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- [发明专利]半导体的清洗方法-CN202110215837.8在审
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万知武
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东莞新科技术研究开发有限公司
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2021-02-26
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2022-08-30
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B08B1/00
- 本发明涉及工业清洗技术领域，公开了一种半导体的清洗方法，半导体的清洗方法基于半导体的清洗系统，半导体的清洗系统包括驱动装置、供水装置和清洗装置；供水装置包括进水口和喷头，清洗装置包括滚筒组件以及用于放置待清洗的半导体的水槽；滚筒组件包括第一滚筒、第二滚筒和海绵带；半导体的清洗方法包括：控制驱动装置驱动第一滚筒和第二滚筒带动海绵带清洁待清洗的半导体；控制喷头对待清洗的半导体进行喷射，本发明实施例通过海绵带对半导体进行清洗，在清洗时容易贴合半导体，不会划伤半导体，因此清洗效果良好，在海绵带对半导体进行清洗时，通过喷头对半导体进行喷射，降低了海绵带对半导体的清洗过程中的再污染风险，使得清洗效果更佳。
- 半导体清洗方法
- [实用新型]一种半导体原料清洗装置-CN202020265563.4有效
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文新艳;付华秀
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付华秀
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2020-03-06
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2021-01-19
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B08B3/02
- 本实用新型涉及半导体原料清洗技术领域，且公开了一种半导体原料清洗装置，包括清洗桶，所述清洗桶的上端活动插接有固定装置，且清洗桶的内部中间位置固定连接有清洗装置。该种半导体原料清洗装置，通过设置清洗装置等结构，在对半导体原料进行清洗时，通过清洗装置上端设置的转台，通过转台下方的滑槽，移动转台上方连接的清洁柱，使得清洁柱靠近半导体原料，然后通过清洁装置上的转台带动清洁柱旋转，对清洗台上端固定的半导体原料清洗旋转式清洗，经过喷嘴喷出清洗水，充分清洗半导体原料，同时，通过设置的排水孔可将剩余水排入清洗桶下端的集水箱中进行二次利用，达到了反复清洗使清洗更充分的效果。
- 一种半导体原料清洗装置
- [发明专利]一种半导体制备用清洗装置-CN202011197695.9在审
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林淑毜
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广州夕千科技有限公司
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2020-10-30
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2021-03-09
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B08B3/02
- 本发明涉及半导体技术领域，且公开了一种半导体制备用清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱下表面的四角均固定连接有固定底座，所述清洗箱的正面设置有门板，所述门板的正面固定连接有操作把手，所述清洗箱的内底部固定连接有固定板，所述固定板上表面的左右两侧均设置有移动转动装置，所述移动转动装置的内侧设置有夹持装置。该半导体制备用清洗装置，通过驱动电机驱动转动盘带动滑动柱向内移动移动半导体进行夹持固定，对半导体具有更好的固定效果，能够更好的对半导体表面进行全方位均匀的清洗，有效降低对导体的清洗死角，有利于更好的对半导体进行清洗，提高对半导体的清洗效果，有利于使用便利性的提高。
- 一种半导体制备清洗装置
- [发明专利]用于半导体电路的设备-CN202110770340.2在审
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王敏;左安超;谢荣才
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广东汇芯半导体有限公司
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2021-07-07
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2021-09-17
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B08B3/02
- 本发明公开一种用于半导体电路的设备，该用于半导体电路的设备包括水洗装置、溶剂清洗装置和机械手，所述水洗装置包括水洗槽和若干喷头，所述水洗槽内的半导体电路经水洗后通过所述机械手搬运至所述溶剂清洗装置内进行溶剂清洗本发明所提出的用于半导体电路的设备，在对半导体电路进行溶剂清洗前，先通过机械手将其搬运至水洗槽内，由喷头对半导体电路进行喷淋清洗，水洗时半导体电路表面的各种杂质颗粒以及水溶性极性离子会被有效清除，而后再对水洗后的半导体电路进行溶剂清洗，由于半导体电路表面的主要污染物基本被清除，因此可以大幅减少清洗剂的使用量，节省成本并减轻对环境的污染。
- 用于半导体电路设备
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