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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]光刻胶外金属层的处理方法、去除光刻胶的方法及所用的设备-CN202210432262.X在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：浙江拓感科技有限公司
申请日： 2022-04-22 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明的目的是针对现有技术剥离光刻胶的工艺去胶时间长效率低，去胶过程中易产生有害挥发物的不足，提供一种光刻胶外金属层的处理方法、去除光刻胶的方法及所用的设备，设备包括由低温介质供应管路和低温介质源组成的低温介质供应装置，低温介质源内的低温介质通过低温介质供应管路供应到晶圆表面，位于晶圆表面的光刻胶及位于光刻胶外的金属层在低温介质的作用下产生冷缩从而金属层与光刻胶间产生裂隙，从而能使光刻胶暴露出来，当用去胶液去胶时去胶液可以直接作用在暴露的光刻胶表面，无需费时渗透去胶液，因此，可以提高后续光刻胶去除的效率。
光刻金属处理方法去除所用设备

[发明专利]一种去除铜基材表面溢胶的去胶液及其制备方法-CN202211132918.2在审
发明人：郑建国;罗小平;张普昆 -专利权人：崇辉半导体（江门）有限公司
申请日： 2022-09-16 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23G1/00 文献下载
摘要：本申请涉及一种去除铜基材表面溢胶的去胶液及其制备方法，涉及工业清洗剂的领域，去胶液包括以下重量百分比的组分：有机溶剂5~50%，有机胺5~60%，保护剂1~20%，润湿剂0.05~10%，界面活性剂1~去胶液的制备方法如下：S1、将润湿剂和保护剂加入有机溶剂中，混合均匀，得到A组分；S2、将界面活性和有机胺剂依次加入水中，混合均匀，得到B组分；S3、将A组分缓慢添加至B组分中，混合均匀后制得去胶液。本申请中提供的去胶液，可以有效去除铜基材表面的溢胶，具有较佳的去胶速率，并且对铜基材无腐蚀，在去除溢胶过程中提供很好的保护作用。
一种去除基材表面去胶液及其制备方法

[实用新型]一种套装门门板加工陈化和去胶机构-CN201721749752.3有效
发明人：钱中明 -专利权人：重庆尚齐家具有限公司
申请日： 2017-12-14 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： B27D5/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种套装门门板加工陈化和去胶机构，包括陈化仓和去胶仓；所述陈化仓中活动安装有置板架；所述陈化仓其外侧安装有保温夹套；所述陈化仓其内顶面上安装有多个雾化管；所述陈化仓其顶部安装有抽气管；所述陈化仓还通过加热管连接有至少一个热风干组件；所述去胶仓其外侧安装有两去胶组件；所述去胶仓其两内侧间隔安装有多个正对设置的隔板；本实用新型的套装门门板加工陈化和去胶机构，可将木板倾斜放置于置板架上，使得木板能够充分与热风接触，加快了陈化速度；通过抽气机将陈化仓中的废气抽走
陈化去胶套装门木板门板本实用新型置板架加工隔板保温夹套顶部安装粉尘杂质活动安装间隔安装木板涂胶倾斜放置正对设置抽气管抽气机加热管热风干雾化管热风夹带拼接粘附废气

[实用新型]保护膜、刀模组件及终端盖板结构-CN201922010918.5有效
发明人：林桂林;王晓雁 -专利权人：深圳小辣椒科技有限责任公司
申请日： 2019-11-19 - 公布日： 2020-08-07 - 主分类号： C09J7/25 文献下载
摘要：本实用新型涉及保护膜技术领域，具体涉及一种保护膜、刀模组件及终端盖板结构；一种保护膜，用于贴合于待保护件上，以保护待保护件的待保护区域，保护膜包括：主膜层，主膜层包括具有粘性的粘贴面，粘贴面上粘贴有去胶部，去胶部与主膜层相背的一表面不具有粘性，去胶部小于粘贴面，且去胶部的大小对应于待保护区域；主膜层的粘贴面用于与待保护件相贴合，去胶部用于对齐待保护区域，从而使得在将保护膜贴合于待保护件上时，对齐待保护区域的去胶部上不具有粘性
保护膜模组终端盖板结构

[实用新型]一种晶圆水平式去胶机的固定机构-CN202223439087.1有效
发明人：倪裕林;徐新志;尹旺;尹康 -专利权人：昆山蕴鼎自动化科技有限公司
申请日： 2022-12-20 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型属于去胶机技术领域，具体的说是一种晶圆水平式去胶机的固定机构，包括底座；所述底座的顶部固定连接有工作台；所述工作台顶部的两侧均固定连接有挡板；两个所述挡板相对的一侧且位于工作台的顶部开设有工作腔所述放置台的底部固定连接有支撑柱；所述支撑柱的底端与工作台的顶部固定连接；所述放置台顶部的两侧均固定连接有安装柱；通过上卡环、下卡环与挤压圆块的结构设计，实现了固定的功能，解决了需要往复将固定后的物品放入去胶机，操作步骤繁琐，费时费力，相应的去胶效率还有待提升的问题，方便调整去胶位置，提高了在去胶时固定的效率。
一种水平式去胶机固定机构

[实用新型]一种去胶剥离机剥离液的回收再利用装置-CN202123057482.9有效
发明人：刘毅;陆瑞珠 -专利权人：江苏晋誉达半导体股份有限公司
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： B01D35/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种去胶剥离机剥离液的回收再利用装置，包括新液储罐和回收液储罐，所述新液储罐的出液口通过新液供应系统与去胶剥离机的高压喷嘴相连通，所述回收液储罐通过回收液供应系统与去胶剥离机的下喷嘴和常压喷嘴连通；所述去胶剥离机上的排液口通过回收液收集系统与回收液储罐连通，所述新液储罐和回收液储罐上均设置有温控装置，所述新液储罐上还设置有新液补充管路。该回收再利用装置可以将去胶剥离机回收的剥离液回收后再利用，从而减少剥离液的消耗。
一种剥离回收再利用装置

[实用新型]一种改善干法去胶工艺均匀性的装置-CN202221362925.7有效
发明人：张志强;袁康 -专利权人：上海稷以科技有限公司
申请日： 2022-06-02 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种改善干法去胶工艺均匀性的装置，包括制程腔体，所述制程腔体中设有加热载盘，所述制程腔体顶部设有主气体注入口和辅助补偿气体注入口。本实用新型与现有技术相比的优点是：本实用新型通过主辅气路系统解决径向等离子体浓度分布不均问题，同时可旋转的加热承载台会使得晶圆动态旋转，与各个方向等离子体均匀接触，完美解决由于等离子体浓度分布不均造成的去胶速率均一性不好的问题，即解决了干法去胶中工艺晶圆中心去胶速率快，边缘去胶速率慢的均一性不好的问题。
一种改善干法去胶工艺均匀装置

[发明专利]一种聚谷氨酸提取新方法-CN200910020221.4有效
发明人：徐国华;庄会华;林永贤;贾龙千 -专利权人：山东阜丰生物科技开发有限公司
申请日： 2009-03-30 - 公布日： 2009-11-18 - 主分类号： C08G69/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种聚谷氨酸提取新方法，即在一定pH、温度的发酵液中按比例添加溶菌酶、蛋白酶，作用一定时间除去发酵液中的菌体，然后加入适量的乙醇制成乳浊液并沉淀出胶渣，离心除去胶渣，再加入适量钠盐沉淀胶体同时分离色素
一种谷氨酸提取新方法

[发明专利]一种去胶液及其制备方法-CN201510929529.6在审
发明人：吴来友 -专利权人：吴来友
申请日： 2015-12-15 - 公布日： 2016-04-06 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种去胶液，它包括按重量份计：10-20份无机碱、5-10份松香水、0.2-0.6份松油醇、1.2-1.6份乙二醇单甲醚、4-8份甘油和6-10份去离子水。本发明的有益效果是制得的去胶剂性质温和，可以适用于大多数胶质和介质，去胶时间短，效果好，由于加入了甘油，可以提高去胶剂的活性及抗氧化能力，延长其存储时间。
一种去胶液及其制备方法

[发明专利]一种实现亚微米级小图形的方法-CN201910571049.5在审
发明人：吴迪;王毅 -专利权人：扬州扬杰电子科技股份有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2019-09-27 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：包括以下步骤：1）光刻涂胶：待做N+注入的硅片涂光刻胶；2）曝光显影；3）干法去胶；4）N+注入：常规N+注入；5）去胶：注入完成后去胶。本发明在工作中，通过光刻、欠曝光加显影或者正常曝光加欠显影，再通过干法去胶去除光刻胶底胶，从而实现亚微米小图形。
小图形亚微米级干法去胶光刻胶光刻去胶显影曝光显影曝光对设备硅片底胶去除涂胶

[发明专利]去胶剂组合物-CN94110786.8无效
发明人：曹宝成;计峰;马洪磊;罗升旭 -专利权人：山东大学
申请日： 1994-09-14 - 公布日： 1996-12-04 - 主分类号： C23G5/032 文献下载
摘要：本发明涉及一种去胶剂组合物，包括重量百分比10-20％的脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠和80-90％的下列有机溶剂之一或其任意比例的组合苯乙酮，松油醇，苯甲醇，月桂醇；还可加入脂肪醇聚氧乙烯醚硅烷和去离子水，以降低去胶剂组合物的沸点；本发明去胶剂可有效的去除固体表面环化橡胶系列负性光刻胶，去胶工艺简单成品率高。
去胶剂组合

[发明专利]一种提高N型压阻传感器结隔离特性的制备方法-CN202211515863.3在审
发明人：陈博;孙涛;何凯旋;王文婧;王鹏;陈璞 -专利权人：华东光电集成器件研究所
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01D5/16 文献下载
摘要：本发明提供一种提高N型压阻传感器结隔离特性的制备方法，其特征在于：它包括以下步骤S1在P型硅晶圆上，进行光刻、大剂量磷注入、去胶，形成重掺杂区；S2光刻、按设计要求进行磷注入、去胶，形成压敏电阻；S3光刻、硼注入、去胶，形成P型隔离环结构6；S4退火、氧化，形成绝缘层；S5光刻、刻蚀、去胶，在绝缘层上形成接触孔；S6溅射、光刻、刻蚀、去胶，形成金属引线。
一种提高型压阻传感器隔离特性制备方法

[发明专利]一种可用于去毛刺的去胶剂、其制备方法和应用-CN201710548066.8有效
发明人：王溯;蔡进;于仙仙;马伟 -专利权人：上海新阳半导体材料股份有限公司
申请日： 2017-07-06 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： C11D1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种可用于去毛刺的去胶剂、其制备方法和应用。本发明的去胶剂的制备方法，其包括下列步骤：其包括下列步骤：将下述去胶剂的原料混合，即可；所述的原料包括下列质量分数的组分：20％‑70％的溶剂、10％‑50％有机胺、0.01％‑50％还原剂、0.01％‑5％无机碱、0.01％‑10％表面活性剂和水，各组分质量分数之和为100％；所述去胶剂的pH值为7.5‑13.5。本发明的制备方法制得的去胶剂寿命长，可在3个月内循环重复使用；可单独去除tape胶或溢料，或者同时去除tape胶和溢料，并减少后续电镀工艺的锡毛刺的产生；对塑封体和基材无损伤。
一种用于毛刺去胶剂制备方法应用

[发明专利]一种镜片附件去除设备-CN201510234769.4有效
发明人：欧阳晓勇;许生炎;曾金芳;张国军 -专利权人：江苏万新光学有限公司
申请日： 2015-05-11 - 公布日： 2017-03-15 - 主分类号： B29C37/00 文献下载
摘要：一种镜片附件去除设备，由输送链（1）、送料机构（2）、去夹机构（3）、去胶机构（4）、胶条收集箱（5）、定位夹收集箱（6）组成，所述的输送链（1）贯穿在去胶机构（4）和去夹机构（3）下方，送料机构（2）安装在输送链（1）上，其特征在于所述的去夹机构（3）设置在去胶机构（4）的前面；去夹机构（3）将定位夹取出并且放入定位夹收集箱（6）内，去除定位夹后输送链（1）继续运动，将眼镜送入到去胶机构（4）内，去胶机构
一种镜片附件去除设备

[实用新型]一种用于插芯去胶装置-CN201420615509.2有效
发明人：陈波;樊建银;唐淋;郑敏;余朝晃;梁俊;侯易;代静波 -专利权人：新中合光电科技（保靖）有限公司
申请日： 2014-10-23 - 公布日： 2015-02-11 - 主分类号： G02B6/38 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于插芯去胶装置，其特征在于，此装置包括外箱（2）、电机（3）、夹持装置（4）、去胶套筒（5）、固定装置（6）和底座（7）；所述用于夹持去胶套筒（5）的夹持装置（4）安装于电机（3）上；所述电机（3）安装在外箱（2）内部；所述与去胶套筒（5）相对应设置的固定装置（6）安装在底座（7）上；所述外箱（2）和底座（7）均设置在操作台（1）上。本实用新型解决的技术问题是提供一种用于插芯去胶装置，此装置结构简单，操作便捷，可以有效地去除插芯上的胶水，提高插芯光纤端面与几何尺寸合格率。
一种用于插芯去胶装置

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