专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种IBC太阳能电池结构-CN202022108929.X有效
  • 赵保星;魏青竹;倪志春;张树德;符欣;连维飞 - 苏州腾晖光伏技术有限公司
  • 2020-09-23 - 2021-04-06 - H01L51/42
  • 本实用新型公开了一种IBC太阳能电池结构,包括依次层叠设置的减反射层、正面钝化膜层、p型扩散层、n型单晶硅基底层、背面钝化膜层、有机异质结层、背面导电保护层、背面电极;所述n型单晶硅基底层的背面形成图形化的有机异质结层,所述有机异质结层包括p型有机异质结层和n型有机异质结层,所述p型有机异质结层和n型有机异质结层中间有形成空间隔离区。本实用新型通过将有机物质和单晶硅接触面移至电池背面,保证形成均匀、高质量的有机杂化异质结膜层,而正表面采用了碱制绒金字塔绒面结构,可以大幅提升电池光学性能。
  • 一种ibc太阳能电池结构
  • [实用新型]一种异质结电池电极装置-CN202120794566.1有效
  • 李晓昱 - 李晓昱
  • 2021-04-16 - 2021-11-12 - H01L31/0224
  • 本实用新型涉及一种异质结电池电极装置,所述异质结电池电极装置包括:上下表面均设置TCO导电层的异质结电池元件、纵向电导线、横向电导线;上述多个异质结电池元件由纵向电导线直接连接,所述纵向电导线的布置方式为本实用新型的一种异质结电池电极装置,可以替代异质结电池表面的银栅线和焊带,同时增大了异质结电池发光面积;更容易收集电流,既增加了异质结电池的发电效率,又降低了原料成本。
  • 一种异质结电池电极装置
  • [发明专利]一种异质结背接触太阳能电池及其形成方法-CN202010523672.6在审
  • 陶科;姜帅;贾锐;金智;刘新宇 - 中国科学院微电子研究所
  • 2020-06-10 - 2020-10-20 - H01L31/0747
  • 本发明公开了一种异质结背接触太阳能电池及其形成方法,异质结背接触太阳能电池包括但不限于半导体衬底、第一钝化层及异质结。第一钝化层形成于半导体衬底的背表面上,异质结可形成于第一钝化层背面,异质结包括N型掺杂硅薄膜和P型掺杂硅薄膜,N型掺杂硅薄膜与P型掺杂硅薄膜沿垂直方向上形成叠层结构。该异质结背接触太阳能电池的形成方法包括:在半导体衬底的背表面上形成异质结,异质结包括依次形成的N型掺杂硅薄膜和P型掺杂硅薄膜,其中,N型掺杂硅薄膜与P型掺杂硅薄膜沿垂直方向上形成叠层。本发明能够在不降低电池效率的前提下有效降低异质结背接触太阳能电池的生产成本,而且本发明光能转换效率比较高。
  • 一种异质结背接触太阳能电池及其形成方法
  • [发明专利]二维材料异质结热电器件及其制备方法-CN202210158039.0在审
  • 易典;王荣福 - 深圳市汉嵙新材料技术有限公司
  • 2022-02-21 - 2022-05-24 - H01L35/34
  • 本发明公开了一种二维材料异质结热电器件的制备方法及二维材料异质结热电器件。该二维材料异质结热电器件的制备方法包括如下步骤:在基材上形成二维材料异质结,二维材料异质结由包括两种不同的二维层状材料的原料经层叠形成;在基材上形成遮蔽二维材料异质结的光刻胶,光刻胶为电子束敏感的光刻胶;采用电子束照射光刻胶的预设区域,形成暴露部分二维材料异质结的蚀刻开口;通过蚀刻开口对二维材料异质结进行刻蚀;过蚀刻开口制备金属电极;及去除光刻胶。上述制备方法能够实现在尺寸较小的二维材料异质结之间形成金属电极,该金属电极可以用作触点并进一步通过引线电连接于外部的测试电路。
  • 二维材料异质结热电器件及其制备方法
  • [发明专利]ZnO/GaN异质结纳米线光开关及其制备方法-CN201811065138.4有效
  • 刘志强;程成;伊晓燕;张勇;王军喜;李晋闽 - 中国科学院半导体研究所
  • 2018-09-12 - 2020-07-17 - H01L31/0296
  • 本公开提供一种ZnO/GaN异质结纳米线光开关及其制备方法,该ZnO/GaN异质结纳米线光开关包括:硅衬底、二氧化硅绝缘层以及ZnO/GaN异质结纳米线;二氧化硅绝缘层生长于硅衬底上;ZnO/GaN异质结纳米线设置于二氧化硅绝缘层上,沿其长度方向分为:ZnO纳米线和GaN纳米线,ZnO纳米线远离异质结界面的一端设置有源电极,异质结界面处设置有漏电极;GaN纳米线靠近异质结界面的一端与漏电极连接,另一端设置有栅电极。本公开提供的ZnO/GaN异质结纳米线光开关及其制备方法利用ZnO纳米线优良的光敏效应,采用GaN纳米线发出的紫外光激发ZnO纳米线,调节ZnO纳米线光电导,实现栅极对源漏电流大小的有效控制,达到制作异质结纳米线光开关的目的
  • znogan异质结纳米开关及其制备方法

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