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[发明专利]静态蒸发源、真空处理腔室以及在基板上沉积材料的方法-CN201880093571.0在审
发明人：安德烈亚斯·勒普 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2018-06-08 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述了一种用于在真空中将材料沉积在设置在沉积区域(A)中的基板(101)上的静态蒸发源(100)。所述静态蒸发源(100)包括：蒸发坩埚(110)，所述蒸发坩埚(110)被配置为蒸发至少一种材料；多个出口(120)，所述多个出口(120)被配置为在真空中朝向设置在沉积区域(A)中的基板(101)发出至少一种所蒸发的材料，所述多个出口(120)具有相应多个主蒸发方向(D)，所述多个主蒸发方向(D)中的至少两个主蒸发方向(D1、D2、D3)彼此不同；和分配系统(130)，所述分配系统(130)被配置为在所述蒸发坩埚(110
静态蒸发真空处理以及基板上沉积材料方法

[发明专利]天然蒸发池内沉积物的处理方法-CN202211538787.8在审
发明人：高龙;杜晓慧;张宇轩;张银;刘畅;韩红臣;吕海雷;孙阳;初丽丽;杨宇 -专利权人：中国原子能科学研究院
申请日： 2022-12-02 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： G21F9/22 文献下载
摘要：本申请的实施例提供了一种天然蒸发池内沉积物的处理方法。该处理方法包括：检测天然蒸发池内沉积物的放射性，得到沉积物的放射性分布图；根据放射性分布图，在天然蒸发池内划定待处理区域；在待处理区域内搭建隔离作业区，将隔离作业区内的沉积物与隔离作业区内的废液进行混合，得到悬浊液；将悬浊液进行压滤处理，得到滤渣和滤液；将滤液输送回天然蒸发池，并将滤渣输送至废料储存容器中。
天然蒸发沉积物处理方法

[发明专利]光学薄膜的制备方法、卷绕镀膜机和微纳米结构色晶体-CN201980090229.X有效
发明人：郭凌杰;马道远 -专利权人：宁波融光纳米科技有限公司
申请日： 2019-01-25 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： C09D5/29 文献下载
摘要：制备方法基于卷绕镀膜机，制备方法包括：提供一基带；将基带绕于卷绕镀膜机的放卷辊以及收卷辊上；对卷绕镀膜机的镀膜真空室进行抽真空至镀膜真空室的真空度达到预设阈值；放卷辊与收卷辊带动基带通过卷绕镀膜机的多个溅射、蒸发或原子层沉积室做卷绕运动；其中，多个溅射、蒸发或原子层沉积室包括：第一溅射、蒸发或原子层沉积室以及多个第二溅射、蒸发或原子层沉积室；在基带通过第一溅射、蒸发或原子层沉积室时，脱膜剂蒸镀于基带上形成第一牺牲层；在基带通过多个第二溅射、蒸发或原子层沉积室时，光学介质材料沉积于牺牲层上形成第一光学薄膜；去除牺牲层以得到光学薄膜。
光学薄膜制备方法卷绕镀膜纳米结构晶体

[发明专利]沉积设备-CN200810094819.3无效
发明人：西塔明;植竹猶基 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2008-04-28 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种沉积设备，该沉积设备包括多个线型蒸发源和运动与支撑装置，该多个线型蒸发源提供为在预定的方向上排列，而该运动与支撑装置支撑该多个线型蒸发源以便在蒸发源的排列方向和/或纵向方向上可单独运动。
沉积设备

[发明专利]一种铜锑硒太阳能电池光吸收层薄膜的低温沉积工艺-CN201510707635.X在审
发明人：万磊;马程;胡可;徐进章 -专利权人：合肥工业大学
申请日： 2015-10-27 - 公布日： 2016-01-13 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜锑硒太阳能电池光吸收层薄膜的低温沉积工艺，其中光吸收层铜锑硒采用多源共蒸发沉积工艺制备，用束源炉蒸发各组成元素，能精确控制各源的蒸发速率至“埃每秒”量级，尤其能降低沉积速率、微调铜和锑的比例，由于铜锑硒熔点较低，且降低沉积速率可促进薄膜有序外延生长、提高结晶性，经优化薄膜沉积工艺。本发明制备方法相对于传统的热蒸发法降低了沉积温度，节约了生产成本，并为制备柔性衬底太阳能电池打下基础。
一种铜锑硒太阳能电池光吸收薄膜低温沉积工艺

[发明专利]径向等离子体射流脉冲真空电弧蒸发源及薄膜沉积装置-CN201910408887.0有效
发明人：陈学康 -专利权人：兰州空间技术物理研究所
申请日： 2019-05-16 - 公布日： 2021-09-21 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种径向等离子体射流脉冲真空电弧蒸发源及薄膜沉积装置；脉冲电弧蒸发源通过采用可进行脉冲电弧放电的圆柱形对置电极，将镀膜材料蒸发产生等离子体，在电极端面的限制下，等离子体在高压強驱动下产生均匀分布的径向射流，提高了薄膜沉积均匀性；蒸发源的上下往复运动，可提高膜料利用率和沉积速率；薄膜沉积装置，提供了配套的运动工件台机构，可以实现大面积均匀、高膜料利用率的薄膜沉积；提高批量工件一致性；整个沉积室机构紧凑，在相同产能的前提下，较传统设备具有更低的成本；更低的沉积温度；无需考虑影响均匀性的复杂因素和应对措施，操作更简单，降低对操作人员的要求。
径向等离子体射流脉冲真空电弧蒸发薄膜沉积装置

[实用新型]偶联剂蒸发装置及气相沉积系统-CN202020935295.2有效
发明人：张建飞;宋文庆;王凯;吴兴华 -专利权人：立讯电子科技（昆山）有限公司
申请日： 2020-05-28 - 公布日： 2021-03-30 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本实用新型实施例公开一种偶联剂蒸发装置及气相沉积系统，涉及气相沉积技术领域，用于对工件进行气相沉积操作。其中，偶联剂蒸发装置包括：多个偶联剂容纳部；支撑部，具有至少一个定位件，多个所述偶联剂容纳部等间距设置于所述支撑部的一侧，所述支撑部通过所述定位件固定在沉积室内壁上。本实用新型公开实施例通过在沉积室内壁上等间距设置多个用于蒸发偶联剂的偶联剂容纳部，可有效改善化学气相沉积过程中工件表面沉积的偶联剂的均匀度，进而提高气相沉积后的工件的质量。
偶联剂蒸发装置沉积系统

[发明专利]电弧离子镀设备-CN200610131894.3有效
发明人：玉垣浩;藤井博文;冲本忠雄;宫本僚次 -专利权人：株式会社神户制钢所
申请日： 2006-10-17 - 公布日： 2007-04-25 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：一种电弧离子镀设备包括：真空室、用于使基质在真空室内垂直于其高度方向进行移动的旋转台、用于通过金属离子清洁基质表面的用于进行轰击的电弧蒸发源和用于在所述基质表面上沉积金属离子的沉积组电弧蒸发源。所述沉积组电弧蒸发源包括相对于被设定在所述旋转台上的所述基质进行布置的多个蒸发源，且所述用于进行轰击的电弧蒸发源相对于所述基质进行布置，并且成形以使得其在真空室高度方向上的长度等于沉积组电弧蒸发源的上端和下端之间的长度
电弧离子镀设备

[发明专利]利用简化的共蒸发法来制造用于太阳能电池的CIGS 薄膜的方法及利用该方法制造的用于太阳能电池的CIGS 薄膜-CN201380004292.X有效
发明人：郭智惠;尹载浩;安世镇;尹庆勋;申基植;丁国荣;安承奎;赵阿拉;朴海森;崔森武 -专利权人：韩国ENERGY技术硏究院
申请日： 2013-02-05 - 公布日： 2016-11-16 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：公开了一种利用简化的共蒸发法来制造用于太阳能电池的CIGS薄膜的方法及利用该方法制造的用于太阳能电池的CIGS薄膜。根据本发明的制造用于太阳能电池的CIGS薄膜的方法包括如下步骤：(a步骤)通过共蒸发在500至600℃的衬底上沉积Cu、Ga和Se；(b步骤)在维持与a步骤相同的衬底温度的同时，通过共蒸发来沉积Cu、Ga、Se和In；和(c步骤)在降低衬底温度的同时，依次通过共蒸发沉积Ga和Se，然后通过真空蒸发单独沉积Se。因此，与三步共蒸发法相比简化了工艺步骤，充分实现通过薄膜内晶体生长和Ga的组成分布获得的带隙分级的益处，从而使得能够提高加工效率。
利用简化蒸发制造用于太阳能电池 cigs 薄膜方法

[发明专利]一种高精度高稳定性的薄膜沉积系统及沉积方法-CN202010990696.2在审
发明人：刘书琴 -专利权人：刘书琴
申请日： 2020-09-19 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： C23C28/04 文献下载
摘要：本发明涉及光学器件领域，尤其涉及一种高精度高稳定性的薄膜沉积系统及沉积方法。本发明的薄膜沉积系统包括电子束蒸发单元、原子层沉积单元和膜厚监控单元，通过在电子束蒸发制备薄膜设备基础上添加带气体通道的挡板结构将原子层沉积单元与之集成，实现了电子束蒸发和原子层沉积相结合的薄膜制备系统，在电子束蒸发薄膜上覆盖一层原子层沉积Al2O3薄膜，由于Al2O沉积厚度进行监控，实现了在线直接监控，直观、高效、可靠。
一种高精度稳定性薄膜沉积系统方法

[发明专利]一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层的掺杂方法-CN201811166785.4有效
发明人：张冲;王雪戈 -专利权人：鸿翌科技有限公司
申请日： 2018-10-08 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H01L21/383 文献下载
摘要：本发明提供一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收层的的掺杂方法，在衬底沉积背电极；在所述衬底用于形成所述铜铟镓硒光吸收层的一侧，沿所述衬底卷绕的方向设置第一蒸发部和第二蒸发部，其中，所述第一蒸发部由铜蒸发源、铟蒸发源、镓蒸发源和硒蒸发源组成，所述第二蒸发部由氟化钾蒸发源组成，所述第二蒸发部与所述第一蒸发部间隔预设距离；对所述衬底进行放卷和收卷操作，以使得：所述衬底移动至所述第一蒸发部，控制所述第一蒸发部蒸发，在所述背电极沉积形成铜铟镓硒光吸收层；以及所述衬底移动至所述第二蒸发部，控制所述第二蒸发部蒸发，以在所述铜铟镓硒光吸收层上沉积氟化钾。
一种铜铟镓硒太阳能电池光吸收掺杂方法

[实用新型]一种点蒸发源以及蒸镀设备-CN201920081047.3有效
发明人：姚松;甘帅燕;王亚;宋建华 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2019-01-17 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： C23C14/26 文献下载
摘要：一种点蒸发源，其包括：坩埚本体，所述坩埚本体的内壁为旋转体的形式，所述旋转体的母线符合以下函数：y＝cos³θ,其中‑90°≤θ≤90°；所述旋转体的轴为经过所述函数曲线的顶点的竖直直线使得坩埚表面的蒸镀材料分子到达蒸发温度的时间点不同，进而改变蒸镀材料分子到达基板表面的时间，由此对基板上材料的沉积膜层的厚度进行补偿，减少对应于蒸发源中心位置的沉积厚度，增加对应于蒸发源边缘位置的沉积厚度；有利于沉积成膜的均匀性。
旋转体沉积点蒸发源蒸镀材料坩埚本体蒸发源边缘位置沉积膜层函数曲线基板表面竖直直线蒸镀设备坩埚表面对基板均匀性时间点成膜母线内壁蒸发

[实用新型]一种制备稀土掺杂光纤预制棒的气相掺杂装置-CN202020068154.5有效
发明人：林傲祥;倪力;俞娟 -专利权人：成都翱翔拓创光电科技合伙企业(有限合伙)
申请日： 2020-01-13 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： C03B37/018 文献下载
摘要：本实用新型公开了制备稀土掺杂光纤预制棒的气相掺杂装置，装置包括气化系统、气相传输系统和气相沉积系统，气化系统包括普通沉积原料供给单元、AlCl3蒸发单元和稀土螯合物蒸发单元，其中，AlCl3蒸发单元和稀土螯合物蒸发单元均包括第一加热炉和置于第一加热炉中的蒸发罐；气相传输系统包括高温传输管道、普通沉积原料输送管道以及AlCl3输送管道和稀土螯合物输送管道，普通沉积原料输送管道、AlCl3输送管道和稀土螯合物输送管道的出口段均伸入能够加热的高温传输管道中；气相沉积系统包括与气相传输系统的高温传输管道旋转密封连接的沉积单元和第二加热炉。
一种制备稀土掺杂光纤预制装置

[发明专利]用于可再充电电池的电极制造设备及锂沉积装置-CN201410069411.6有效
发明人：赵仔勋 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2014-02-27 - 公布日： 2019-11-15 - 主分类号： C23C14/14 文献下载
摘要：本发明提供了一种可再充电电池的电极制造设备和一种用于可再充电电池的电极制造设备的锂沉积装置，根据本发明的用于可再充电电池的电极制造设备包括：真空室，具有内部空间；以及锂沉积器，容纳锂源并具有蒸发单元和喷嘴单元，蒸发单元加热并蒸发锂源，喷嘴单元设置在蒸发单元上并控制开口率以控制锂的沉积量。
用于充电电池电极制造设备沉积装置

[发明专利]材料沉积布置结构、真空沉积系统及其方法-CN201780011244.1有效
发明人：乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波;哈拉尔德·沃斯特;乌韦·许斯勒 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2017-03-17 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：描述一种用于在真空沉积室中在基板上沉积材料的材料沉积布置结构(100)。材料沉积布置结构(100)包括至少一个材料沉积源(105)，材料沉积源(105)具有被配置为蒸发材料的坩埚(110)、被配置为用于将蒸发的材料提供至基板的分配组件(120)以及被配置为用于在坩埚(110
材料沉积布置结构真空系统及其方法