆制造技术领域，涉及一种光刻胶去胶液，其配方包括1‑30wt％醇类，0.1‑10wt％有机醇胺，0.1‑5wt％季铵碱，60‑90wt％极性非质子有机溶剂以及补足余量的去离子水。本发明的光刻胶去胶液不仅大大提高了去胶速度及去胶能力，而且降低了对金属、钝化层、氧化硅等各种底材的腐蚀；水溶性比较好，去胶过后容易清洗。
一种光刻胶去胶液

[实用新型]一种用于整流二极管的去胶皮装置-CN201420562875.6有效
发明人：唐红梅;曹远风 -专利权人：扬州虹扬科技发展有限公司
申请日： 2014-09-26 - 公布日： 2015-02-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于整流二极管的去胶皮装置，去胶橡胶圈设置在电机的电机转轴上，且去胶橡胶圈随着电机转轴的转动而转动；承载台设置在去胶橡胶圈的下方，承载台的顶面为与去胶橡胶圈尺寸相匹配的向下凹陷的弧面，弧面和去胶橡胶圈之间设有用于容纳整流二极管的容纳腔，容纳腔包括一个入料端及一个出料端，容纳腔的入料端通过输送装置与振动盘的出料口相连接，回料箱设置在容纳腔出料端的下方。利用机械震荡与电动机的机械动能传输，以及去胶橡胶圈本身质地较为柔软、不会对材料造成压伤的特点，不仅大大提高整流二极管去胶皮的效率及品质，避免人工去胶皮时可能带来的塑封刮伤，而且整个操作过程完全不会危害操作人员的人身安全
一种用于整流二极管胶皮装置

[发明专利]一种去胶工艺的工艺配方生成方法和一种去胶机-CN202110866522.X在审
发明人：董子晗;林源为;孔宇威 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2021-07-29 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明实施例提供了一种去胶工艺的工艺配方生成方法和一种去胶机，所述方法包括：获取用户输入的工艺要求；根据所述工艺要求和所述去胶机的设备限制条件，生成工艺配方。采用上述方法，在去胶机中根据输入的工艺要求和去胶机的设备限制条件自动生成符合工艺要求的工艺配方，不需要工艺人员手动调试获取，可以提升去胶机的自动化程度，大幅度降低工艺配方调试的用工成本、提高产能。
一种工艺配方生成方法去胶机

[发明专利]一种镜片去胶装置-CN201510234733.6有效
发明人：欧阳晓勇;许生炎;曾金芳;张国军 -专利权人：江苏万新光学有限公司
申请日： 2015-05-11 - 公布日： 2017-01-25 - 主分类号： B29C37/02 文献下载
摘要：一种镜片去胶装置，由去胶机构（1）、推料机构（2）、模具（3）、压模机构（4）组成，推料机构（2）设置在模具（3）右侧位置，去胶机构（1）设置模具（3）的左侧位置，其特征在于所述的推料机构（2）将带有胶条的树脂镜片由推料机构送入模具（3）中，脱胶气缸（1‑2）工作带动脱胶钩（1‑4）将胶条（1‑5）从树脂镜片（5）和模具（3）间取出，镜片固定气缸（4‑1）上移，移载气缸（1‑3）后退，胶条（1‑5）落入滑槽进入收集桶，完成去胶作业本发明，结构紧凑、设计合理，不仅提高去胶效率，还提高了去胶稳定性。
一种镜片装置

[发明专利]一种去胶液及其制备方法与应用-CN202211211782.4在审
发明人：杨同勇;朱国玉;王剑;李文瀚 -专利权人：三达奥克化学股份有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明属于半导体加工技术领域，本发明公开了一种去胶液及其制备方法与应用。本发明的去胶液包括以下重量份的组分：溶剂70～90份，络合剂1～5份，脱水剂5～10份，剥离助剂5～10份，清洗助剂1～3份。本发明制备的去胶液在芯片或光刻胶表面可充分铺展渗透，所有组分的协同作用加快了去胶速度且增强了去胶效果，络合剂和脱水剂的使用可避免金属腐蚀问题。
一种去胶液及其制备方法应用

[实用新型]一种镜片去胶装置-CN201520298105.X有效
发明人：欧阳晓勇;许生炎;曾金芳;张国军 -专利权人：江苏万新光学有限公司
申请日： 2015-05-11 - 公布日： 2015-09-23 - 主分类号： B29C37/02 文献下载
摘要：一种镜片去胶装置，由去胶机构（1）、推料机构（2）、模具（3）、压模机构（4）组成，推料机构（2）设置在模具（3）右侧位置，去胶机构（1）设置模具（3）的左侧位置，其特征在于：所述的推料机构（2）将带有胶条的树脂镜片由推料机构送入模具（3）中，脱胶气缸（1-2）工作带动脱胶钩（1-4）将胶条（1-5）从树脂镜片（5）和模具（3）间取出，镜片固定气缸（4-1）上移，移载气缸（1-3）后退，胶条（1-5）落入滑槽进入收集桶，完成去胶作业本实用新型，结构紧凑、设计合理，不仅提高去胶效率，还提高了去胶稳定性。
一种镜片装置

[发明专利]自动化生产线用盒体拆分装置-CN202010248630.6在审
发明人：曹茂兵;刘逸云 -专利权人：长丰吾道智能光电科技有限公司
申请日： 2020-04-01 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： B23P19/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种自动化生产线用盒体拆分装置，包括接料平板，接料平板包含多组辊杆且旁侧设置与弹性推出板，接料平板上设置有去胶管道，去胶管道整体呈方管状且管芯水平布置，弹性推出板沿着去胶管道长度方向移动，去胶管道的内管壁设置有挡料毛，挡料毛向去胶管道的管芯方向延伸，耦合器盒体拆卸装置包括设置在去胶管道管口位置的螺钉拆卸头，螺钉拆卸头水平且与去胶管道的管口靠近或远离，螺钉拆卸头实施对螺钉的拆除操作，上述的弹性推出板推送耦合器盒体前行的过程中
自动化生产线用盒体拆分装置

[发明专利]一种红外热成像晶圆除胶工艺的检测监控方法-CN202011217935.7在审
发明人：尤超;朱方元 -专利权人：北京中星时代科技有限公司
申请日： 2020-11-04 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种红外热成像晶圆除胶工艺的检测监控方法，包括步骤1:提供待去胶的红外热成像晶圆；步骤2:设定红外热成像晶圆去胶机的参数，控制去胶速率；步骤3：扫描电子显微镜检测MEMS结构内部残胶。设定红外热成像晶圆去胶机的参数包括设定用于去除红外热成像晶圆表面PR保护胶的去胶机参数和设定用于去除红外热成像晶圆内部蚀刻的PI保护胶的去胶机参数中的一种，进而达到控制去胶机除胶速率的目的。
一种红外成像工艺检测监控方法

[发明专利]去胶设备及去胶方法-CN202211731552.0在审
发明人：冀然;郭莲 -专利权人：青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请日： 2022-12-30 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本申请涉及纳米压印技术领域，公开一种去胶设备，包括浸泡部、清洗部和移动部，浸泡部包括浸泡槽、储存罐和高压喷嘴，储存罐与高压喷嘴连通，高压喷嘴的出口位于浸泡槽槽底的上方，浸泡槽用于盛放去胶液，储存罐用于储存去胶液，浸泡部用于去除母版或压印片上的粘胶；清洗部包括清洗槽，清洗部用于清洗母版或压印片的残余去胶液；移动部包括移动组件和真空吸盘，移动组件与真空吸盘连接，真空吸盘用于吸附母版或压印片，移动部用于带动母版或压印片移动采用本公开的去胶设备能够有效去除母版和压印片上的粘胶，实现母版和压印片的循环利用，能够有效节约成本，且本申请能够自动化去胶，相比人工操作更加安全高效。本申请还公开一种去胶方法。
设备方法

[发明专利]测试装置及其去胶模块以及太阳能电池的制造方法-CN200910152002.1有效
发明人：薛俊辉;张业成 -专利权人：友达光电股份有限公司
申请日： 2009-07-02 - 公布日： 2009-12-02 - 主分类号： G01R31/36 文献下载
摘要：提供一种测试装置及其去胶模块以及太阳能电池的制造方法。所述测试装置，适用于太阳能电池。此测试装置包括测试模块与去胶模块。测试模块适于提供测试信号，且测试模块具有第一测试线路与第二测试线路。去胶模块包括去胶件与测试头，而测试头与去胶件相邻。去胶件适于去除太阳能电池的封胶层的边缘溢胶。测试头适于接触太阳能电池的封胶层，且第二测试线路是电连接至测试头。此测试装置可提高太阳能电池的生产效率。本发明另提出一种去胶模块与一种太阳能电池的制造方法。
测试装置及其模块以及太阳能电池制造方法

[发明专利]一种应用于干法去胶工艺的匹配验证方法-CN201810800573.0有效
发明人：荆泉;龚华 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-07-20 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明公开一种应用于干法去胶工艺的匹配验证方法。所述应用于干法去胶工艺的匹配验证方法，是通过对干法去胶工艺之晶圆表面温度变化曲线进行模拟，获得不同条件下，所述晶圆在各工艺过程中所累计的热通量差异性，进而将热通量差异性作为干法去胶工艺是否匹配的评判标准本发明通过对干法去胶工艺之晶圆表面温度变化曲线进行模拟，获得不同条件下，所述晶圆在各工艺过程中所累计的热通量差异性，进而将热通量差异性作为干法去胶工艺是否匹配的评判标准，从而对干法去胶工艺的稳定性进行更精确的监控
一种应用于干法去胶工艺匹配验证方法

[发明专利]快速控温载片台、去胶刻蚀设备及去胶工艺-CN202311029596.3有效
发明人：范雄;王兆丰;田文康;张笑语 -专利权人：无锡尚积半导体科技有限公司
申请日： 2023-08-16 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种快速控温载片台、去胶刻蚀设备及去胶工艺，快速控温载片台包括：底座，所述底座中分布有冷却回路，所述冷却回路设有进口和出口；加热层，设置于底座上；电热丝，布设在加热层中；隔层，设置在底座与加热层之间本发明能够在晶圆去胶工艺过程中，通过校准流量的工艺冷却液控制载片台温度略微下降，抵消去胶工艺过程中晶圆表面温度上升导致刻蚀速率不断上升的趋势，控制去胶速率基本达到匀速的效果；在保证完全去胶的前提下，更加精确地控制去胶后的留余时间
快速控温载片台刻蚀设备工艺

[实用新型]一种化学去胶剂的存储装置-CN201820787604.9有效
发明人：夏品军 -专利权人：江苏矽研半导体科技有限公司
申请日： 2018-05-25 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： B65D90/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学去胶剂的存储装置，包括储存罐和废气箱，储存罐竖直固定在固定架的内部，固定架底部的一侧水平安装有水泵，储存罐顶部的颈部外侧套接有密封套，密封套一侧接口通过导管连接泄气筒的进气口，本实用新型，利用水泵向储存罐内壁的降温腔内部输送冷却水，降低储存罐内部去胶剂的温度，减少去胶剂挥发，减低储存罐内部压力，减少去胶剂外泄，提高储存安全性；利用轴流风机产生吸力吸取储存罐顶部挥发出来的去胶剂蒸汽，将去胶剂蒸汽输送入储液腔内部并经过溶解吸收而收集，避免去胶剂蒸汽扩散，提高周围环境的安全性，保护环境。
去胶储存罐本实用新型存储装置固定架密封套挥发水泵进气口吸力储存罐内壁导管连接内部压力竖直固定水平安装蒸汽扩散蒸汽输送轴流风机储液腔废气箱降温腔冷却水泄气颈部套接外泄蒸汽溶解储存吸收