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[发明专利]供应布置、真空处理系统和在真空处理系统中向移动装置进行供应的方法-CN202080106409.5在审
发明人：诺伯特·施帕茨;斯蒂芬·班格特;马蒂亚斯·克雷布斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-10-19 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述了一种用于在真空处理系统中向可移动装置(10)进行供应的供应布置(100)。所述供应布置(100)包括关节臂馈通系统(105)，所述关节臂馈通系统用于向所述可移动装置(10)提供供应线。附加地，所述供应布置(100)包括力补偿单元(140)，所述力补偿单元用于补偿绕设置在所述关节臂馈通系统(105)的第一端(101)处的第一接头(131)的第一旋转轴线(R1)的力矩(M)。所述力矩(M)由所述关节臂馈通系统(105)的重力引起。另外，描述了一种真空处理系统和一种在真空处理系统中向可移动装置进行供应的方法。
供应布置真空处理系统移动装置进行方法

[发明专利]用于在真空腔室中涂覆基板的蒸发源、气相沉积设备及方法-CN202180051966.6在审
发明人：托马斯·德皮施;斯蒂芬·班格特;安拉贝拉·霍夫曼;德烈亚斯·勒普;托马斯·戈伊尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-06-08 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本案描述了一种用于在基板(10)上沉积蒸发的材料的蒸发源(100)。蒸发源(100)包括：用于蒸发材料的蒸发坩埚(30)；具有多个喷嘴(21)的蒸气分配器(20)，用于将蒸发的材料引导朝向基板；蒸气导管(40)在导管长度方向(A)上从蒸发坩埚延伸到蒸气分配器，并提供蒸发坩埚与蒸气分配器之间的流体连接，其中多个喷嘴中的至少一个喷嘴具有延伸于所述导管长度方向(A)上，或基本上平行于所述导管长度方向(A)的喷嘴轴线；以及在蒸气导管中的挡板布置(50)。进一步描述了包括这种蒸发源(100)的气相沉积设备(200)，以及在真空腔室中涂覆基板的方法。
用于空腔室中涂覆基板蒸发沉积设备方法

[发明专利]蒸发设备、气相沉积设备和蒸发方法-CN202180054212.6在审
发明人：沃尔夫冈·布什贝克;斯蒂芬·班格特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-09-01 - 公布日： 2023-04-28 - 主分类号： C23C14/22 文献下载
摘要：描述一种蒸发设备(100)，尤其用于蒸发诸如锂之类的反应性材料。此蒸发设备(100)包括用于蒸发液体材料(105)的蒸发坩锅(110)、用于将此液体材料(105)供应至此蒸发坩锅(110)的材料导管(120)，和经配置为通过用冷却装置(152)使此材料导管(120)中的此液体材料(105)的部分固化来关闭此材料导管(120)的阀(150)。此阀(150)可包括用于冷却气体(106)的冷却气体供应器(154)，和可经配置为用此冷却气体(106)冷却此液体材料(105)的此冷却装置(152)。进一步描述一种用于涂覆基板的气相沉积设备(200)以及蒸发方法。
蒸发设备沉积方法

[发明专利]喷嘴组件、蒸发源和用于将蒸发的材料沉积至基板上的沉积系统和方法-CN202080102314.6在审
发明人：安德烈亚斯·勒普;斯蒂芬·班格特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2020-06-29 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述了一种用于将蒸发的材料导引至基板的喷嘴组件。喷嘴组件包括多个喷嘴，多个喷嘴中的一个或多个喷嘴包括：具有第一端和第二端的第一喷嘴区段，第一喷嘴区段包括位于第二端的蒸气出口，和位于蒸气出口或靠近蒸气出口的孔口，孔口具有孔口直径。
喷嘴组件蒸发用于材料沉积至基板上系统方法

[发明专利]用于蒸发源的温度控制遮蔽件、用于在基板上沉积材料的材料沉积设备及方法-CN202180039228.X在审
发明人：安德烈亚斯·勒普;斯蒂芬·班格特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：描述了一种用于蒸发源的温度控制遮蔽件。温度控制遮蔽件被配置成提供预加热区或后冷却区。
用于蒸发温度控制遮蔽基板上沉积材料设备方法

[发明专利]蒸气沉积设备和用于涂布真空腔室内的基板的方法-CN202180040188.0在审
发明人： 斯蒂芬·班格特;沃尔夫冈·布什贝克 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开内容描述了一种用于液体材料的闪蒸的坩埚。坩埚包括一个或多个侧壁和在一个或多个侧壁下方的储存器部分，该储存器部分具有第一尺寸的第一横截面，和在第一横截面上方的具有第二尺寸的第二横截面，第二尺寸大于第一尺寸。
蒸气沉积设备用于涂布真空腔室内方法

[发明专利]气相沉积设备和在真空腔室中涂覆基板的方法-CN202180039788.5在审
发明人： 斯蒂芬·班格特;安德烈亚斯·勒普 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本公开内容描述了一种气相沉积设备。气相沉积设备包括用于支撑待涂覆的基板的基板支撑件；具有多个喷嘴的蒸气源，用于通过蒸气传播空间将蒸气引导朝向基板支撑件；和从蒸气源向基板支撑件延伸的可加热屏蔽物。可加热屏蔽物至少部分地围绕蒸气传播空间，并且包括用于掩蔽基板的不被涂覆的区域的边缘排除部分。基板支撑件可以是具有弯曲滚筒表面的可旋转滚筒，并且气相沉积设备可以被构造为使弯曲滚筒表面上的基板在圆周方向移动经过蒸气源。
沉积设备空腔室中涂覆基板方法

[发明专利]在真空系统中处理掩模的方法、和真空系统-CN201880093518.0有效
发明人：塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;斯蒂芬·班格特;栗田真一;于尔根·亨里奇;安德里亚斯·索尔 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-05-29 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：描述一种在真空系统中处理掩模的方法。所述方法包括(a)在真空系统中沿着传送路径以非水平定向(V)传送运载第一掩模(11)的掩模载体(10)；(b)将运载第一掩模(11)的掩模载体(10)的定向从非水平定向(V)改变为基本上水平的定向(H)；和(c)从在真空系统中以基本上水平定向(H)布置的掩模载体(10)卸载第一掩模(11)。根据另外的方面，描述一种真空系统，包括掩模处理模块，所述掩模处理模块用于处理掩模。(图1C)。
真空系统处理方法

[发明专利]用于沉积已蒸发材料的蒸发源与用于沉积已蒸发材料的方法-CN202210614575.7在审
发明人：乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;斯蒂芬·班格特;哈拉尔德·沃斯特;德烈亚斯·勒普;戴特尔·哈斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-05-10 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本文所述的数个实施方式涉及一种用以将已蒸发源材料沉积于基板上的蒸发源(20)。蒸发源(20)包括：一或多个分配管(106)，具有多个喷嘴(22)，其中所述多个喷嘴(22)的每个喷嘴被构造成用于朝向基板(10)导引已蒸发源材料的羽流；和遮蔽装置(30)，包括多个孔(32)，其中所述多个孔(32)的至少一个孔被构造成塑形从单一相关的喷嘴射出的已蒸发源材料的羽流(318)。根据其他方面，描述了一种用于蒸发源的遮蔽装置及数个将已蒸发源材料沉积于基板上的方法。
用于沉积蒸发材料方法

[发明专利]用于沉积源的非接触输送的装置和方法-CN201910765172.0有效
发明人： 斯蒂芬·班格特;奥利弗·海默尔;迪特尔·哈斯;托马索·维尔切斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-05-18 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：提供一种用于非接触式运输沉积源的设备。设备包括沉积源组件。沉积源组件包括沉积源。沉积源组件包括第一主动磁性单元。设备包括在源运输方向上延伸的引导结构。沉积源组件沿引导结构是可移动的。第一主动磁性单元与引导结构经构造以用于提供第一磁浮力以悬浮沉积源组件。
用于沉积接触输送装置方法

[发明专利]用于处理基板的方法、用于真空处理的设备和真空处理系统-CN201880003483.7有效
发明人：塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;马蒂亚斯·赫曼尼斯;托马索·维尔切斯;斯蒂芬·班格特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-03-14 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开内容提供了一种处理基板的方法。所述方法包括：将具有多个沉积开口(21)的掩模运输到处理腔室中；将具有背面图案(11)的基板运输到所述处理腔室中；使所述基板(10)相对于所述掩模(20)对准(780)；和用光学检查装置(440)来至少局部地检查(790)所述多个沉积开口(21)与所述背面图案(11)之间的偏移。
用于处理方法真空设备系统

[发明专利]用于在真空腔室中的载体对准的设备和真空系统以及对准载体的方法-CN201880004216.1有效
发明人：马蒂亚斯·赫曼尼斯;托马索·维尔切斯;斯蒂芬·班格特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-04-03 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：描述了一种用于在真空腔室(101)中对准载体的设备(100)。所述设备包括：第一载体运输系统(120)，所述第一载体运输系统(120)被配置为在第一方向(X)上沿着第一运输路径运输第一载体(10)；和对准系统(130)。所述对准系统包括：第一支座(152)，所述第一支座用于将所述第一载体(10)安装到所述对准系统(130)；对准装置(151)，所述对准装置被配置为在至少一个对准方向上移动所述第一支座(152)；和第一移位装置(141)，所述第一移位装置被配置为使所述对准装置(151)与所述第一支座(152)一起在横向于所述第一方向(X)的第二方向(Z)上移动。此外，描述了一种真空系统和一种用于对准载体的方法。
用于空腔中的载体对准设备真空系统以及方法

[发明专利]无接触对齐载具组件的方法、处理载具组件的基板的方法、和无接触对齐载具组件的设备-CN201680027738.4有效
发明人：托马索·维尔切斯;奥利弗·黑梅尔;戴特尔·哈斯;斯蒂芬·班格特 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2016-05-18 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供用于沉积源的无接触传输的设备。该设备包含沉积源组件。沉积源组件包含沉积源。沉积源组件包含第一主动磁性单元。该设备包含在源传输方向上延伸的引导结构。沉积源组件沿着引导结构为可移动的。第一主动磁性单元及引导结构被配置为提供第一磁性悬浮力以悬浮沉积源组件。
接触对齐组件方法处理设备

[发明专利]掩模布置、在基板上沉积层的设备和对准掩模布置的方法-CN201480084006.X有效
发明人： 斯蒂芬·班格特;托马索·维尔切斯;丹尼尔·吉斯隆;奥利弗·海默尔;安德烈亚斯·勒普;迪特尔·哈斯 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2014-12-10 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供一种用于在处理腔室中掩蔽基板(10)的掩模布置(100)。掩模布置(100)包括：掩模框架(110)，所述掩模框架具有一个或多个框架元件(112、114、116、118)并且被配置为支撑掩模器件(120)，其中掩模器件(120)可连接到掩模框架(110)；以及至少一个致动器(130)，所述至少一个致动器可连接到一个或多个框架元件(112、114、116、118)中的至少一个框架元件(112)，其中至少一个致动器(130)被配置为向所述至少一个框架元件(112)施加力。
布置基板上沉积设备对准方法

[发明专利]用于在真空腔室中的载体对准的设备和在真空腔室中对准载体的真空系统及方法-CN201880010796.5有效
发明人：马蒂亚斯·赫曼尼斯;托马索·维尔切斯;斯蒂芬·班格特;U·奥尔登多夫;阿希姆·赫维格 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-04-03 - 公布日： 2021-08-27 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：描述了一种用于在真空腔室(101)中的载体对准的设备(100)。此设备包括支撑件(110)，在真空腔室(101)中于第一方向(X)中延伸；磁性悬浮系统(120)，装配以在真空腔室(101)内于第一方向(X)中传送第一载体(10)，磁性悬浮系统包括至少一个磁铁单元(121)，以及对准系统(130)，对准系统(130)用以对准第一载体(10)。此至少一个磁铁单元(121)及对准系统刚性地固定于支撑件(110)。再者，描述了一种对准载体的真空系统及方法。
用于空腔中的载体对准设备真空系统方法

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