专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种能够控制parylene沉积方向的蒸发管路-CN202321138181.5有效
  • 傅其裕 - 百腾科技(苏州)有限公司
  • 2023-05-12 - 2023-10-20 - C23C14/12
  • 本实用新型公开了一种能够控制parylene沉积方向的蒸发管路,包括蒸发管路,所述蒸发管路前端法兰与裂解管路对接,所述蒸发管路前端法兰能够通过合页与后盖铰接,所述蒸发管路通入parylene单体,parylene单体事先通过高温枪使其带有正负电荷,所述蒸发管路内安装有一组平行于管路方向的电极组件,所述电极组件包括安装于蒸发管路上的VCR接头、及安装于VCR接头上且位于和蒸发管路内的电极板,上下两电极板分别通过VCR通过上述方式,本实用新型结构简单,能够控制parylene沉积方向,带有相同电荷的单体就会沉积在腔体特定位置处,通过控制样品转速来控制其特定位置的薄厚了。
  • 一种能够控制parylene沉积方向蒸发管路
  • [发明专利]沉积装置-CN201310247589.0在审
  • 李相允 - 三星显示有限公司
  • 2013-06-20 - 2014-01-22 - C23C14/24
  • 一种沉积装置,包括沉积源单元、多个喷嘴、多个角度限制部件以及多个第一加热器单元。其中,沉积源单元使沉积材料蒸发,多个喷嘴布置在沉积源单元的上表面上并用于将被蒸发沉积材料喷射到面向沉积源单元的上表面的基板上,多个角度限制部件布置在沉积源单元的上表面上并位于喷嘴的左侧和右侧,第一加热器单元中的每一个均布置在角度限制部件中的相应角度限制部件的上表面上
  • 沉积装置
  • [实用新型]一种酒精回收罐-CN201720492174.3有效
  • 嵇根龙 - 江西省科达动物药业有限公司
  • 2017-05-05 - 2018-01-05 - B01D3/00
  • 本实用新型公开了一种酒精回收罐,包括蒸发罐,所述蒸发罐通过管道连接冷凝罐,所述冷凝罐通过管道连接有沉积罐,所述沉积罐下侧设置有回收罐,所述蒸发罐下侧通过管道连接有废料罐,所述蒸发罐左侧连接有加热器,所述蒸发罐左侧上部开设有入料口,所述蒸发罐下侧与废料出料口连接,所述冷凝罐上部与注水口连接,所述冷凝罐下部连接有排水口,所述沉积罐下侧连接有回收管,所述回收管下侧的短支管外部设置有回收阀门,所述沉积罐外部安装有控制面板,该种酒精回收罐
  • 一种酒精回收
  • [发明专利]一种双向液态源蒸发CVD系统-CN202010953796.8有效
  • 孔令杰;李晓丽 - 安徽贝意克设备技术有限公司
  • 2020-09-11 - 2023-01-17 - C23C16/448
  • 本发明公开了一种双向液态源蒸发CVD系统,包括蒸发装置主体,所述蒸发装置主体的上方安装有加热炉和石英外管;双向液态源蒸发CVD系统是通过双向双回路的方式,将液态源蒸发后的汽态源分别从第一进出座和第二进出座分次输入,通过第一进出座和第二进出座的输入保证沉积内管中汽态源充分留存,能够充分反应;将保护气体通过预热装置预热到液态源蒸发温度,保护石英外管内部的汽态源不会遇冷后凝固,通过触摸屏控制加热炉在滑轨上左右横向移动,可快速定位沉积内管中材料沉积区并进行快速加温,使得沉积区的材料受热变成汽态;此法相对一般工艺而言液态源蒸发成汽态更纯,裂解后杂质少,所制得的薄膜或材料质量更高。
  • 一种双向液态蒸发cvd系统
  • [发明专利]导流型热蒸发沉积装置-CN200910216474.9无效
  • 张占文;黄勇;漆小波;李波;刘一扬;陈素芬;魏胜 - 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
  • 2009-11-27 - 2010-06-30 - C23C14/24
  • 本发明公开了一种导流型热蒸发沉积装置,本发明的装置含有加热炉、导流管、导流管加热罩。加热炉由加热丝架、内保温筒和外保温筒组成,蒸发舟置于加热丝架内。导流管与蒸发舟的蒸发口密封连接,导流管置于导流管加热罩内。当蒸发舟内的材料受热蒸发的时候,由于内外压差的作用,蒸气会沿导流管向外流动,由于导流管的导向作用,可实现蒸气由上至下喷出。本发明的装置也可以通过两个或两个以上的组合配置实现两种或两种以上材料的化学气相沉积。解决了需要在下方固定样品的热蒸发气相沉积问题。本发明的装置中蒸汽流更集中,可以获得更高的沉积速率。
  • 导流蒸发沉积装置
  • [发明专利]一种大面积共蒸发源的阵列设计-CN201210415107.3无效
  • 冯良桓;曾广根;黎兵 - 四川大学
  • 2012-10-26 - 2013-01-16 - C23C14/24
  • 本发明“一种大面积共蒸发源的阵列设计”属于采用热蒸发制备大面积固体薄膜及半导体薄膜时所用源的发明。采用热蒸发制备多组份薄膜时,为避免成份的偏离,实验室常采用共蒸发的方法加以避免,通过增加单个源的数量进行环状或呈一定角度排布,可以较大程度的保证沉积薄膜的厚度均匀性。这种排布方式在大生产中将面临无法进行在线换源,无法保证源排布的平整和均匀,尤其在源与衬底间距较小的情况下,增加源在运动中进行蒸发沉积的难度。鉴于以上情况,本申请发明提出了一种新的大面积共蒸发源的阵列设计,该阵列可以作为一个整体进行运动,在既可保证沉积薄膜厚度均匀性的同时,可实现静态或动态蒸发沉积薄膜,更能实现源的在线更换。
  • 一种大面积蒸发阵列设计
  • [发明专利]沉积源以及具有其的沉积设备-CN201310718402.0有效
  • 赵炫来;奇锡 - 三星显示有限公司
  • 2013-12-23 - 2018-05-22 - C23C14/24
  • 提供了一种沉积源。所述沉积源包括:坩埚,容纳沉积材料并使沉积材料蒸发;网格构件,设置在坩埚中并与沉积材料分隔开预定的距离,网格构件包括通过网格构件形成的多个开口;格子构件,在坩埚中设置在网格构件上以将网格构件划分成多个格子区域;多个热球,设置在网格构件上并填充格子区域;以及盖,设置在坩埚上以覆盖坩埚,盖包括喷射孔以喷射蒸发沉积材料。还提供了一种沉积设备,所述沉积设备包括:真空室,真空室包围沉积源;基底;以及基底支撑件。
  • 沉积以及具有设备

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