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[实用新型]一种用于大面积热蒸法沉积薄膜太阳能电池吸收层的真空镀膜机-CN201820088199.1有效
发明人：陶加华;郭一欣;余杰金;张俏;石富文;左少华;江锦春;敬承斌;杨平雄;褚君浩 -专利权人：华东师范大学
申请日： 2018-01-19 - 公布日： 2018-10-30 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于大面积热蒸法沉积薄膜太阳能电池吸收层的真空镀膜机，包括真空腔室、连续送料机构、水平横向输送机构、蒸发沉积机构及水平纵向移动机构；采用连续送料机构实施粉末材料的连续摆动式送料，蒸发沉积机构使得粉末材料充分气化沉积，最终由沉积喷头的小孔喷出，形成莲蓬状的气流均匀沉积在基板上；采用水平横向输送机构及水平纵向移动机构控制真空腔室内基板的水平横向运动及控制蒸发沉积机构相对于基板的水平纵向运动，完成蒸发沉积机构的沉积喷头相对于基板进行全平面的镀膜
蒸发沉积基板沉积太阳能电池吸收层连续送料机构水平纵向移动喷头真空镀膜机沉积薄膜粉末材料输送机构水平横向热蒸水平横向运动水平纵向运动本实用新型工作效率高机构控制均匀性好连续摆动气流均匀真空腔室可控性莲蓬状全平面真空腔镀膜膜厚喷出气化送料小孔室内

[发明专利]用于测量沉积速率的方法及沉积速率控制系统-CN201580080549.9在审
发明人：乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;海克·兰特格雷夫;托马斯·科赫;斯蒂芬·班格特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2015-06-17 - 公布日： 2018-02-16 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述一种用于测量蒸发材料的沉积速率的方法(100)。所述方法包括以第一测量M1与第二测量M2之间的一时间间隔ΔT测量(110)沉积速率；以及根据所测量的沉积速率调整(120)时间间隔ΔT。此外，描述一种沉积速率控制系统(200)。所述沉积速率控制系统包括沉积速率测量组件(210)，用于测量蒸发材料的沉积速率；以及控制器(220)，连接至沉积速率测量组件(210)且连接至蒸发源(300)，其中控制器被配置为提供控制信号至沉积速率测量组件
用于测量沉积速率方法控制系统

[发明专利]用于沉积蒸发材料的蒸发源、真空沉积系统和用于沉积蒸发材料的方法-CN201880005013.4在审
发明人：安德烈亚斯·洛普;D·哈斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-04 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本文所述的实施方式涉及一种用于在基板上沉积蒸发材料的蒸发源。所述蒸发源包括具有多个喷嘴的分配管，其中所述多个喷嘴中的至少一个喷嘴包括第一喷嘴区段和第二喷嘴区段，所述第一喷嘴区段被配置为朝向所述基板释放蒸发材料的羽流，所述第二喷嘴区段被配置为对所述蒸发材料羽流塑形根据另一方面，描述了一种真空沉积系统以及一种在基板上沉积蒸发材料的方法。
喷嘴区段蒸发材料喷嘴基板羽流蒸发源沉积真空沉积系统非圆形分配管侧壁配置塑形释放

[发明专利]用于材料共沉积的气相传输沉积方法及系统-CN201280056744.4有效
发明人：约翰·巴顿;瑞克·C·鲍威尔 -专利权人：第一太阳能有限公司
申请日： 2012-11-07 - 公布日： 2014-09-17 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种改进的用于持续气相传输沉积的方法和给料器系统，所述给料器系统包括通过改进的密封件结合到共同的分配器的至少两个蒸发器，以用于分别蒸发和收集至少任何两种可蒸发材料，以使材料在基底上沉积为材料层。多个蒸发器提供冗余操作并允许在蒸发器维修和修理期间持续沉积。
用于材料沉积相传方法系统

[发明专利]超厚电子束物理气相沉积热障涂层的制备方法-CN202210156157.8有效
发明人：何箐;王世兴;李建超;葛超;李延军 -专利权人：北京金轮坤天特种机械有限公司
申请日： 2022-02-21 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： C23C14/30 文献下载
摘要：本发明涉及热障涂层制备技术领域，具体而言，涉及一种超厚电子束物理气相沉积热障涂层的制备方法。该制备方法包括：对沉积室顶部的沉积物进行清理，并对蒸发电子枪和预热电子枪进行清理，更换蒸发电子枪和预热电子枪的钨灯丝；将检验合格的靶材放入坩埚，对沉积室抽真空；利用蒸发电子枪加热靶材，使沉积室壁吸附的气体释放；将工件装卡送入沉积室，利用预热电子枪预热工件；提高蒸发电子枪的电子束电流，进行涂层沉积；当涂层沉积厚度达到预设厚度时，降低或关闭蒸发电子枪、预热电子枪的电子束电流；当工件冷却后，将工件退入预真空室，拆卸工件本发明提供的超厚电子束物理气相沉积热障涂层的制备方法，提高了沉积过程稳定性以及工件外观合格率。
电子束物理沉积热障涂层制备方法

[发明专利]蒸发聚合物喷射沉积系统-CN201110228993.4无效
发明人：张庆裕;吕奎亮;谢铭峰 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2011-08-10 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种用于形成薄膜的蒸发喷射沉积装置包括处理室、流体线以及在处理室附近与流体线连接的喷射头。流体线被设置成向喷射头传输聚合物流体和溶剂混合物。喷射头被设置成接收聚合物流体和溶剂混合物并且雾化该聚合物流体和溶剂混合物，从而以基本上蒸发的形式喷出该聚合物流体和溶剂混合物以沉积在表面上，并且由此在溶剂蒸发之后在该表面上形成聚合物薄膜。在实施例中，该蒸发喷射沉积装置可以包括加热装置以对聚合物进行硬烘烤工艺。在实施例中，蒸发喷射沉积装置被设置成向该薄膜聚合物提供沉积后溶剂喷射修整工艺。本发明还提供了一种蒸发聚合物喷射沉积系统。
蒸发聚合物喷射沉积系统

[实用新型]一种多源共蒸发薄膜沉积装置-CN202220004349.2有效
发明人：周焱文 -专利权人：武汉普昊科技有限公司
申请日： 2022-01-04 - 公布日： 2022-07-12 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多源共蒸发薄膜沉积装置，包括多源共蒸发薄膜沉积装置本体，所述多源共蒸发薄膜沉积装置本体包括箱体、设置在箱体内部的真空腔和设置在真空腔内部的基板；包括防凝结装置，所述防凝结装置包括遮蔽组件、防护组件和转动组件；具体涉及蒸发薄膜沉积技术领域。该多源共蒸发薄膜沉积装置，通过设置防凝结装置，当多源共蒸发薄膜沉积装置在镀膜完成打开门体前，通过转动轮盘使铰链带动遮蔽套转动，折叠管与遮蔽组件脱离后受重力下落，直至软垫圈与基板相接触，可将镀膜产品覆置于折叠管内部
一种多源共蒸发薄膜沉积装置

[发明专利]用于涂覆眼镜片的气相沉积方法、物理气相沉积系统及用于物理气相沉积的坩埚-CN202280006994.0在审
发明人： A·劳卡特 -专利权人：卡尔蔡司光学国际有限公司
申请日： 2022-02-25 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23C14/28 文献下载
摘要：本发明涉及通过物理气相沉积(PVD)涂覆眼镜片(3)。呈现了一种用于物理气相沉积的方法，该方法包括：提供包含第一蒸发材料(41)和第二蒸发材料(42)的坩埚，其中该第一蒸发材料具有第一蒸气压并且该第二蒸发材料具有不同于该第一蒸气压的第二蒸气压，其中适配所述坩埚中的该第一蒸发材料的暴露表面和该第二蒸发材料的暴露表面的比率来抵消该第一蒸发材料与该第二蒸发材料之间的蒸气压差；以及从该同一坩埚中同时蒸发该第一蒸发材料和该第二蒸发材料。本披露进一步涉及一种用于物理气相沉积的坩埚以及一种特别是用于涂覆光学表面如眼镜片的物理气相沉积系统。
用于眼镜片沉积方法物理系统坩埚

[发明专利]制备钙钛矿膜层的设备和方法、太阳能电池及制备方法-CN202111554742.5在审
发明人：李明洁;吴俊杰;李明;王雪戈;邵君;于振瑞 -专利权人：无锡极电光能科技有限公司
申请日： 2021-12-17 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种制备钙钛矿膜层的设备和方法、太阳能电池及制备方法，设备包括：共蒸发装置，包括共蒸发沉积腔室、连接共蒸发沉积腔室的进端的准备腔室、连接共蒸发沉积腔室的出端的第一出片腔室，准备腔室和第一出片腔室可抽真空且可导通或封闭，共蒸发沉积腔室可抽真空，共蒸发沉积腔室内设有蒸发源；加热退火装置，包括控温腔室、连接控温腔室的出端的第二出片腔室，控温腔室内的温度可调，控温腔室与第一出片腔室相连，第二出片腔室可抽真空且可导通或封闭；本发明能实现连接真空共蒸发沉积钙钛矿膜，工艺流程简单，可提高生产效率，实现连续生产，还可以在绒面基底以及具有一定粗糙度的基底上制备钙钛矿膜层。
制备钙钛矿膜层设备方法太阳能电池

[发明专利]沉积源蒸发设备-CN202010110513.3在审
发明人：安秉九;金京汉;车敏徹;朴在穆;赵源锡;郑基菜;赵渊衡 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-02-24 - 公布日： 2020-09-04 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：公开了一种沉积源蒸发设备。该沉积源蒸发设备包括：坩埚组，用于容纳沉积源；喷射单元，位于坩埚组上；加热器，位于坩埚组中用于加热坩埚组以通过喷射单元蒸发沉积源；以及防热辐射板，围绕喷射单元以阻挡喷射单元的侧面的热辐射。
沉积蒸发设备

[发明专利]用于生产显示装置的方法-CN200910000565.9无效
发明人：植竹猶基 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2009-01-15 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于生产显示装置的方法，该方法用于借助细长蒸发源和具有规则布置的孔的沉积掩模而在衬底上形成与像素相符的沉积图案，该方法包括以下步骤：将沉积掩模和衬底布置成使得无论显示板区以何种方向布置于衬底内，孔和像素的长边都平行于蒸发源的纵长方向；以及相对于蒸发源而移动衬底和沉积掩模，由此在衬底上形成与像素相符的沉积图案。
用于生产显示装置方法

[发明专利]在蒸发期间防止金喷溅且抗蚀剂交联的电子辐射监测系统-CN201180018439.1有效
发明人：郑芥子 -专利权人：天工方案公司
申请日： 2011-01-24 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供用于在电子束金属蒸发/沉积系统中采用的小金属块上原位测量杂质以及增加使用电子束金属蒸发/沉积系统的半导体制造工艺的产率的系统和方法。监测电子束金属蒸发/沉积系统的沉积室中设置的电极上的电压和/或电流水平，并且将该电压和/或电流水平用于测量小金属块的污染。如果电压和电流达到一定水平，则完成沉积，并且检查系统的污染。
蒸发期间防止喷溅抗蚀剂交联电子辐射监测系统

[发明专利]用于沉积蒸发材料的沉积设备及其方法-CN201880088646.6在审
发明人：托马斯·德皮希;克莱尔·阿姆斯特朗;弗兰克·施纳彭伯格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-02-05 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：描述了一种用于将蒸发材料沉积到基板(101)上的沉积设备(100)。沉积设备包括：沉积源(110)，所述沉积源(110)用于提供蒸发材料；材料沉积区(111)，所述材料沉积区(111)提供在所述沉积源(110)和所述基板(101)之间；可动挡板(120)，所述可动挡板(120)提供在所述材料沉积区(111)中；和沉积速率测量装置(130)，所述沉积速率测量装置(130)提供在所述沉积源(110)和所述可动挡板(120)之间的所述材料沉积区(111)中。
用于沉积蒸发材料设备及其方法

[实用新型]蒸镀设备及安装于蒸镀设备内的分流装置-CN201621008188.5有效
发明人：秦晓强;马中生;刘宏俊;郝力强;孙剑 -专利权人：昆山维信诺科技有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蒸镀设备，设有真空溅射室，所述真空溅射室内设有：用于供蒸发材料沉积的待镀区；喷射系统，朝向所述待镀区，用于加热蒸发材料使蒸发材料向待镀区沉积；分流装置，设置于所述喷射系统与所述待镀区两者之间的蒸发材料的沉积路径上，设有若干分流孔以分散蒸发材料，因而，在本实用新型中，分流装置设有若干分流孔以分散蒸发材料，从而可以解决镀膜的膜厚不均的技术问题。
设备安装分流装置

[实用新型]一种派瑞林彩色镀膜装置-CN201920538028.9有效
发明人：张卫兴;张振兴;庄丽叶;张荠文 -专利权人：江苏可润光电科技有限公司
申请日： 2019-04-19 - 公布日： 2019-12-31 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种派瑞林彩色镀膜装置，属于化学气相沉积技术领域，包括：蒸发室、裂解室、真空沉积室、真空系统、冷却控制器以及管道，蒸发室、裂解室、真空沉积室及真空系统依次通过管道连通，冷却控制器与真空沉积室连接，真空沉积室上设有升华杯，升华杯上连接有仓外染料蒸发系统，或者，真空沉积室上安装有仓内染料蒸发系统。本实用新型解决了现有技术加工的镀膜材料不易检测的问题，同时成膜特点显现，彩色品种多样化，将彩色染料粉料升华均匀沉积在加工件上，可以清楚而直观的进行检测，该工艺简单、实用、成本低，实用性强，本工艺对各种加工产品均有明显彩色效果
真空沉积室本实用新型冷却控制器真空系统蒸发系统裂解室派瑞林蒸发室染料升华化学气相沉积彩色镀膜彩色染料彩色效果镀膜材料管道连通技术加工加工产品均匀沉积加工件检测成膜粉料直观