专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果237849个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [实用新型]一种磁性铁片去油去胶装置-CN201420808845.9有效
  • 吴天文 - 赣州嘉通磁电制品有限公司
  • 2014-12-18 - 2015-06-24 - B08B3/12
  • 本实用新型属于机械设备技术领域,具体来说,涉及到一种磁性铁片去油去胶装置。所述去油去胶装置包括机箱和清洗槽;所述机箱内设有连接超声波发生器的定时装置和控温装置;所述机箱外侧面还设有连接并控制定时装置和控温装置的控制面板;所述清洗槽内设有长方形丝网,该长方形丝网的四边均设有挂钩与现有技术相比,本实用新型所述的磁性铁片去油去胶装置通过在箱体内设置定时装置和控温装置,不仅可以方便控制清洗的时间,而且还能通过加热,提高去油去胶效率;此外,通过设置丝网,在放掉液体之后,直接提起丝网,
  • 一种磁性铁片去油去胶装置
  • [实用新型]一种单面摩擦片去毛胶装置-CN201621295748.X有效
  • 董泽建 - 重庆意华科技开发有限责任公司
  • 2016-11-29 - 2017-07-04 - B26D1/25
  • 本实用新型公开了一种单面摩擦片去毛胶装置,包括装置本体、输送装置、旋转装置、气动装置、支撑架、去胶装置、控制装置、固定限位装置;输送装置设于装置本体上端;支撑架设于装置本体中间;旋转装置设于支撑架上端固定板;气动装置设于支撑架上端固定板下平面,并且与旋转装置相连接;去胶装置设于气动装置下端;支撑架内侧下端设有滑槽,并且将固定限位装置与支撑架内侧下端滑槽相配合;控制装置设于装置本体上端前边侧。本实用新型通过输送带上端设置沉头圆孔,实现送料间距、位置一致;通过旋转装置去除毛胶,固定限位装置用于支撑固定输送带上端去胶装置,解决了手工去胶,减少了人工成本,提高效率、该装置结构简单,使用方便。
  • 一种单面摩擦片去毛胶装置
  • [实用新型]一种硅片去胶装置-CN201922425131.5有效
  • 陈正;刘昭;周亮亮 - 江苏国源激光智能装备制造有限公司
  • 2019-12-30 - 2020-10-20 - B08B3/02
  • 本实用新型公开了一种硅片去胶装置,底座本体,底座本体上部具有污水槽和气室,底座本体一侧设置有污水排水管和真空发生器,污水槽和气室的两侧设置有支撑板,气室上部设置有真空吸附模板,真空吸附模板上部具有真空吸附孔,真空吸附模板与支撑板之间设置有固定板,支撑板顶部滑动连接有横梁,横梁上部设置有升降板,升降板中间设置有气缸,气缸穿过横梁和升降板连接有去胶滚筒,支撑板两侧自上而下依次设置有溶解液进口管、清洗水进口管和热风进口管本实用新型的有益效果是:本实用新型设计合理,结构简单稳定,实用性强;能够用于不同大小,不同厚度的硅片进行去胶去胶更彻底、洁净,提高硅片后续加工的便捷与硅片的性能。
  • 一种硅片装置
  • [实用新型]一种用于标签印刷的去胶装置-CN202020112040.6有效
  • 黄永平;李致明 - 昆山成亚印刷有限公司
  • 2020-01-17 - 2020-11-10 - B41F23/00
  • 本实用新型涉及胶水去除领域,具体涉及一种用于标签印刷的去胶装置,包括支撑架、第一运输装置、去胶装置、第二运输装置;所述支撑架的上端面呈水平方向设置;所述第一运输装置、所述去胶装置以及所述第二运输装置设置在所述支撑架的上端面,并且依次沿着运输方向设置;所述去胶装置包括上滚轮、下滚轮以及驱动电机;所述上滚轮配置在所述下滚轮的上方,所述上滚轮和所述下滚轮之间的间距可以正好使原纸基膜通过,所述上滚轮可转动的配置在所述支撑架上,所述下滚轮可转动的配置在所述支撑架上
  • 一种用于标签印刷装置
  • [实用新型]一种镜片去胶装置-CN201921032328.6有效
  • 景小萍 - 丹阳市宏鑫光学眼镜有限公司
  • 2019-07-04 - 2020-05-08 - B65B69/00
  • 本实用新型公开了一种镜片去胶装置,包括箱体和支撑腿,所述箱体两侧均焊接有支撑腿,所述箱体内部安装有真空泵,所述箱体内部底侧镶嵌有管道,所述真空泵与管道相互连通,所述管道底部固定连接有连接管,所述连接管底端安装有真空吸盘本实用新型通过设置真空吸盘和真空泵,有效率的进行镜片的去胶工作,提高镜片去胶的效率,通过设置直线滑轨和气缸,有效的便于调整镜片的位置以及高度,起到辅助镜片去胶的作用,通过设置阻尼减震器和卡珠,有效的减少真空泵工作时产生的震动
  • 一种镜片装置
  • [实用新型]一种去胶机用操作平台清理机构-CN202122749642.X有效
  • 欧阳浩生 - 新芯科技(东莞市)有限公司
  • 2021-11-10 - 2022-04-05 - B08B1/00
  • 本实用新型涉及去胶机技术领域,且公开了一种去胶机用操作平台清理机构,包括操作台,所述操作台的底部四角固定安装有支撑腿,操作台远离支撑腿的一侧固定安装有去胶机,操作台的顶部固定安装与两个加热箱,两个加热箱上的结构均相同该去胶机用操作平台清理机构,在对托盘内部的胶进行清理的时候,拉动拉杆,进而带动连接杆在滑道和托盘的内部滑动进而对复位弹簧进行挤压,使复位弹簧收缩,连接杆移动带动刮刀对托盘的底部内壁进行清理,方便对托盘的底部进行清理
  • 一种去胶机用操作平台清理机构
  • [实用新型]一种玻璃加工用打胶装置-CN202123373405.4有效
  • 魏登兵 - 四川天顺艺玻玻璃有限公司
  • 2021-12-30 - 2022-07-05 - B05C5/02
  • 本实用新型涉及一种玻璃加工用打胶装置,去胶刀通过连接装置安装在顶板上,在所述顶板上设有安装孔,所述安装柱的底部穿过安装孔,所述连接板的一端与安装柱侧面的顶部连接,控制杆的底端穿过连接板后与顶板的顶面转动连接,控制杆与连接板螺纹连接,在安装柱侧面的底部设有连接孔,所述去胶刀安装在连接孔中,在连接孔的孔壁上设有限位槽,所述连接块安装在限位槽中,连接块与去胶刀连接,活动杆的一端插入安装柱后与连接块连接,在安装柱的侧面上设有活动槽,所述配合块安装在活动槽中,所述活动板的顶部与配合块连接,活动板的底部将连接孔的孔口封闭,解决了原有的去胶刀会影响打胶枪的正常工作的问题。
  • 一种玻璃工用装置
  • [实用新型]一种干法去胶设备-CN202221326485.X有效
  • 李国强 - 河源市艾佛光通科技有限公司
  • 2022-05-30 - 2022-11-22 - G03F7/42
  • 本实用新型提供了一种干法去胶设备,包括:反应室,反应室内设有用于放置圆晶及加热去胶的反应台;片盒室,片盒室内设有用于存放和冷却圆晶的承载台;传送室,传送室内设有传送装置,传送装置用于将片盒室内的圆晶传送至反应室内,以及将反应室内去胶的圆晶传送至片盒室内;冷却装置,冷却装置连接传送装置用于冷却传送装置。干法去胶设备的传送过程仅有包括圆晶上料至反应室的上料传送和圆晶下料至片盒室的下料传送,上料和下料传送均两点传送,传送步骤少,传送过程简单,能够有效地减少工艺周期。
  • 一种干法去胶设备
  • [实用新型]等离子去胶-CN202321361005.8有效
  • 刘檑;孙建文 - 赛奥仪器(承德)有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-10-13 - H01J37/32
  • 本实用新型公开了等离子去胶机,涉及等离子去胶设备技术领域,包括机箱、圆片放置单元和气流离子导向单元,机箱前侧底部开口的一侧安装有箱门,所述机箱的顶部穿插设置有供气组件,且机箱内顶部安装有电离组件;圆片放置单元安装在机箱内底部该等离子去胶机,可以通过导向板可以将电离后的气流摆动着流向圆片表面,导向板中的石英板可以再次消除高能活性粒子,形成左右方向活动的气流,利于将圆片表面去胶产生的粉屑吹掉。
  • 等离子去胶机
  • [实用新型]一种胶料循环系统-CN201620659403.1有效
  • 杨文恒;刘玉国 - 玖龙纸业(太仓)有限公司
  • 2016-06-29 - 2016-11-30 - D21H23/22
  • 本申请涉及一种胶料循环系统,它包括用于储存胶料的施胶上料站、与所述的施胶上料站相连通的用于过滤所述的胶料的过滤筛、与所述的过滤筛相连通的用于除去胶料中的气泡的除气装置、与所述的除气装置相连通的施胶腔、与所述的除气装置相连通的尾振筛,经过所述的除气装置的除气后的胶料输送至所述的施胶腔,经过所述的除气装置除气候的带有胶料的气泡输送至所述的尾振筛,所述的施胶腔还与所述的施胶上料站相连通用于将胶料回送至所述的施胶上料站,所述的尾振筛还与所述的施胶上料站相连通用于将胶料回送至所述的施胶上料站
  • 一种胶料循环系统
  • [发明专利]采用一次电子束曝光制备晶体管T型纳米栅的方法-CN200710064853.1有效
  • 刘亮;张海英;刘训春 - 中国科学院微电子研究所
  • 2007-03-28 - 2008-10-01 - H01L21/28
  • 本发明公开了一种采用一次电子束曝光制备晶体管T型纳米栅的方法,该方法包括:A、在清洗干净的外延片上匀一层易于实现去胶和剥离的第一层电子束胶,然后前烘;B、在所述第一层电子束胶上匀第二层电子束胶ZEP520A,然后前烘;C、在所述第二层电子束胶ZEP520A上匀一层易于实现去胶和剥离的第三层电子束胶,然后前烘;D、在所述第三层电子束胶上匀第四层电子束胶ZEP520A,然后前烘;E、进行栅版电子束曝光;F、依次显影第四层电子束胶ZEP520A,易于实现去胶和剥离的第三层电子束胶,第二层电子束胶ZEP520A和易于实现去胶和剥离的第一层电子束胶;G、腐蚀栅槽,蒸发栅金属并剥离,形成晶体管T型纳米栅。利用本发明,可靠性强,工艺简单,剥离和去胶容易。
  • 采用一次电子束曝光制备晶体管纳米方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top