专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种芯片老化测试电路-CN202310988128.2在审
  • 韩晶;梁世金;荆泉 - 北京燧原智能科技有限公司
  • 2023-08-08 - 2023-09-05 - G01R31/28
  • 本发明实施例公开了一种芯片老化测试电路。该芯片老化测试电路包括:老化输入控制模块,用于输出控制数据;选择模块,与老化输入控制模块电连接,用于选择输出的数据;伪随机数生成模块,与选择模块电连接,用于生成伪随机数;移位器,与伪随机数生成模块电连接,用于对伪随机数进行移位处理;老化测试沿检测模块,与老化输入控制模块电连接,并通过芯片中的扫描链与移位器电连接;用于检测扫描链上的数据是否发生翻转,以对芯片进行老化测试。本发明实施例提供的芯片老化测试电路,能够保证测试的可靠性。
  • 一种芯片老化测试电路
  • [发明专利]聚焦环升降机构及改善腔体刻蚀均一性的装置-CN202310339825.5在审
  • 叶璘珂;沈吉;汤介峰;荆泉 - 上海华力微电子有限公司
  • 2023-03-31 - 2023-06-27 - H01J37/32
  • 本发明提供了一种聚焦环升降机构及改善腔体刻蚀均一性的装置,聚焦环升降机构用于对一真空反应腔内的聚焦环进行升降,所述真空反应腔内设置一基座,所述基座上设置有一静电吸盘,所述聚焦环环绕设置于所述静电吸盘的外周,所述聚焦环升降机构包括升降杆以及套设在所述升降杆外的外套筒,所述外套筒贯穿所述基座后抵接所述聚焦环的底部,所述升降杆与外套筒螺纹连接,通过旋转所述升降杆能够使所述升降杆相对所述外套筒沿竖向升降,进而驱使所述聚焦环升降。在聚焦环被刻蚀一段时间发生损耗后,可通过旋转升降杆以使升降杆相对外套筒沿竖向上升,进而驱述聚焦环上升,以保持聚焦环的上表面不低于晶圆的上表面,进而保证晶圆刻蚀的均一性。
  • 聚焦升降机构改善刻蚀均一装置
  • [实用新型]晶圆传送位置检测装置及半导体工艺设备-CN202222877144.8有效
  • 叶璘珂;张进;汤介峰;荆泉 - 上海华力微电子有限公司
  • 2022-10-31 - 2023-06-02 - H01L21/66
  • 本实用新型提供了一种晶圆传送位置检测装置及半导体工艺设备,所述晶圆传送位置检测装置包括至少三个升降顶针,间隔地设置于承载台中;承载片,放置于承载台上,承载片中设置有至少三个第一通孔;至少三个摄像头,分别对应设置于承载片中的各个第一通孔中,摄像头在至少三个升降顶针顶起承载片时拍摄各个升降顶针的位置;感应单元,设置于承载片的远离承载台的一面,感应单元包括至少三个传感器,各个传感器分别与对应的摄像头连接,传感器根据摄像头拍摄的各个升降顶针的位置检测获得各个升降顶针相对于对应的第一通孔的偏移量。本实用新型的技术方案能够快速检测晶圆在真空腔室中的传送位置的偏移量,从而达到节省人力且快速复机的目的。
  • 传送位置检测装置半导体工艺设备
  • [发明专利]去胶设备、顶针监控方法和去胶工艺-CN201911136237.1有效
  • 王骏杰;荆泉;李宇杰 - 上海华力微电子有限公司
  • 2019-11-19 - 2023-05-23 - G03F7/42
  • 本发明提供了一种去胶设备,包括:腔体,位于所述腔体底部的顶针,以及位于所述腔体侧壁的光谱监控仪;所述顶针用于对晶圆进行升降作用,所述光谱监控仪用于监测所述顶针是否到达正确位置;本发明还提供了一种顶针监控方法,用于监测去胶工艺平台的顶针位置是否异常,包括:光谱监控仪接受晶圆表面的光谱信号;判断光谱信号是否异常;本发明还提供了一种去胶工艺,包括:判断所述顶针位置是否异常;如果没有异常,开始去胶。在本发明提供的去胶设备、顶针监控方法和去胶工艺中,通过对晶圆表面光谱信号的监测来判断顶针的位置是否在合适的位置,使得去胶结果速率正常。
  • 设备顶针监控方法工艺
  • [发明专利]一种应用于干法去胶工艺的匹配验证方法-CN201810800573.0有效
  • 荆泉;龚华 - 上海华力微电子有限公司
  • 2018-07-20 - 2023-04-18 - G06F30/20
  • 本发明公开一种应用于干法去胶工艺的匹配验证方法。所述应用于干法去胶工艺的匹配验证方法,是通过对干法去胶工艺之晶圆表面温度变化曲线进行模拟,获得不同条件下,所述晶圆在各工艺过程中所累计的热通量差异性,进而将热通量差异性作为干法去胶工艺是否匹配的评判标准。本发明通过对干法去胶工艺之晶圆表面温度变化曲线进行模拟,获得不同条件下,所述晶圆在各工艺过程中所累计的热通量差异性,进而将热通量差异性作为干法去胶工艺是否匹配的评判标准,从而对干法去胶工艺的稳定性进行更精确的监控,对生产机台间的工艺匹配进行有效的评价。
  • 一种应用于干法去胶工艺匹配验证方法
  • [实用新型]一种晶圆工作台用偏差矫正机构-CN202222596169.0有效
  • 沈吉;陈诚;汤介峰;荆泉;陈力钧 - 上海华力微电子有限公司
  • 2022-09-29 - 2023-02-10 - H01L21/68
  • 本实用新型公开了一种晶圆工作台用偏差矫正机构,具体涉及矫正机构领域,包括固定底座,所述固定底座的顶端固定安装有旋转工作台,所述旋转工作台的内部具有空腔,所述旋转工作台的底端连通有真空泵,所述旋转工作台的顶端固定安装有三角板,所述固定底座的顶端固定安装有承载台,其技术要点为:设置有硅胶滑板与承载台的内壁呈相抵设置,保证旋转工作台与真空泵之间呈密封状态,当晶圆片放置在承载台表面促使弹簧下降,进而实现晶圆片、旋转工作台以及真空泵之间形成负压,吸附晶圆片进行固定,同时在旋转工作台的表面设置有三个承载台,通过旋转工作台旋转的方式进行不间断的工作,实现自动化。
  • 一种工作台偏差矫正机构
  • [发明专利]一种金属离子污染采样检测装置-CN202211213327.8在审
  • 陈力钧;荆泉;杨立华;何文蔚 - 上海华力微电子有限公司
  • 2022-09-29 - 2023-01-10 - G01N1/24
  • 本发明公开了一种金属离子污染采样检测装置,具体涉及检测装置技术领域,包括多组采样管、采样泵、采样瓶以及防倒灌瓶,采样泵、采样瓶以及防倒灌瓶的底端相齐平,采样泵通过采样管与采样瓶呈连通状态设置,采样瓶通过采样管与防倒灌瓶呈连通状态设置,采样管远离采样泵的一端固定安装有连接腔体转接口,其技术要点为:在采样管之间固定连接有逆止阀,在逆止阀的内部滑动安装有滑动引流板,且在逆止阀的内部设置有与滑动引流板相互插合的多组竖直插杆,当气流流经逆止阀内部时促使滑动引流板的位置发生改变,从而改变逆止阀内部的连通或者密封不同转态,从而实现引流以及防止气体反流的目的。
  • 一种金属离子污染采样检测装置
  • [发明专利]一种涡轮分子泵用定子防尘组件-CN202211058220.0在审
  • 张德伟;汤介峰;荆泉;陈力均 - 上海华力微电子有限公司
  • 2022-08-31 - 2022-11-01 - F04D19/04
  • 本发明公开了一种涡轮分子泵用定子防尘组件,具体涉及半导体领域领域,包括泵壳,泵壳的内部具有空腔,泵壳的顶端固定安装有护网,泵壳的底端通过螺纹连接有底盖,底盖的顶端固定安装有定子,定子的表面固定连接有固定基座,固定基座外围转动连接有转子,转子的表面自上而下等间距固定安装有多组动叶片,其技术要点为:通过在转子和固定基座之间设置有刚性套筒组件,刚性套筒组件包含有刚性套筒本体和套筒导向槽,套筒导向槽呈螺纹旋转向下,且套筒导向槽的旋转方向与动叶片的偏转方向一致,当转子进行旋转带动气流旋转而下顺着套筒导向槽的槽口进入,在不影响气流流动的同时防止气流进行反涌,从而达到防尘的效果。
  • 一种涡轮分子定子防尘组件
  • [实用新型]一种校准装置及真空传送装置-CN202123348110.1有效
  • 张彬骁;陆启迪;沈吉;汤介峰;荆泉;陈力钧 - 上海华力微电子有限公司
  • 2021-12-28 - 2022-08-09 - H01L21/68
  • 本实用新型提供一种校准装置及真空传送装置,所述校准装置适用于所述真空传送装置,所述真空传送装置内包括腔体、设置在所述腔体内的门框和所述腔体内用于传送晶圆的手臂,所述校准装置包括校具和至少一个升降装置;其中,所述校具为一上下贯通的空心倒圆台,且所述空心倒圆台的侧壁未闭合形成一开口;所述手臂的一端通过所述开口伸入所述空心倒圆台内;所述升降装置的底部设置在所述腔体底座,所述升降装置的顶端连接所述校具的外部侧壁从而带动所述校具的升降;本实用新型提供的校准装置及真空传送装置,可以在较短时间内处理晶圆在传送过程中因位置偏移量超过偏移量预设值引起的机台宕机,从而影响整机工作时间的问题。
  • 一种校准装置真空传送
  • [实用新型]一种监测特气的装置及半导体设备-CN202122388633.2有效
  • 颜志军;沈吉;荆泉;陈力钧 - 上海华力微电子有限公司
  • 2021-09-29 - 2022-03-04 - G01M3/20
  • 本实用新型提供了一种监测特气的装置及半导体设备,所述监测特气的装置包括指示剂容器、光谱侦测系统、处理器和报警器;指示剂容器内包含指示剂,指示剂用于与特气发生化学反应并发生颜色变化;光谱侦测系统和报警器分别与处理器连接;光谱侦测系统用于获取指示剂的颜色;处理器用于判断是否发生特气泄漏,并控制报警器开启或关闭。指示剂不易受酒精等其它物质干扰,并且可以与微小浓度的特气快速发生化学反应,从而可以在特气发生微量泄漏时即可发出报警信号,提高了安全性。
  • 一种监测装置半导体设备
  • [实用新型]一种更换上电极的工具-CN202122385250.X有效
  • 陆启迪;叶璘珂;汤介峰;荆泉;陈力钧 - 上海华力微电子有限公司
  • 2021-09-29 - 2022-02-22 - H01J37/32
  • 本实用新型提供了一种更换上电极的工具,包括托盘和多个第二螺丝;托盘设置有两个以上第一通孔和两个以上第二通孔,第一通孔包括相互连通的端部和尾部,第二螺丝的头部可贯穿第一通孔的端部,第二螺丝的头部不可贯穿第一通孔的尾部;第二螺丝的螺纹部的长度长于第一螺丝的螺纹部的长度,第二螺丝的螺纹部与冷却盘上的螺纹孔相匹配;多个第二螺丝用于将托盘固定在冷却盘上,托盘用于托住上电极套环;第一螺丝的头部可贯穿第二通孔;两个以上第二通孔对应的两个以上第一螺丝可以将上电极套环固定在冷却盘上。一个人员使用工具即可更换上电极,并且可以防止上电极掉落摔碎,提高了更换上电极的效率。
  • 一种换上电极工具

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